集成電路制造技術(shù)融合了半導(dǎo)體、材料,、光學(xué),、精密儀器、自動(dòng)控制等 40多個(gè)工程科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域的最新成就,，代表當(dāng)今世界微納制造的最高水平,，其技術(shù)水平和產(chǎn)業(yè)規(guī)模已成為衡量一個(gè)國家信息產(chǎn)業(yè)競爭力和綜合國力的重要標(biāo)志。集成電路產(chǎn)業(yè)處于電子信息產(chǎn)業(yè)鏈的上游,，是一個(gè)有巨大市場規(guī)模且持續(xù)增長的行業(yè),，以 2017 年為例，集成電路產(chǎn)業(yè)對(duì)全球 GDP 的直接貢獻(xiàn)高達(dá) 4086.91億美元,。近年來,，得益于物聯(lián)網(wǎng)、云計(jì)算,、大數(shù)據(jù),、人工智能等領(lǐng)域的快速發(fā)展，集成電路的應(yīng)用范圍正在不斷擴(kuò)大,。

　　與此同時(shí),，集成電路是電子信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)和核心，一直在推動(dòng)信息化和工業(yè)化深度融合中發(fā)揮著重要作用,。比如,，利用集成電路芯片對(duì)傳統(tǒng)機(jī)床進(jìn)行智能改造，形成了數(shù)控機(jī)床的新興產(chǎn)業(yè),。汽車電子化是提高汽車安全性,、舒適性和經(jīng)濟(jì)性等性能的重要措施，引發(fā)了汽車工業(yè)的新革命,。面向傳統(tǒng)行業(yè)定制的處理,、控制、存儲(chǔ)相關(guān)集成電路,，不僅將重構(gòu)傳統(tǒng)行業(yè)發(fā)展生態(tài),，而且將驅(qū)動(dòng)集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

　　Source：拍信網(wǎng)

　　國內(nèi)外研究現(xiàn)狀

　　自1958年集成電路問世以來,，以硅 CMOS 技術(shù)為基礎(chǔ)的集成電路一直遵循摩爾定律不斷向前發(fā)展,，即集成電路上可容納的晶體管數(shù)量每隔 18～24 個(gè)月增加一倍，性能提升一倍,，而價(jià)格保持不變,。在 CMOS 工藝中,，通常用特征尺寸來表征柵長，即溝道長度,，通過縮小特征尺寸來提高芯片工作速度,，增加集成度及降低成本。當(dāng)前特征尺寸已經(jīng)從 1971 年的 10?m 縮減到10nm 左右,，先進(jìn)集成電路容納的晶體管數(shù)量已經(jīng)超過 10 億個(gè),。

　　近年來，得益于制造技術(shù)的進(jìn)步,，相對(duì)于前一個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn),，新技術(shù)節(jié)點(diǎn)的電路性能提升30%，功耗下降50%,，面積縮減50%,，可靠性基本保持不變。但是隨著集成電路工藝進(jìn)入 7nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)（對(duì)應(yīng)溝道長度約 20nm）,，傳統(tǒng)邏輯和存儲(chǔ)器性能的繼續(xù)提升遇到技術(shù)瓶頸,，集成電路發(fā)展正處于重大技術(shù)革新時(shí)期。未來 5～10 年,，集成電路產(chǎn)業(yè)將沿著擴(kuò)展摩爾（more Moore）,、超越摩爾（more than Moore）和超越 CMOS（beyond CMOS）三個(gè)技術(shù)路線向前發(fā)展,。

　?。?）擴(kuò)展摩爾。通過器件結(jié)構(gòu),、溝道材料,、集成工藝等方面的創(chuàng)新，微縮特征尺寸,，繼續(xù)提升集成電路密度,，相關(guān)技術(shù)路線已經(jīng)規(guī)劃到近 1nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)，這正是本文討論的重點(diǎn),。

　?。?）超越摩爾。以價(jià)值優(yōu)先和功能多樣化為目標(biāo),，不強(qiáng)調(diào)特征尺寸的縮小,，而是通過功能擴(kuò)展及多功能集成，發(fā)展新功能器件與系統(tǒng)集成,，實(shí)現(xiàn)應(yīng)用層面的系統(tǒng)性能提高,。

　　（3）超越 CMOS,。通過新材料,、新結(jié)構(gòu),、新原理器件的研發(fā)推動(dòng)集成電路的發(fā)展，從物理工作機(jī)理與技術(shù)實(shí)現(xiàn)方式上突破傳統(tǒng)硅基 CMOS 場效應(yīng)晶體管技術(shù)限制,。

　　擴(kuò)展摩爾技術(shù)路線是實(shí)現(xiàn)更小,、更快、更廉價(jià)的邏輯與存儲(chǔ)器件的重要技術(shù)路徑,。表1 是電氣和電子工程師協(xié)會(huì)（IEEE）給出的國際器件與系統(tǒng)路線圖（international roadmapfor devices and systems,，IRDS）。

　　表1 IRDS2017 版公布的邏輯器件工藝技術(shù)路線圖短溝道效應(yīng)是 CMOS 工藝技術(shù)向更小尺寸和更高集成度方向發(fā)展面臨的主要問題,，當(dāng)溝道長度縮小到納米量級(jí)時(shí),，即使不施加?xùn)艠O電壓，也無法完全關(guān)斷 MOS 晶體管,，源與漏之間會(huì)存在漏電流,，使電路靜態(tài)功耗增大。為此,，需要通過新工藝,、新結(jié)構(gòu)與新器件的不斷創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)更先進(jìn)的技術(shù)節(jié)點(diǎn)。

　　總體上來說,，邏輯器件的發(fā)展呈三個(gè)重要趨勢：從結(jié)構(gòu)上看,，將由平面轉(zhuǎn)變?yōu)榱Ⅲw，三維晶體管技術(shù)（如 FinFET 等）成為主流器件技術(shù),；從材料上看,，溝道構(gòu)建材料將由硅轉(zhuǎn)變?yōu)榉枪瑁枪璩蔀橹髁?；從集成上看,，類似平?NAND 閃存向三維NAND 閃存演進(jìn)，未來的邏輯器件也會(huì)從二維集成技術(shù)走向三維堆棧工藝,。從功耗和性能兩個(gè)維度來看,，有兩條比較清晰的技術(shù)發(fā)展主線：采用新結(jié)構(gòu)增加?xùn)趴啬芰Γ詫?shí)現(xiàn)更低的漏電流,，降低器件功耗,；采用新材料增加溝道的遷移率，以實(shí)現(xiàn)更高的導(dǎo)通電流和性能,。

　　10nm 及以下邏輯工藝將引入 Ge/Ⅲ-Ⅴ族高遷移率溝道材料,、GeSi 源/漏應(yīng)變材料等，結(jié)構(gòu)上將采用納米場效應(yīng)晶體管和隧穿場效應(yīng)晶體管（TFET）等,。而存儲(chǔ)器件,，DRAM 尺寸縮小到 1x 技術(shù)節(jié)點(diǎn)遇到工藝復(fù)雜、良率下降、成本上升,、功耗增加等挑戰(zhàn),，DRAM 在容量增加的同時(shí)刷新功耗增加，其容量擴(kuò)展性遭遇巨大挑戰(zhàn),。

　　新興非易失存儲(chǔ)技術(shù),，特別是基于非電荷存儲(chǔ)機(jī)制的兩端器件，避免了電荷型 MOS 結(jié)構(gòu)尺寸縮小過程中器件可靠性的嚴(yán)重退化問題,，有望成為未來非易失存儲(chǔ)的主流技術(shù),。同時(shí)，三維集成是高密度存儲(chǔ)器發(fā)展的方向和核心技術(shù),。

　　近 20 年來,，美國英特爾公司一直是邏輯集成電路技術(shù)發(fā)展的領(lǐng)頭羊，分別于 90nm（2003 年）,、45nm（2007 年）和 22nm（2011 年）技術(shù)節(jié)點(diǎn)上率先研發(fā)出晶體管溝道應(yīng)變,、高 K 金屬柵和三維 FinFET 技術(shù)，不斷推動(dòng)著擴(kuò)展摩爾技術(shù)的進(jìn)步,。

　　但是,，隨著制造工藝復(fù)雜度和制造成本的不斷攀升，只有極少數(shù)集成電路廠商能夠承受 7nm 節(jié)點(diǎn)以下集成電路的研發(fā)費(fèi)用,。

　　目前,，全球只有英特爾公司、三星公司,、臺(tái)積電公司有能力研發(fā) 7nm 及以下集成電路技術(shù),。三星公司、臺(tái)積電公司于 2016 年年底領(lǐng)先研發(fā)成功 10nm集成電路技術(shù),，2018 年臺(tái)積電公司的 7nm 集成電路開始量產(chǎn),。中國中芯國際公司 14nm工藝制程芯片 2019 年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，并將于 2021 年正式出貨,。

　　目前來看，考慮到技術(shù)復(fù)雜度的不斷增加和應(yīng)用需求有所放緩,，技術(shù)節(jié)點(diǎn)升級(jí)的周期將可能放緩至30 個(gè)月以上,。

　　待解決的關(guān)鍵技術(shù)問題

　　1nm集成電路對(duì)應(yīng)的特征尺寸將達(dá)到7nm，硅集成電路技術(shù)在速度,、功耗,、集成度、可靠性等方面將受到一系列基本物理問題和工藝技術(shù)問題的限制,，面臨的關(guān)鍵技術(shù)挑戰(zhàn)包括：①晶體管結(jié)構(gòu)：如何重新定義底層設(shè)計(jì),；②溝道材料：如何獲取兼容 CMOS 工藝的高載流子遷移率材料；③極紫外投影光刻技術(shù)：如何提高分辨率和產(chǎn)率；④互連：如何開發(fā)新材料和新集成方法,，以降低RC 延遲時(shí)間,；⑤設(shè)計(jì)與工藝聯(lián)合優(yōu)化技術(shù)：如何尋找制造技術(shù)和設(shè)計(jì)電路圖形的關(guān)聯(lián)性。

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　　晶體管結(jié)構(gòu)

　　當(dāng)集成電路進(jìn)入 22nm 節(jié)點(diǎn),，傳統(tǒng)的平面場效應(yīng)晶體管由于柵極不能完全控制溝道,，從漏極到源極的亞閾值泄漏增大，無法進(jìn)行進(jìn)一步的縮微,，被三維結(jié)構(gòu)的 FinFET 取代,。

　　FinFET 結(jié)構(gòu)類似魚后鰭的叉狀 3D 架構(gòu)，由襯底上的硅體?。ù怪保┏崞M成,，通過在鰭片的三個(gè)面上施加?xùn)艠O，可以有效控制溝道漏電流,，降低溝道摻雜,，提高載流子遷移率。高 K 金屬柵新材料,、FinFET新器件結(jié)構(gòu)和溝道倒摻雜新工藝的引入,，可以降低工作電壓，減少器件與電路的功耗,，這對(duì)于低功耗要求較為嚴(yán)格的消費(fèi)類芯片尤為重要,。

　　但是當(dāng)集成電路進(jìn)入3nm 節(jié)點(diǎn)后，柵控與漏電問題將再次凸顯,，再加上閾值平坦化和翅片上的熱耗散等難題,，三柵 FinFET 不再適用，有可能被圍柵（gate-all-around,，GAA）納米線器件取代,。GAA 在結(jié)構(gòu)的四個(gè)面都施加一個(gè)柵極，從而保持溝道靜電完整性,，實(shí)現(xiàn)更好的漏電流控制和載流子一維彈道輸運(yùn),。

　　為了進(jìn)一步克服物理縮放比例和性能限制，需要發(fā)展三維集成技術(shù),，形成類似 3D-NAND 閃存的垂直GAA 結(jié)構(gòu),，或者通過逐層堆疊的方法形成堆疊納米線晶體管，從而提高單位面積的電路集成度,。盡管如此,，對(duì)于未來的 1nm 集成電路制造技術(shù)，如何重新從底層設(shè)計(jì)具有超陡亞閾值斜率,、超小亞閾值擺幅的低功耗器件結(jié)構(gòu),，增強(qiáng)柵極控制能力,，仍然是有待解決的難題。

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　　溝道材料

　　當(dāng)集成電路進(jìn)入 90nm 節(jié)點(diǎn)后,，集成電路產(chǎn)業(yè)界開始引入應(yīng)變硅材料,，并尋求更高載流子遷移率的新型溝道材料。在硅襯底上外延應(yīng)變 SiGe 或 Ge 溝道可以提高空穴遷移率來增大驅(qū)動(dòng)電流,。

　　主要問題是需要嚴(yán)格控制外延層厚度和外延層與基底層之間的界面粗糙度,。當(dāng)應(yīng)變層厚度超過臨界值時(shí)，應(yīng)力弛豫會(huì)導(dǎo)致載流子能帶分布與波谷散射增加,，從而造成遷移率退化,。由于需要在前道工序中引入 Ge，后續(xù)工藝需要防止 Ge 沾污和采用低工藝溫度,。

　?、?Ⅴ族化合物半導(dǎo)體，如銦鎵砷,、砷化鎵和砷化銦等具有很高的載流子遷移率,，與 FinFET 和GAA 器件的集成在7nm 節(jié)點(diǎn)集成電路表現(xiàn)出優(yōu)異的性能，其挑戰(zhàn)在于和硅材料之間存在大的晶格失配,，導(dǎo)致晶體管溝道的缺陷,，尤其是在硅材料上生長銦鎵砷材料更為嚴(yán)重。當(dāng)前利用選擇性外延技術(shù)集成Ⅲ-Ⅴ族化合物的研究正在進(jìn)行中,，其他技術(shù)如硅上鍵合技術(shù)也在探索之中,。

　　為了有效避免短溝道效應(yīng)，通常要求場效應(yīng)晶體管溝道厚度小于溝道長度的 1/3,，1nm 節(jié)點(diǎn)集成電路的溝道長度小于 10nm,，受量子效應(yīng)限制，傳統(tǒng)三維半導(dǎo)體材料很難將溝道厚度減小至 3nm以下,。

　　具有原子層厚度的二維半導(dǎo)體材料具有比硅更小的介電常數(shù),、更大的帶隙和載流子有效質(zhì)量。將這種新型材料應(yīng)用于短溝道晶體管正在成為一個(gè)前沿探索方向,。

　　1nm 物理柵長的 MoS 2 場效應(yīng)晶體管已經(jīng)被報(bào)道,，其結(jié)構(gòu)是以直徑1nm 的單臂碳納米管作為柵電極，并以 ZrO 2 包裹碳納米管形成背柵電容,，以 Ni作為源漏電極,，晶體管亞閾值擺幅 65Mv/dec，開關(guān)比 10 6 ,，漏致勢壘降低至290mV/V。但是載流子遷移率仍低于理論預(yù)期值,，目前使用的微機(jī)械剝離等方法無法應(yīng)用于集成電路生產(chǎn),。

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　　極紫外投影光刻技術(shù)

　　光刻是集成電路制造中技術(shù)難度最大、成本最高的技術(shù)環(huán)節(jié)，成本占集成電路制造成本的 35%以上,，在每一代集成電路技術(shù)更新中都扮演著技術(shù)先導(dǎo)的角色,。

　　透射式浸沒式 193nm 步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)的單次曝光分辨力理論極限為38nm，無法通過單次曝光形成22nm節(jié)點(diǎn)及以下集成電路關(guān)鍵圖層的目標(biāo)圖形,，需要采用多重光刻技術(shù),，即把原來一層光刻的圖形經(jīng)過拆分之后放到兩個(gè)或多個(gè)掩模上，采用多次光刻共同形成一層關(guān)鍵圖層,。通過四重圖形曝光手段,，集成電路特征尺寸可以達(dá)到 10nm。

　　通過八重圖形曝光手段,，集成電路特征尺寸可以達(dá)到5nm,。但是多重圖形曝光工藝復(fù)雜，如多塊掩模版,、多次曝光,、多次刻蝕、更為復(fù)雜的圖形布局拆分算法等,，導(dǎo)致制造成本急劇上升,。

　　為此，需要采用波長為 13.5nm 的反射式極紫外投影光刻技術(shù),，當(dāng)前阿斯麥（ASML）公司商用的TWINSCAN NXE：3400B 極紫外投影光刻機(jī)數(shù)值孔徑已經(jīng)達(dá)到 0.33,，5nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)邏輯集成電路制造中金屬互聯(lián)層和高密度孔陣列均可以通過單次極紫外投影曝光完成。

　　未來 5～10 年,，預(yù)計(jì)數(shù)值孔徑將提高到 0.6 以上,，光源功率、掩模缺陷和光刻膠靈敏度三大關(guān)鍵技術(shù)將取得突破,，結(jié)合離軸照明等分辨力增強(qiáng)技術(shù),，極紫外投影光刻單次曝光分辨力極限將逼近 7nm，進(jìn)一步采用多重圖形極紫外投影曝光技術(shù),，分辨力極限將達(dá)到 2nm 及以下,，滿足 1nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)集成電路光刻需求。

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　　互連技術(shù)

　　隨著互連線特征尺寸的不斷縮小,、布線層數(shù)和長度的不斷增大,，集成電路進(jìn)入 130nm 節(jié)點(diǎn)以后，RC 時(shí)間延遲逐漸成為阻礙時(shí)鐘頻率提高的主要因素,。通常采用銅互連和低介電常數(shù)材料兩種方法來降低 RC 延遲時(shí)間,。

　　相比于鋁及其合金互連，新一代的銅互連具有更低的電阻率,、更高的熔點(diǎn)和更好的抗電遷移能力,，可以降低 RC 時(shí)間延遲約 40%,，從而提高器件密度和時(shí)鐘頻率，并降低能耗,。銅互連通常采用“大馬士革”結(jié)構(gòu)的鑲嵌工藝,，且被銅種子層、襯墊和薄擴(kuò)散阻擋層所包圍,。傳統(tǒng)的物理氣相沉積和擴(kuò)散阻擋層的方法被原子層沉積方法所取代,。

　　但是，當(dāng)集成電路進(jìn)入 5nm 以后,，銅互連方案變得越發(fā)緊湊,，將面臨銅線電阻過大、銅易擴(kuò)散,、低介電常數(shù)材料易擊穿等技術(shù)挑戰(zhàn),，光刻工藝造成的線邊緣粗糙度、趨膚效應(yīng),、過孔錯(cuò)位等因素也會(huì)使銅互連可靠性變差,。延續(xù)傳統(tǒng)鑲嵌工藝的解決方案可能用鈷或釕取代銅進(jìn)一步降低互連電阻 。

　　其他集成制造工藝挑戰(zhàn)還包括均方根小于 2nm 的超低線邊緣粗糙度光刻工藝,、小于2nm 的擴(kuò)散阻擋層沉積,、無損傷化學(xué)機(jī)械拋光、無損傷化學(xué)清洗等,。

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　　設(shè)計(jì)與工藝聯(lián)合優(yōu)化技術(shù)

　　當(dāng)集成電路進(jìn)入22nm節(jié)點(diǎn)及以下,，工藝偏差和波動(dòng)性相比特征尺寸所占比例日益增大，導(dǎo)致缺陷密度急劇上升,，傳統(tǒng)的工藝和設(shè)計(jì)規(guī)則無法滿足產(chǎn)品性能需求,，設(shè)計(jì)和工藝聯(lián)合優(yōu)化技術(shù)（design technologyco-optimization，DTCO）成為必然的發(fā)展趨勢,。

　　其基本思想是集成電路設(shè)計(jì)工程師與光刻工程師共同深入尋找制造技術(shù)和設(shè)計(jì)電路圖形的關(guān)聯(lián)性,，既要滿足器件性能的要求，又能在芯片工廠內(nèi)實(shí)現(xiàn)制造且具有足夠工藝窗口的技術(shù)方案,，在集成電路生產(chǎn)之前就能有效評(píng)估可制造性,，對(duì)晶體管架構(gòu)設(shè)計(jì)、模塊級(jí)物理實(shí)現(xiàn),、材料和關(guān)鍵工藝技術(shù),，以及可靠性整個(gè)流程進(jìn)行協(xié)同優(yōu)化。

　　在設(shè)計(jì)層面,，需要在明確的物理設(shè)計(jì)思路基礎(chǔ)上,，對(duì)電路仿真進(jìn)行進(jìn)一步精確化設(shè)計(jì)，確定晶體管架構(gòu),，如繞柵極納米線和納米板器件結(jié)構(gòu),，仿真范圍從測試圖形擴(kuò)展到整個(gè)標(biāo)準(zhǔn)單元,。綜合考慮布線能力,、功耗,、時(shí)序和面積等因素，獲取精確的晶體管模型和庫架構(gòu),，建立版圖分析和模型驗(yàn)證方法,，優(yōu)化器件圖形設(shè)計(jì)規(guī)則，產(chǎn)生適于1nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)的友好版圖,，用于 1nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)光刻工藝和模型的輸入,。

　　在制造層面，將晶體管架構(gòu),、薄膜材料沉積,、極紫外光刻和等離子體刻蝕等技術(shù)協(xié)同優(yōu)化整合，實(shí)現(xiàn)復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)的高分辨率和高保真度,。其中難度最大的是極紫外光刻協(xié)同優(yōu)化,，其流程涉及光源-掩模協(xié)同優(yōu)化、光學(xué)鄰近效應(yīng)修正,、亞分辨率輔助圖形,、高精度計(jì)量、光刻膠類型,、光刻膠反應(yīng)機(jī)理和隨機(jī)性效應(yīng),、光刻后處理等，需要設(shè)計(jì),、工藝,、材料和設(shè)備等各個(gè)領(lǐng)域的工程師緊密合作，以獲取合理的分辨率,、工藝寬容度,、焦深、掩模誤差因子和線條邊緣粗糙度等參數(shù),，并縮小標(biāo)準(zhǔn)庫單元區(qū)域的面積,，降低器件結(jié)構(gòu)和電學(xué)性能的偏差，滿足功耗,、性能,、面積、成本（power,，performance,，area，cost,，PPAC）的目標(biāo)需求,。

　　優(yōu)先發(fā)展技術(shù)領(lǐng)域

　　當(dāng)前集成電路發(fā)展正處于重大技術(shù)革新時(shí)期,，1nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)的推進(jìn)面臨兩大基本挑戰(zhàn)：一是由于晶體管物理性質(zhì)限制，縮小特征尺寸越來越困難,；二是制造工藝創(chuàng)新步伐放緩,。這給我國的集成電路發(fā)展帶來了新的機(jī)遇和挑戰(zhàn)。建議優(yōu)先考慮以下技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展,。

　?。?）擴(kuò)展摩爾技術(shù)。垂直 GAA 結(jié)構(gòu),、堆疊納米線等晶體管架構(gòu),，實(shí)現(xiàn)晶體管柵極長度的進(jìn)一步微縮。異質(zhì)材料體系的器件集成,，突破多種物理失配限制,，提高載流子遷移率。極紫外投影光刻設(shè)備及工藝,，突破光源,、掩模及檢測方法、光刻膠,、多重曝光等技術(shù),，提高分辨率。高密度互連,，形成新的互聯(lián)材料和圖案成形技術(shù)方案,。設(shè)計(jì)與工藝聯(lián)合優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)精確的工藝波動(dòng)性控制,。

　?。?）超越摩爾技術(shù)。發(fā)展新功能器件與系統(tǒng)集成方法,，通過硅通孔（TSV）三維集成技術(shù)將處理器,、存儲(chǔ)器、傳感器,、微機(jī)電系統(tǒng),、能源、生物芯片等整合成一個(gè)整體,，實(shí)現(xiàn)新功能的應(yīng)用,。

　　（3）超越 CMOS 技術(shù),。新原理邏輯器件,，包括隧穿場效應(yīng)晶體管、負(fù)電容場效應(yīng)晶體管、納機(jī)電邏輯器件和自旋電子器件等,。新型存儲(chǔ)器件,，包括自旋轉(zhuǎn)移力矩磁存儲(chǔ)、相變存儲(chǔ)器,、阻變式存儲(chǔ)器及其大規(guī)模集成技術(shù),。憶阻器的神經(jīng)仿生功能的研發(fā)，發(fā)展適用于憶阻器的類腦神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)計(jì)算處理機(jī)制和體系架構(gòu),，開發(fā)類腦計(jì)算系統(tǒng)的計(jì)算模型及相關(guān)算法,，以此實(shí)現(xiàn)大規(guī)模類腦神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)計(jì)算系統(tǒng)。

　　我國的發(fā)展戰(zhàn)略與對(duì)策建議

　　制定技術(shù)發(fā)展戰(zhàn)略時(shí)建議考慮如下問題,。

　　（1）加強(qiáng)應(yīng)用基礎(chǔ)研究,，鼓勵(lì)原始創(chuàng)新,，突出顛覆性技術(shù)創(chuàng)新。增加在新材料,、新結(jié)構(gòu),、新原理器件關(guān)鍵技術(shù)和基礎(chǔ)問題上的研發(fā)投入，為我國發(fā)展具有自主可控的集成電路產(chǎn)業(yè)提供新途徑,。

　?。?）加強(qiáng)集成電路關(guān)鍵共性技術(shù)研發(fā)工作，聚焦圍柵納米線等新器件,、極紫外光刻等新工藝研發(fā),，打通 1nm 集成電路關(guān)鍵工藝，為高端芯片在國內(nèi)制造企業(yè)的生產(chǎn)提供重要支撐,。

　?。?）從國家層面對(duì)集成電路制造技術(shù)體系和產(chǎn)業(yè)生態(tài)建設(shè)進(jìn)行系統(tǒng)、科學(xué)地規(guī)劃和布局,，遵循“一代設(shè)備,，一代工藝，一代產(chǎn)品”的發(fā)展規(guī)律,，加大集成電路關(guān)鍵材料,、核心裝備、關(guān)鍵工藝和器件工程化的支持力度,。

　?。?）積極推進(jìn)微電子學(xué)科教育建設(shè)。針對(duì)集成電路制造技術(shù)多學(xué)科高度融合這一特點(diǎn),，加強(qiáng)具備綜合知識(shí)背景的集成電路人才培養(yǎng),，支撐我國新一代集成電路產(chǎn)業(yè)的重大跨越。

　　集成電路產(chǎn)業(yè)是支撐經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展和國家安全保障的戰(zhàn)略性,、基礎(chǔ)性和先導(dǎo)性產(chǎn)業(yè),。當(dāng)前集成電路發(fā)展正處于重大技術(shù)革新時(shí)期,，擴(kuò)展摩爾技術(shù)路線離1nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)量產(chǎn)還有4至5代的發(fā)展空間。一方面,，需要對(duì)新材料,、新器件結(jié)構(gòu)和新工藝技術(shù)進(jìn)行創(chuàng)新研究，突破集成電路持續(xù)微縮的技術(shù)瓶頸,；另一方面,，需要發(fā)展系統(tǒng)集成新方法和新原理器件。