12月24日,，日本大型半導體制造設備廠商東京電子宣布,，將于2021年1月發(fā)售清洗機“CELLESTA SCD”,，該產品帶干燥功能，可提高最尖端半導體的成品率,。通過增加使用“超臨界流體”(基本沒有表面張力)的干燥工序，防止半導體上的微細結構被破壞,。這款清洗機將用于“微細化”和“多層化”的最尖端半導體制造,，“微細化”是縮小電路線寬，“多層化”是在高度方向上層疊電路,。
據《日本經濟新聞》網站12月18日報道,，新產品在東京電子的枚葉式清洗機CELLESTA系列中配備了超臨界干燥專用反應室,，將用于制造結構不斷微細化、復雜化的邏輯半導體及個人電腦等使用的半導體存儲器DRAM,。
報道稱,，通過使用超臨界流體，可以降低干燥時微細圖案結構被液體表面張力破壞的風險,。新產品在干燥工序中以超臨界流體代替酒精作為清洗液,。
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