在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm之后，EUV光刻機就成為兵家必備大殺器了,，全球也只有ASML公司能生產(chǎn),，單價達(dá)到10億人民幣一臺,。不過在EUV技術(shù)上，ASML還真不一定就是第一,，專利比三星還少,。

　　韓國媒體報道，近年來韓國企業(yè)及科研機構(gòu)在EUV光刻工藝大舉投入,，專利技術(shù)上正在跟國外公司縮短差距,。

　　據(jù)報道,，在2011到2020年的專利申請中，向韓國知識產(chǎn)權(quán)局（KIPO）提交的與EUV光刻相關(guān)的專利申請數(shù)量達(dá)到88件的峰值,，2018年達(dá)到55件,，2019年達(dá)到50件。

　　其中2019年中韓國本土公司提出的EUV專利申請為40件,，超過了國外10件,，這也是韓國提交的EUV專利首次超過國外公司。

　　在2020年中,，韓國公司提交的EUV專利申請達(dá)到了國外的2倍多,，其中三星公司是最多的，該公司今年已經(jīng)開始使用5nm EUV工藝生產(chǎn)手機處理器,。

　　從全球來看,，TOP6的廠商申請的EUV專利占了全部的59%，其中卡爾蔡司占比18%（畢竟光學(xué)物鏡是EUV核心）,，位列第一,，三星緊隨其后，專利申請占比18%,，ASML公司占比11%,，位列第三。

　　再往下,，韓國S&S Tech占了85,，臺積電占了6%，SK海力士占了1%,。

　　從具體技術(shù)項目看,，工藝技術(shù)申請專利占32%，曝光裝置技術(shù)申請專利占31%,，掩膜技術(shù)申請專利占28%,，其他申請專利占9%。

　　在工藝技術(shù)領(lǐng)域,，三星電子占39%,，臺積電占15%。

　　在光罩領(lǐng)域,，韓國S&S科技占28%，日本Hoya占15%,，韓國漢陽大學(xué)占10%,，日本朝日玻璃占10%，三星電子占9%,。