Arm.已經成立了一個分拆公司Cerfe Labs Inc.(德克薩斯州奧斯?。蚤_發(fā)能夠擴展到高級制程節(jié)點的批量交換非易失性存儲器,。
大容量非易失性存儲器具有勝過電阻式RAM的潛力,,而電阻式RAM通常基于電極之間的絲狀導電路徑的形成和斷開,。根據(jù)Cerfe的說法,,盡管需要進一步的開發(fā)工作,但所謂的相關電子RAM(CeRAM)也具有與磁性RAM和SRAM競爭的潛力,。
該公司的創(chuàng)始人是ARM研究界的一些領導者,,盡管未透露確切的融資條件和金額,但ARM正在提供初始資金并持有該公司的少數(shù)股權,。
該公司開發(fā)了一項由ARM與CeRAM技術的發(fā)起者Symetrix Corp.(由科羅拉多大學的Carlos Paz de Araujo教授成立的一家研究公司)合作進行的五年研究計劃,。它基于過渡金屬氧化物(例如氧化鎳)中金屬到絕緣體的狀態(tài)轉變及其反轉。2018年,,DARPA選擇了半導體設備制造商Applied Materials Inc.加入CeRAM的研究,。
ARM首席執(zhí)行官Simon Segars在一份聲明中說:“在過去五年中,ARM研究團隊在推進CeRAM技術方面取得了長足進步,?!?Segars補充說:“隨著ARM加強對核心半導體IP業(yè)務的關注,我們將Cerfe Labs團隊置于更加敏捷的位置,,以使其能夠成功地將這種顛覆性技術推向市場,。”
Cerfe的創(chuàng)始人包括ARM前研究副總裁Eric Hennenhoefer,,CTO Greg Yeric,,前ARM研究副總裁Lucian Shifren(負責啟動和運行將Symetrix和ARM整合在一起的材料和設備研究小組)。第四位聯(lián)合創(chuàng)始人是金·阿薩爾(Kim Asal),,他之前也曾在ARM研究部擔任運營副總裁,。
Yeric在電子郵件中表示:“我們正在將我們的公司重點放在具有原型的材料和設備研發(fā)上。我們最終不會看到自己交付存儲產品。我們希望通過戰(zhàn)略合作伙伴來實現(xiàn),?!?他補充說:“我們認為我們還有12到18個月的時間才能達到其余的關鍵證明點,這將清楚地表明該技術已準備好跨越‘lab-to-fab’鴻溝,?!?/p>
Yeric說,最終一家以商業(yè)為重點的公司將需要根據(jù)特定需求調整CeRAM參數(shù),,這可能與性能,、成本或操作溫度有關。Yeric說:“我們認為,,該過程可應用于廣泛的制程節(jié)點,,包括現(xiàn)有的IoT節(jié)點和未來的CMOS節(jié)點?!?/p>
Yeric說,,Cerfe已經在與潛在的戰(zhàn)略合作伙伴進行初期討論?!白鳛椴牧虾凸に囍R產權公司,,我們的計劃不包括為建造晶圓廠注入巨額資金。我們希望與以生產芯片為生的人建立合作伙伴關系是技術和公司發(fā)展的最佳途徑,。”
除了與Symetrix合作開發(fā)CeRAM之外,,Cerfe Labs還獲得了由Symetrix開發(fā)的鐵電RAM技術的許可,,Cerfe名稱是相關電子RAM和鐵電體的收縮。
CeRAM技術的主要主張是,,它基于與氧化鎳和其他過渡金屬氧化物的碳摻雜相關的體開關技術,,與許多電阻式RAM技術相比,這帶來了許多潛在的優(yōu)勢,。在過去的幾十年中一直處于發(fā)展中,。
CeRAM被認為是基于Mott過渡(金屬到絕緣體和絕緣體到金屬)的工作,這可以通過施加電壓和臨界電流密度來觸發(fā),。莫特狀態(tài)躍遷是眾所周知的并有記錄,,這是由于電場屏蔽和電子定位所致。Cerfe有時將其技術稱為電子軌道切換,。Mott過渡以諾貝爾物理學獎獲得者內維爾·莫特爵士(Sir Nevill Mott)的名字命名,。
這意味著,與其他過渡金屬氧化物電阻RAM不同,,CeRAM器件不需要形成過程即可創(chuàng)建導電路徑,。與大多數(shù)現(xiàn)有ReRAM背后的絲狀開關相比,這種現(xiàn)象具有改善性能和提高可靠性的前景。
一個關鍵的優(yōu)勢是,,跨越材料主體的絕緣體-金屬過渡應允許切換至亞納米尺寸范圍,。與絲狀開關不同,它不依賴于會引起磨損和可靠性問題的材料運動,,并且Mott過渡固有地快速,。
Yeric表示,研究小組已實現(xiàn)2ns以下的轉換,,并有信心將其降至1ns以下,。他說:“鑒于大多數(shù)其他強相關電子(SCE)材料的開關速度小于100fs,這將主要由CMOS存取電路設計決定,?!?/p>
最終,非易失性存儲器的高速開關可以允許替換邏輯電路中的SRAM,,這反過來又可能會對處理器體系結構產生影響,。對于內存中計算神經形態(tài)計算體系結構,它也可能具有強大的功能,。
Cerfe Labs擁有一支經驗豐富的團隊,,并已獲得包括150多項美國專利的全面IP產品組合。到目前為止,,盡管目前正在研究幾種過渡金屬材料和摻雜劑系統(tǒng),,但研究的結果已經縮小到直徑為47nm的點。Yeric拒絕透露材料系統(tǒng)的細節(jié)時說:“我們已經證明了四種以上的CeRAM材料,,從長遠來看,,其中一種比氧化鎳更具吸引力?!?但是,,隨著幾何形狀的減小,很難完全確定整體開關效果,。埃里克說:“直到我們有了像X射線確認之類的確定性東西,,我們才會不斷接觸大象的不同部位,并且每次確認大象時都會接觸它,?!?/p>
ARM先前已經投資了Symetrix所提供的300mm晶圓處理設備,以幫助進行研究,,但最終要證明該技術到最先進的節(jié)點將需要合作伙伴,。IMEC研究所(比利時魯汶)一直在為研究團隊進行晶圓加工。
2014年,,當Araujo教授已經從事該技術研究約五年時,,聲稱使用氧化鎳可以在高達400攝氏度的溫度下保持穩(wěn)定狀態(tài),,并且可以在0.2V的電壓下讀取該狀態(tài)。據(jù)報道,,盡管設備的幾何形狀較大,,但其讀取耐久性卻達到10 ^ 12個周期。
Symetrix歡迎Cerfe Labs的成立,,并表示CeRAM在2K至400攝氏度以下的溫度下運行,,并且是第一個在如此寬的溫度范圍內運行而不會退化的存儲器。編程電壓為0.6V和1.2V,。Symetrix重申了10 ^ 12個周期的循環(huán)耐久性,,并說該技術正在與IMEC一起開發(fā),其目標是與低于14nm CMOS的工藝集成兼容,。
Araujo教授說:“ CeRAM將基于相關電子現(xiàn)象和可逆相變的實際應用開創(chuàng)量子設備時代,。”
Yeric說,,CeRAM技術可能會首先解決嵌入式閃存,,但成本和功耗要低得多。然后,,它可以朝著嵌入式MRAM / SRAM密度發(fā)展,。“對于‘新興’技術來說,,找到未使用的壁often通常是最容易的,,我希望對于CeRAM而言,這可能意味著從極端高溫或極端低成本的實施例開始,。但是具有SRAM替代目標的制造廠可能希望短路這個過程,,”他說。
Yeric表示,,Cerfe Labs希望在接下來的12到18個月內證明幾何尺寸越來越小的設備可以用作批量開關,然后與商業(yè)制造商一起驗證該設備在fab尺寸與fab兼容的集成中的可靠性和可重復性,。耶里克總結說:“此外,,我們計劃突出該技術的獨特功能,我們希望該技術的獨特之處在于其在所有其他NVM技術之上甚至在硅CMOS本身之外的高溫運行,?!?/p>