10月18日,，在上海舉辦的“2019中國（上海）集成電路創(chuàng)新峰會”上，與會專家透露,，上海市將牽頭制定“中國集成電路技術(shù)路線圖”（下稱“路線圖”）,，去年在上海揭牌的國家集成電路創(chuàng)新中心將主導(dǎo)路線圖制定。

根據(jù)復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院院長,、國家集成電路創(chuàng)新中心總經(jīng)理張衛(wèi)介紹,，路線圖包括六大部分，分別是集成電路制造技術(shù)現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢,、先進光刻工藝發(fā)展趨勢,、邏輯工藝技術(shù)、存儲器技術(shù),、超越摩爾特制化技術(shù),、第三代功率半導(dǎo)體技術(shù)。

張衛(wèi)表示,，路線圖借鑒了ITRS模式,，并將結(jié)合中國集成電路產(chǎn)業(yè)實際，嘗試預(yù)測中國集成電路技術(shù)發(fā)展的路徑選擇和規(guī)劃周期,，最終為產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供幫助,。

ITRS即美國半導(dǎo)體協(xié)會于1992年編寫的半導(dǎo)體技術(shù)路線圖，累計發(fā)布9個版本,，對國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展起到了重要的指導(dǎo)作用,。

張衛(wèi)強調(diào)，編制路線圖是一種嘗試,，通過路線圖試圖明確未來集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的目標(biāo),、方向、重點,、關(guān)鍵問題和時間節(jié)點等,。