《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁(yè) > 嵌入式技術(shù) > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > Mentor Graphics 優(yōu)化工具和流程

Mentor Graphics 優(yōu)化工具和流程

助設(shè)計(jì)師成功應(yīng)對(duì) 三星代工廠10 納米 FinFET 工藝
2016-03-11
關(guān)鍵詞: 三星電子 SOC DFM AFS平臺(tái)

  俄勒岡州威爾遜維爾,,2016 年 3 月 11 日—Mentor Graphics公司(納斯達(dá)克代碼:MENT)今日宣布,,與三星電子合作,,為三星代工廠的10 納米 FinFET 工藝提供各種設(shè)計(jì),、驗(yàn)證,、測(cè)試工具及流程的優(yōu)化,。其中包括 Calibre? 物理驗(yàn)證套件、Mentor? Analog FastSPICE? (AFS?) 平臺(tái),、Olympus-SoC? 數(shù)字設(shè)計(jì)平臺(tái)和 Tessent?測(cè)試產(chǎn)品套件,。這些工具經(jīng)過(guò)優(yōu)化和認(rèn)證,使系統(tǒng)芯片 (SoC) 設(shè)計(jì)工程師快速適應(yīng)三星代工廠先進(jìn)的 10 納米工藝,,并且對(duì)第一次試產(chǎn)就能成功有極大信心,。

  設(shè)計(jì)風(fēng)格和制造工藝之間的相互作用在 10 納米會(huì)變得更為重要,因此可制造性設(shè)計(jì) (DFM) 工具在驗(yàn)證流程中發(fā)揮關(guān)鍵作用,。三星代工廠已對(duì) Calibre YieldEnhancer 產(chǎn)品,,特別是其 SmartFill 和 ECO/Timing-Aware Fill 功能進(jìn)行認(rèn)證,幫助設(shè)計(jì)工程師在多次更改設(shè)計(jì)的情況下,,仍能滿足制造工藝平坦化要求,趕上交付制造期限,。為了幫助設(shè)計(jì)工程師發(fā)現(xiàn)和解決潛在的微影相關(guān)問(wèn)題,,三星支持 Calibre LFD? 工具的使用,,該工具是基于 Mentor 的工藝process-window modeling、光罩合成,、光學(xué)鄰近效應(yīng)修正 (OPC) 和分辨率增強(qiáng) (RET) 的量產(chǎn)制造方案,。

  由于設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)可同時(shí)處理多個(gè) DFM 元素,,他們可使用建在 Calibre Yield Analyzer 工具上的三星 DFM 評(píng)分和分析解決方案以簡(jiǎn)化決策權(quán)衡流程。最后為把制造結(jié)果快速反饋到客戶(hù)設(shè)計(jì)流程中,,三星支持使用 Calibre Pattern Matching 作為識(shí)別造成低良率的圖形并予以修正的解決方案,。

  在物理驗(yàn)證方面,Calibre nmDRC? 平臺(tái)經(jīng)認(rèn)證可用于 10 納米工藝,,并成為三星研發(fā),、IP 驗(yàn)證和無(wú)晶圓廠客戶(hù)設(shè)計(jì)交付的生態(tài)系統(tǒng)中標(biāo)準(zhǔn)的驗(yàn)收簽核方案。此新聞稿的發(fā)布標(biāo)志了三星使用 Calibre Multi-Patterning 作為三重曝光和四重曝光的制造工藝在多年的合作后取得了成功,。

  三星代工廠已確認(rèn) Calibre xACT? 能夠在 10 納米中提供高精度和高性能的寄生參數(shù)提取,。Calibre xACT 工具使用集成的場(chǎng)求解器(field solver)來(lái)計(jì)算復(fù)雜三維 FinFET 結(jié)構(gòu)的寄生參數(shù)。它通過(guò)高度可擴(kuò)展的平行處理方法進(jìn)行性能優(yōu)化,。

  其他認(rèn)證則有助于 SoC 設(shè)計(jì)工程師進(jìn)行電路驗(yàn)證,、物理應(yīng)用和 IC 測(cè)試。例如,,AFS 平臺(tái)得到三星 10 納米工藝組件模型和設(shè)計(jì)套件的認(rèn)證,。共同的客戶(hù)使用 AFS,為模擬,、射頻,、混合信號(hào)、存儲(chǔ)器和全定制化數(shù)字電路的驗(yàn)證,,提供比傳統(tǒng) SPICE 仿真器更快的納米級(jí)的 SPICE 精確度,。

  Olympus-SoC 布局和布線平臺(tái)也已經(jīng)過(guò)認(rèn)證,可用于 10 納米工藝,,具有全面的著色設(shè)計(jì)方法,,包括底層規(guī)劃、布局,、寄生參數(shù)抽取,、布線和芯片完成要求。為了解決 FinFET 制造工藝中的特殊挑戰(zhàn),,該平臺(tái)支持 M1 三重曝光,、色移(color shifting)、非一致布線通道,、光罩和寬度依賴(lài)間距規(guī)則以及其他新增功能,。有多個(gè)共同客戶(hù)正在使用該工具進(jìn)行設(shè)計(jì)。

  在測(cè)試方面,,Mentor 和三星已展開(kāi)合作,,使 Tessent 測(cè)試產(chǎn)品套件可為新單元結(jié)構(gòu)提供 10 納米級(jí)更佳的測(cè)試質(zhì)量,同時(shí)為更大規(guī)模的 10 納米設(shè)計(jì)測(cè)試提供更高的測(cè)試圖形壓縮率進(jìn)而控制成本,。兩家公司還利用生產(chǎn)測(cè)試診斷來(lái)快速識(shí)別和消除設(shè)計(jì)試產(chǎn)擴(kuò)量階段出現(xiàn)的特定于設(shè)計(jì)和影響良率的單元特征,。

  “我們與三星代工廠的合作遠(yuǎn)非僅僅是將這一先進(jìn)的工藝帶給我們共同的客戶(hù),,”Mentor Graphics Design to Silicon部門(mén)副總裁兼總經(jīng)理Joe Sawicki說(shuō)道,“該整合解決方案貫穿于設(shè)計(jì)驗(yàn)證,、制造和測(cè)試中,,為無(wú)晶圓公司和三星代工廠之間建立起了高度整合的橋梁?!?/p>


本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn),。轉(zhuǎn)載的所有的文章,、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有,。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無(wú)法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者,。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問(wèn)題,,請(qǐng)及時(shí)通過(guò)電子郵件或電話通知我們,,以便迅速采取適當(dāng)措施,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失,。聯(lián)系電話:010-82306118,;郵箱:[email protected]