GLOBALFOUNDRIES為下一代芯片設(shè)計而強(qiáng)化了14nm FinFET的設(shè)計架構(gòu)
2015-06-10
GLOBALFOUNDRIES,世界先進(jìn)半導(dǎo)體制造技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)者,,今天宣布了其為14 nm FinFET工藝技術(shù)而開發(fā)的強(qiáng)化過的設(shè)計架構(gòu),,在幫助那些采用先進(jìn)工藝技術(shù)設(shè)計的客戶的進(jìn)程上達(dá)到了一個關(guān)鍵里程碑,。
GLOBALFOUNDRIES與重要合作伙伴Cadence,Mentor Graphics,,以及Synopsys合作開發(fā)出的新型設(shè)計流程,,實(shí)現(xiàn)了從RTL到GDS的轉(zhuǎn)換,。該流程包括了基于工藝技術(shù)的PDK和早期試用標(biāo)準(zhǔn)單元庫,形成一個數(shù)字設(shè)計“入門套件”,,為設(shè)計人員進(jìn)行物理實(shí)現(xiàn),,并能針對性能、功耗和面積,, 提供了一個可用的內(nèi)置測試單元,。
GLOBALFOUNDRIES設(shè)計部高級副總裁Rick Mahoney表示:“GLOBALFOUNDRIES致力于為客戶提供先進(jìn)的技術(shù)平臺,其中包括高效率及完善的設(shè)計基礎(chǔ)架構(gòu),。為確保專為14nm FinFET工藝技術(shù)提供的設(shè)計生態(tài)系統(tǒng)的最高品質(zhì)體驗(yàn),,GLOBALFOUNDRIES與EDA合作伙伴展開合作,,強(qiáng)化了自身的設(shè)計能力,,并縮短了14nm FinFET復(fù)雜工藝技術(shù)從設(shè)計到量產(chǎn)的時間?!?br/> GLOBALFOUNDRIES優(yōu)化的數(shù)字設(shè)計流程解決了14nm FinFET技術(shù)節(jié)點(diǎn)對關(guān)鍵設(shè)計規(guī)則帶來的挑戰(zhàn),,包括新近引進(jìn)的對離子注入和雙曝光而敏感的布線規(guī)則、In-Design DRC?修正和良率補(bǔ)償,、局部/隨機(jī)帶來的時序變化,、三維FinFET參數(shù)提取,以及色彩感知的LVS/DRC等新功能,。
基于Synopsys的設(shè)計入門工具(Design Enablement Starter Kit)利用其Galaxy?設(shè)計平臺的強(qiáng)大功能,,提供了正對性能、功耗和面積全方位優(yōu)化的GLOBALFOUNDRIES 14LPP FinFET設(shè)計坊案,。Synopsys的Design Compiler?圖形合成,,配合其Formality ?平衡檢驗(yàn)方案,通過提供與物理實(shí)現(xiàn)密切相關(guān)的實(shí)際指導(dǎo)和結(jié)果,,簡化了這一流程,。Synopsys IC Compiler?,IC Compiler II和IC Validator解決方案通過In-Design色彩感知物理驗(yàn)證為FinFET器件的實(shí)現(xiàn)提供了離子注入和雙曝光感知的布線,。Synopsys的StarRC?提取工具通過對色彩感知和三維模型,,為14nm雙曝光提供了支持。此外,,業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)Synopsys PrimeTime?可以對FinFET器件帶來超低電壓,、更強(qiáng)的米勒效應(yīng)和電阻率,以及工藝波動帶來的變化,, 進(jìn)行精確的計算,, 包括延時計算,時序分析及波形傳播,。
為使客戶在設(shè)計時獲得GLOBALFOUNDRIES 14LPP帶來的優(yōu)越性,,GLOBALFOUNDRIES和Cadence一起創(chuàng)造出了從RTL到GDSII的FinFET完整數(shù)字流程,。該數(shù)字流程針對14LPP優(yōu)化了Cadence的前端、后端,、物理驗(yàn)證和DFM解決方案,。對于設(shè)計前端,Cadence的RTL編譯流程用14LPP單元庫進(jìn)行了微調(diào),。在物理實(shí)現(xiàn)方面,,Encounter?數(shù)字實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)(EDI)和Innovus?實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)為校正布局和布線提供了色彩感知雙曝光技術(shù)、并為14LPP設(shè)計規(guī)則和單元庫提供自定義設(shè)置,、借以優(yōu)化功率,、性能和面積(PPA)。同時應(yīng)用In-Design PVS DRC糾正和In-Design曝光熱點(diǎn)糾正方案可以幫助設(shè)計人員減少設(shè)計的反復(fù)次數(shù)并使得設(shè)計變得容易,。對于簽收,,新的流程功能集成了Quantus QRC 參數(shù)提取和Tempus時序簽收解決方案。EDI和Innovus的集成則允許Quantus和Tempus在布線過程中早期引入先進(jìn)的工藝模型,,以獲得更佳時序收斂并加快完成設(shè)計,。Encounter Conformal?等效檢查隱含在設(shè)計流程的多個階段。Voltus的功率和EMIR分析,、獨(dú)立物理驗(yàn)證,、以及曝光熱點(diǎn)檢測也都隱含在參考流程之中。該參考流程提供了Cadence工具套件和GLOBALFOUNDRIES 14LPP工藝的指導(dǎo)方法,,旨在確保設(shè)計人員用最少的學(xué)習(xí)時間最大限度地突出PPA的好處,。
如同應(yīng)用在前一代工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)的出帶,入門套件使用Mentor Graphics Calibre?工具集來簽收,。在14nm入門套件中,,Calibre nmDRC?和Calibre MultiPatterning產(chǎn)品用于層分解、DRC驗(yàn)證和金屬填充,,而Calibre nmLVS?產(chǎn)品用于邏輯驗(yàn)證,。
作為行業(yè)最先進(jìn)的技術(shù)之一,GLOBALFOUNDRIES 的14nm FinFET為高容量,、高性能和低功耗SoC設(shè)計提供了一個理想的解決方案,。14nm FinFET在高性能和低功耗特性上遠(yuǎn)超包括28nm在內(nèi)的前代工藝,為滿足不斷增長的市場需求提供了理想的技術(shù),。 不僅如此,,14nm FinFET還憑借其優(yōu)越的低功率、高性能和小面積的特點(diǎn)給客戶帶來了成本優(yōu)勢,。
GLOBALFOUNDRIES 14nm FINFET 技術(shù)已經(jīng)開始出產(chǎn)品,,并將如期在2015年支持來自客戶的多種產(chǎn)品的試產(chǎn)和產(chǎn)量。
通過GLOBALFOUNDRIES設(shè)計合作伙伴的生態(tài)系統(tǒng),,設(shè)計人員將獲得系統(tǒng)設(shè)計,、嵌入式軟件設(shè)計,、SOC設(shè)計與驗(yàn)證,以及物理實(shí)現(xiàn)等廣泛的服務(wù),。這包括設(shè)計自動化(EDA)和驗(yàn)證過的IP模塊的設(shè)計流程,、單元庫等、工藝設(shè)計工具包(PDK)和技術(shù)支持文件等仿真與驗(yàn)證設(shè)計工具,。
關(guān)于GLOBALFOUNDRIES
GLOBALFOUNDRIES是全球首家真正實(shí)現(xiàn)業(yè)務(wù)全球化且能提供全方位服務(wù)的半導(dǎo)體芯片代工廠,。公司成立于2009年三月,現(xiàn)已迅速發(fā)展為世界第二大芯片代工廠,,為160多家客戶提供先進(jìn)的技術(shù)與制造,。GLOBALFOUNDRIES在新加坡、德國和美國設(shè)有工廠,,是全球唯一一家生產(chǎn)基地橫跨三大洲,、兼具靈活性及安全性的芯片代工廠。公司擁有三個300mm和五個200mm芯片代工廠,,提供從主流到尖端的工藝技術(shù),。公司在美國,、歐洲和亞洲的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中心設(shè)立了研發(fā)機(jī)構(gòu),,為全球業(yè)務(wù)提供全力支持。GLOBALFOUN DRIES由Mubadala發(fā)展公司所有,。欲了解更多信息,,請訪問http://www.globalfoundries.com。