《電子技術(shù)應(yīng)用》
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這兩種新型存儲技術(shù)即將興起

2020-10-09
來源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察
關(guān)鍵詞: ARM CeRAM 存儲器

   而據(jù)我們所知,,在過去的五年中,,Arm Research團(tuán)隊一直在努力開發(fā)基于相關(guān)電子材料(CeRAM)的新型非易失性存儲器,。為了集中精力在半導(dǎo)體市場上,,它將把其所有相關(guān)IP轉(zhuǎn)移給Arm分拆公司Cerfe Labs,,而Arm也獲得了該公司的部分股權(quán),。

  作為交易的一部分,,Arm將把其超過150個專利家族的完整CeRAM IP產(chǎn)品組合轉(zhuǎn)讓給Cerfe Labs,,這將成為相關(guān)CeRAM技術(shù)路線圖的基礎(chǔ),。Cerfe Labs將依次致力于開發(fā)和許可基于CeRAM和鐵電晶體管(FeFET)的新型非易失性存儲器。

  什么是CeRAM

  在過去的十年中,,業(yè)界一直在尋求開發(fā)電阻式RAM(RRAM),,因為其功耗低且訪問延遲小。在這一發(fā)展過程中,,研究人員轉(zhuǎn)向使用諸如NiO之類的過渡金屬氧化物(Transition metal oxide :TMO),,其中的“filaments”在較高的“electroforming”電壓和電流下生長。

  存儲方案涉及電極之間這些filament的連接和斷開,。

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  另一方面,,CeRAM是一種使用TMO且沒有filament和electroforming的電阻式存儲器。該技術(shù)利用了TMO具有不完整的3D或4D原子殼(atomic shells)的事實,,這些殼經(jīng)歷了量子相變,,涉及由電場或電壓引起的化合價變化。

  在實際生長中,,我們可以看到,,通過采用適當(dāng)?shù)膿诫s技術(shù)清除NiO,可以獲得導(dǎo)電的NiO,,該導(dǎo)電的NiO可以在其電絕緣狀態(tài)和導(dǎo)電狀態(tài)之間進(jìn)行非??焖伲赡娴姆且资泽w轉(zhuǎn)變,。過去,,這些轉(zhuǎn)換僅在高壓和高溫下才有可能,但現(xiàn)在可以在室溫下以低開關(guān)電壓和低電流實現(xiàn),。操作的關(guān)鍵是可逆的金屬到絕緣體的過渡(MIT),,其根源于Nevill Mott爵士和John Hubbard的工作。

  CeRAM操作的一個獨特功能是其單點氧化和還原(意味著電子的損失和增益),。對于CeRAM的活性材料,,氧化和還原是通過量子隧穿效應(yīng)在相同的鎳離子位點發(fā)生的。從那時起,,對正在發(fā)生的事情的解釋變得極為復(fù)雜,,并且依賴于那些用于處理單晶電子產(chǎn)品的效果所不熟悉的效果。

  對于NiO,,需要0.6 V的電壓來寫入絕緣狀態(tài),,而需要1.2 V的電壓來寫入導(dǎo)電狀態(tài),。對于RRAM來說,這是一種很有前途的技術(shù),,因為它提供高達(dá)10飛秒的讀取速度和0.1 V至0.2V的讀取電壓,使其成為一種非??焖偾业凸牡募夹g(shù),。

  什么是FeFET

  FeFET是一種場效應(yīng)晶體管,可以用作非易失性存儲器的一種形式,。

  該晶體管本身的布局與標(biāo)準(zhǔn)MOSFET非常相似:它是具有柵極,,漏極和源極的三端MOS器件。不同之處在于,,F(xiàn)eFET包括位于器件的柵極和源極-漏極導(dǎo)電區(qū)之間的鐵電材料,。

  通過向器件的柵極施加電場,它會在鐵電材料中產(chǎn)生永久性的電場極化,。這樣的結(jié)果是即使斷電,,設(shè)備也可以保持狀態(tài)并保持狀態(tài)。

  它為非易失性存儲器提供了一個有希望的選擇,,因為它與MOSFET的相似性使其易于理解并與許多現(xiàn)有CMOS技術(shù)兼容,。



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