3 月 13 日訊,，三星正在加速在韓國(guó)華城建造的 5nm 工廠,，預(yù)計(jì) 6 月份完成建設(shè),，最快年底可以生產(chǎn) 5nm 工藝,，其希望在 2030 年之前擊敗臺(tái)積電,，并成為半導(dǎo)體業(yè)務(wù)的領(lǐng)導(dǎo)者,。
不過工廠落成之后,，還需要較長(zhǎng)時(shí)間裝配,、調(diào)試，預(yù)計(jì)三星最快會(huì)在今年底開始生產(chǎn) 5nm 工藝,，再晚一點(diǎn)就是 2021 年初,。
據(jù)了解，三星在 2019 年 4 月份宣布完成 5nm 工藝開發(fā),，也會(huì)全面使用 EUV 光刻工藝,，并且 IP 核心可以兼容 7nm 工藝的,。
與 7nm EUV 工藝相比，三星的 5nm EUV 工藝性能提升 10%,，功耗降低了 20%,，邏輯面積效率提升 25%。
自 2017 年以來,，三星一直在半導(dǎo)體制造部門中排名第二,，但尚無法擊敗臺(tái)積電。由于臺(tái)積電和三星是唯一開發(fā) 5nm EUV 技術(shù)的廠商,，三星希望將在未來幾年內(nèi)收到更多 5nm 訂單,。
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