《電子技術(shù)應(yīng)用》
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Arm進(jìn)行“分拆”以尋求存儲技術(shù)突破

2020-10-08
來源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察
關(guān)鍵詞: ARM CerfeLabsInc

  Arm.已經(jīng)成立了一個分拆公司Cerfe Labs Inc.(德克薩斯州奧斯?。?,以開發(fā)能夠擴(kuò)展到高級制程節(jié)點(diǎn)的批量交換非易失性存儲器。

  大容量非易失性存儲器具有勝過電阻式RAM的潛力,,而電阻式RAM通?;陔姌O之間的絲狀導(dǎo)電路徑的形成和斷開,。根據(jù)Cerfe的說法,盡管需要進(jìn)一步的開發(fā)工作,,但所謂的相關(guān)電子RAM(CeRAM)也具有與磁性RAM和SRAM競爭的潛力,。

  該公司的創(chuàng)始人是ARM研究界的一些領(lǐng)導(dǎo)者,盡管未透露確切的融資條件和金額,,但ARM正在提供初始資金并持有該公司的少數(shù)股權(quán),。

  該公司開發(fā)了一項由ARM與CeRAM技術(shù)的發(fā)起者Symetrix Corp.(由科羅拉多大學(xué)的Carlos Paz de Araujo教授成立的一家研究公司)合作進(jìn)行的五年研究計劃。它基于過渡金屬氧化物(例如氧化鎳)中金屬到絕緣體的狀態(tài)轉(zhuǎn)變及其反轉(zhuǎn),。2018年,,DARPA選擇了半導(dǎo)體設(shè)備制造商Applied Materials Inc.加入CeRAM的研究,。

  ARM首席執(zhí)行官Simon Segars在一份聲明中說:“在過去五年中,ARM研究團(tuán)隊在推進(jìn)CeRAM技術(shù)方面取得了長足進(jìn)步,?!?Segars補(bǔ)充說:“隨著ARM加強(qiáng)對核心半導(dǎo)體IP業(yè)務(wù)的關(guān)注,我們將Cerfe Labs團(tuán)隊置于更加敏捷的位置,,以使其能夠成功地將這種顛覆性技術(shù)推向市場,。”

  Cerfe的創(chuàng)始人包括ARM前研究副總裁Eric Hennenhoefer,,CTO Greg Yeric,,前ARM研究副總裁Lucian Shifren(負(fù)責(zé)啟動和運(yùn)行將Symetrix和ARM整合在一起的材料和設(shè)備研究小組)。第四位聯(lián)合創(chuàng)始人是金·阿薩爾(Kim Asal),,他之前也曾在ARM研究部擔(dān)任運(yùn)營副總裁,。

  Yeric在電子郵件中表示:“我們正在將我們的公司重點(diǎn)放在具有原型的材料和設(shè)備研發(fā)上。我們最終不會看到自己交付存儲產(chǎn)品,。我們希望通過戰(zhàn)略合作伙伴來實現(xiàn),。” 他補(bǔ)充說:“我們認(rèn)為我們還有12到18個月的時間才能達(dá)到其余的關(guān)鍵證明點(diǎn),,這將清楚地表明該技術(shù)已準(zhǔn)備好跨越‘lab-to-fab’鴻溝,。”

  Yeric說,,最終一家以商業(yè)為重點(diǎn)的公司將需要根據(jù)特定需求調(diào)整CeRAM參數(shù),,這可能與性能、成本或操作溫度有關(guān),。Yeric說:“我們認(rèn)為,,該過程可應(yīng)用于廣泛的制程節(jié)點(diǎn),包括現(xiàn)有的IoT節(jié)點(diǎn)和未來的CMOS節(jié)點(diǎn),?!?/p>

  Yeric說,Cerfe已經(jīng)在與潛在的戰(zhàn)略合作伙伴進(jìn)行初期討論,?!白鳛椴牧虾凸に囍R產(chǎn)權(quán)公司,我們的計劃不包括為建造晶圓廠注入巨額資金,。我們希望與以生產(chǎn)芯片為生的人建立合作伙伴關(guān)系是技術(shù)和公司發(fā)展的最佳途徑,。”

  除了與Symetrix合作開發(fā)CeRAM之外,,Cerfe Labs還獲得了由Symetrix開發(fā)的鐵電RAM技術(shù)的許可,,Cerfe名稱是相關(guān)電子RAM和鐵電體的收縮。

  CeRAM技術(shù)的主要主張是,它基于與氧化鎳和其他過渡金屬氧化物的碳摻雜相關(guān)的體開關(guān)技術(shù),,與許多電阻式RAM技術(shù)相比,這帶來了許多潛在的優(yōu)勢,。在過去的幾十年中一直處于發(fā)展中,。

  CeRAM被認(rèn)為是基于Mott過渡(金屬到絕緣體和絕緣體到金屬)的工作,這可以通過施加電壓和臨界電流密度來觸發(fā),。莫特狀態(tài)躍遷是眾所周知的并有記錄,,這是由于電場屏蔽和電子定位所致。Cerfe有時將其技術(shù)稱為電子軌道切換,。Mott過渡以諾貝爾物理學(xué)獎獲得者內(nèi)維爾·莫特爵士(Sir Nevill Mott)的名字命名,。

  這意味著,與其他過渡金屬氧化物電阻RAM不同,,CeRAM器件不需要形成過程即可創(chuàng)建導(dǎo)電路徑,。與大多數(shù)現(xiàn)有ReRAM背后的絲狀開關(guān)相比,這種現(xiàn)象具有改善性能和提高可靠性的前景,。

  一個關(guān)鍵的優(yōu)勢是,,跨越材料主體的絕緣體-金屬過渡應(yīng)允許切換至亞納米尺寸范圍。與絲狀開關(guān)不同,,它不依賴于會引起磨損和可靠性問題的材料運(yùn)動,,并且Mott過渡固有地快速。

  Yeric表示,,研究小組已實現(xiàn)2ns以下的轉(zhuǎn)換,,并有信心將其降至1ns以下。他說:“鑒于大多數(shù)其他強(qiáng)相關(guān)電子(SCE)材料的開關(guān)速度小于100fs,,這將主要由CMOS存取電路設(shè)計決定,。”

  最終,,非易失性存儲器的高速開關(guān)可以允許替換邏輯電路中的SRAM,,這反過來又可能會對處理器體系結(jié)構(gòu)產(chǎn)生影響。對于內(nèi)存中計算神經(jīng)形態(tài)計算體系結(jié)構(gòu),,它也可能具有強(qiáng)大的功能,。

  Cerfe Labs擁有一支經(jīng)驗豐富的團(tuán)隊,并已獲得包括150多項美國專利的全面IP產(chǎn)品組合,。到目前為止,,盡管目前正在研究幾種過渡金屬材料和摻雜劑系統(tǒng),但研究的結(jié)果已經(jīng)縮小到直徑為47nm的點(diǎn),。Yeric拒絕透露材料系統(tǒng)的細(xì)節(jié)時說:“我們已經(jīng)證明了四種以上的CeRAM材料,,從長遠(yuǎn)來看,其中一種比氧化鎳更具吸引力?!?但是,,隨著幾何形狀的減小,很難完全確定整體開關(guān)效果,。埃里克說:“直到我們有了像X射線確認(rèn)之類的確定性東西,,我們才會不斷接觸大象的不同部位,并且每次確認(rèn)大象時都會接觸它,?!?/p>

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  ARM先前已經(jīng)投資了Symetrix所提供的300mm晶圓處理設(shè)備,以幫助進(jìn)行研究,,但最終要證明該技術(shù)到最先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)將需要合作伙伴,。IMEC研究所(比利時魯汶)一直在為研究團(tuán)隊進(jìn)行晶圓加工。

  2014年,,當(dāng)Araujo教授已經(jīng)從事該技術(shù)研究約五年時,,聲稱使用氧化鎳可以在高達(dá)400攝氏度的溫度下保持穩(wěn)定狀態(tài),并且可以在0.2V的電壓下讀取該狀態(tài),。據(jù)報道,,盡管設(shè)備的幾何形狀較大,但其讀取耐久性卻達(dá)到10 ^ 12個周期,。

  Symetrix歡迎Cerfe Labs的成立,,并表示CeRAM在2K至400攝氏度以下的溫度下運(yùn)行,并且是第一個在如此寬的溫度范圍內(nèi)運(yùn)行而不會退化的存儲器,。編程電壓為0.6V和1.2V,。Symetrix重申了10 ^ 12個周期的循環(huán)耐久性,并說該技術(shù)正在與IMEC一起開發(fā),,其目標(biāo)是與低于14nm CMOS的工藝集成兼容,。

  Araujo教授說:“ CeRAM將基于相關(guān)電子現(xiàn)象和可逆相變的實際應(yīng)用開創(chuàng)量子設(shè)備時代?!?/p>

  Yeric說,,CeRAM技術(shù)可能會首先解決嵌入式閃存,但成本和功耗要低得多,。然后,,它可以朝著嵌入式MRAM / SRAM密度發(fā)展?!皩τ凇屡d’技術(shù)來說,,找到未使用的壁often通常是最容易的,我希望對于CeRAM而言,,這可能意味著從極端高溫或極端低成本的實施例開始,。但是具有SRAM替代目標(biāo)的制造廠可能希望短路這個過程,,”他說。

  Yeric表示,,Cerfe Labs希望在接下來的12到18個月內(nèi)證明幾何尺寸越來越小的設(shè)備可以用作批量開關(guān),,然后與商業(yè)制造商一起驗證該設(shè)備在fab尺寸與fab兼容的集成中的可靠性和可重復(fù)性。耶里克總結(jié)說:“此外,,我們計劃突出該技術(shù)的獨(dú)特功能,,我們希望該技術(shù)的獨(dú)特之處在于其在所有其他NVM技術(shù)之上甚至在硅CMOS本身之外的高溫運(yùn)行?!?/p>

  


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