過去幾十年,芯片沿著摩爾定律不斷微縮,,芯片的尺寸越來越小,,性能越來越高。正因如此,,以前如龐然大物的電腦才能變成我們掌上的輕薄本,,還有手機(jī)、電視,、智能手表等等,,這些給我們的生活帶來了無限的便利。但現(xiàn)在,,我們遇到了阻礙,,晶體管小型化速度正在放緩,摩爾定律逼近極限,。芯片制造商無法通過傳統(tǒng)的方法用更經(jīng)濟(jì)的成本來制造更微小的電路,。
于是各種后摩爾時代的技術(shù)開始被探索,MOSFET晶體管從二維進(jìn)入3D FinFET,,進(jìn)入GAA,;3D封裝、SiP封裝等先進(jìn)封裝技術(shù)也成為企業(yè)加速布局的技術(shù),,Chiplet被派上用場,,國際大廠紛紛加入這個行列;諸如碳納米管等新型半導(dǎo)體材料也在加速攻堅,;存算一體新器件開始逐步替代傳統(tǒng)的MOS器件,;甚至要超越晶體管進(jìn)入量子計算;等等,。整個半導(dǎo)體業(yè)界無不為芯片的下一步發(fā)展找尋新思路?,F(xiàn)在有一種全新的、更劃算的技術(shù)或許能為芯片制造的微縮打開另一扇大門,,那就是定向自組裝技術(shù)(DSA),,它可以算是光刻技術(shù)的一種互補技術(shù)。
在2021年SPIE先進(jìn)光刻大會上,,全球領(lǐng)先的納米電子和數(shù)字技術(shù)研究和創(chuàng)新中心imec首次展示了定向自組裝(DSA)到間距小至18nm的模式線/空間的能力,,一種優(yōu)化的干蝕刻化學(xué)方法成功地將圖案轉(zhuǎn)移到底層的厚SiN層中,這將使進(jìn)一步的缺陷檢測成為可能,。這些結(jié)果證實了定向自組裝技術(shù)(DSA)有潛力補充用于亞 2nm技術(shù)節(jié)點工業(yè)制造的傳統(tǒng)自上而下圖案化,。
了解定向自組裝(DSA)
在講定向自組裝技術(shù)(DSA)之前,首先讓我們重溫下當(dāng)前的芯片制造方法,。
現(xiàn)在芯片通常通過光刻法制造,。簡言之,電路的每一個微小特征都被投射在硅片上,在此過程中,,會在硅片上涂覆被稱為光致抗蝕劑的光敏材料,。之后,硅晶片將被置于不同圖案之下,,這些圖案由光線穿透被稱為掩模的濾光片形成,。光線每照射到一處,光刻膠便會固化,,其余部分則會被沖洗掉,。在下一步驟中,會對晶圓進(jìn)行化學(xué)蝕刻,,由此在表面的裸露部分形成功能結(jié)構(gòu),。光刻技術(shù)的進(jìn)步一直是推動后續(xù)半導(dǎo)體節(jié)點前進(jìn)的關(guān)鍵。隨著芯片進(jìn)入10nm以下,,極紫外(EUV)技術(shù)必不可少,,光刻變得過于復(fù)雜且成本高昂,一臺EUV光刻機(jī)的成本超過了1億美元,。相對的,,芯片的成本也隨之水漲船高。
除了成本之外,,傳統(tǒng)的自上而下的光刻模式正日益受到感光材料對光反應(yīng)的固有問題的挑戰(zhàn),,如隨機(jī)打印失敗和線邊/線寬粗糙度(LER/LWR)。而定向自組裝(DSA)技術(shù)被認(rèn)為是一種革新的,、更具成本效益的制造方法,,它是采用自下而上的模式。作為補充和進(jìn)一步擴(kuò)展基于光刻的模式的潛在途徑,。
定向自組裝(DSA)使用自組裝分子來打造計算機(jī)芯片的納米級組件,,與掩模定義圖案的大多數(shù)光刻技術(shù)不同,它利用嵌段共聚物(BCP)形態(tài)來創(chuàng)建線條,、空間和孔圖案,,有助于更準(zhǔn)確地控制特征形狀。
自組裝是一種受自然啟發(fā)的方法,,它在大自然界中從脂質(zhì)膜到細(xì)胞結(jié)構(gòu)中隨處可見,。所謂自組裝,指的就是各個組件自發(fā)組成規(guī)律的結(jié)構(gòu),,這是組件之間特定局部交互作用的結(jié)果,,而且他們組成的結(jié)構(gòu)非常穩(wěn)固。業(yè)界專家認(rèn)為,,如果這種方法可以用于大自然,,那么同理也可能用于芯片產(chǎn)業(yè),。
但其實DSA也不是一項新技術(shù),早在2000年行業(yè)就開始了初步開發(fā),,2007年,,DSA被添加到ITRS路線圖中,早期的支持者們認(rèn)為DSA將進(jìn)入14nm和7nm邏輯節(jié)點之間進(jìn)行的商業(yè)生產(chǎn),,但是到目前為止,,還沒有實現(xiàn),。而現(xiàn)在,,隨著芯片工藝來到7nm,5nm,,3nm,,以及DSA 材料和加工的最新發(fā)展,DSA技術(shù)再度被看好,。
DSA能夠提供比半導(dǎo)體行業(yè)目前所要求的更高的分辨率,,而且特征尺寸現(xiàn)在正接近DSA特別有效的水平。如果這些趨勢持續(xù)下去,,這項技術(shù)有望在本世紀(jì)末被廣泛采用,。
將定向自組裝用于半導(dǎo)體
“如果觀察集成電路結(jié)構(gòu)或晶體管陣列,許多功能結(jié)構(gòu)都會重復(fù)數(shù)百萬次,。這是一個高度周期性的結(jié)構(gòu),。因此,我們希望在替代制造技術(shù)中利用這種周期性,,并通過自組裝材料自發(fā)地形成晶體管所需的周期性結(jié)構(gòu),。我們用這些材料來完成最后的精細(xì)圖案的制作工作,而不是試圖在電路投射技術(shù)上尋找突破,?!盉ranchburg半導(dǎo)體材料研發(fā)部主管Karl Skjonnemand說。
用自組裝材料來替代晶體管的周期性排列
?。▓D源:Karl Skjonnemand TED演講)
“自組裝材料的關(guān)鍵在于嵌段共聚物(BCP),。這些材料由兩條長度只有幾十納米的聚合物鏈組成,它們具有特殊的熱力學(xué)特性,,這兩條聚合物鏈彼此厭惡,、相互排斥,就像水油一樣不相容,,但如果我們強制使他們結(jié)合在一起,,他們便可形成具有高度規(guī)律性的納米結(jié)構(gòu)?!盨kjonnemand解釋說,,“一塊巨型的材料可能共有數(shù)十億個這樣的聚合物鏈。其中,相似的聚合物會試圖粘合在一起,,同時,,相反的部件則試圖彼此分離。因此,,聚合物鏈會四處移動,,直到形成一個固定形狀。
而且天然的自組裝形狀具有納米級,、規(guī)則性,、周期性,且長距離的特點,,這正是晶體管陣列所需要的,。所以我們就可以利用分子工程,來設(shè)計不同形狀,、尺寸和周期的晶體管,。也就是說,通過簡單調(diào)整聚合物鏈中嵌段的長度和組成,,就有可能產(chǎn)生許多不同的規(guī)則圖案和形狀,,這樣就可以根據(jù)設(shè)計調(diào)整為確切的樣式、尺寸和周期,。
利用自組裝材料形成不同形狀
?。▓D源:Karl Skjonnemand TED演講)
而實現(xiàn)這些結(jié)構(gòu)的自組裝能力,僅僅是通向目標(biāo)制造過程中的一環(huán),。因為還需要排列這些結(jié)構(gòu),,使得晶體管們可以形成集成電路。不過其方法也相對簡單,,只需要利用寬導(dǎo)向結(jié)構(gòu)來固定自組裝結(jié)構(gòu),,將他們固定好錨位,使剩余的自組裝結(jié)構(gòu)可以平行排列,,就可以達(dá)到與導(dǎo)向結(jié)構(gòu)一致,。
Skjonnemand舉例說,”如果我們希望制作一條40納米的細(xì)線,,這對傳統(tǒng)投影技術(shù)來說是很難制造的,,我們可以使用普通投影技術(shù)制造一條120納米的導(dǎo)向結(jié)構(gòu),這個結(jié)構(gòu)將把3個40納米長的線形排列在一起,,這些材料將承擔(dān)最困難的精細(xì)構(gòu)圖任務(wù),。我們將整個方法稱為‘定向自組裝’?!?/p>
當(dāng)然定向自組裝不是一個獨立的過程,,而是與傳統(tǒng)的制造過程集成在一起,,以便以較低的成本批量生產(chǎn)微米和納米結(jié)構(gòu)。由于在定向自組裝中使用傳統(tǒng)的光刻技術(shù),,因此另一個優(yōu)勢在于,,制造商無需在新設(shè)備上進(jìn)行大量投資。Branchburg公司與客戶攜手進(jìn)行的試點項目顯示出,,與傳統(tǒng)的多重構(gòu)圖相比,,定向自組裝制造過程中的報錯大大減少。而且他們預(yù)計,,定向自組裝可以將制造中涉及的工藝步驟數(shù)量減少40%以上,。
距離融入日常制造還有多遠(yuǎn)?
但定向自組裝技術(shù)要真正完全融入日常制造還面臨一些挑戰(zhàn),,2016 年 DSA 研討會調(diào)查將缺陷確定為最大的技術(shù)挑戰(zhàn),。在Skjonnemand看來,,如要采用定向自組裝,,整個系統(tǒng)需要完美對準(zhǔn),因為結(jié)構(gòu)中的任何微小缺陷都可能導(dǎo)致晶體管失效,。而且,,由于電路中有數(shù)十億個晶體管,因此系統(tǒng)需要在分子級上達(dá)到幾乎完美的狀態(tài),。
缺陷率和成本是直接掛鉤的,,因為最低的缺陷水平與最長的退火時間是相關(guān)的。雖然僅用五分鐘的退火就能使兩相分離,,但產(chǎn)生的材料含有太多的缺陷,,不適合商業(yè)使用。
”我們將采取非常規(guī)措施來實現(xiàn)這一目標(biāo),?!八^續(xù)說,”通過在半導(dǎo)體工廠中對化學(xué)品進(jìn)行最佳清潔,,以及謹(jǐn)慎處理這些材料,,我們甚至可以消除最微小的納米級缺陷?!?/p>
在2021年SPIE先進(jìn)光刻大會上,,全球領(lǐng)先的納米電子和數(shù)字技術(shù)研究和創(chuàng)新中心imec首次展示了定向自組裝(DSA)到間距小至18nm的模式線/空間的能力,使用高chi嵌段共聚物(高χ BCP)為基礎(chǔ)的工藝在高批量生產(chǎn)(HVM)條件下,。
但這項技術(shù)仍然在發(fā)展中,,半導(dǎo)體行業(yè)雖然在光刻方面擁有豐富的經(jīng)驗,但要使用定向自組裝(DSA)技術(shù)需要轉(zhuǎn)變思維方式,。嵌段共聚物(BCP)材料和工藝是具有革命性的,,而不是進(jìn)化性的,,這不是行業(yè)所習(xí)慣的,可能會面臨阻力,。而且定向自組裝(DSA)需要在真實設(shè)備上進(jìn)行演示,,然后才能在半導(dǎo)體市場上取得成功。所以,,半導(dǎo)體行業(yè)材料供應(yīng)商和在嵌段共聚物(BCP)方面具有豐富經(jīng)驗的化學(xué)公司之間的合作是彌合這一差距的途徑之一,。
在這方面,默克公司是化學(xué)行業(yè)的專家,。據(jù)悉,,默克在自組裝技術(shù)方面的進(jìn)步,已經(jīng)能使客戶開始規(guī)劃大批量制造產(chǎn)能,。默克正在開發(fā)極其純凈的大批量合成能力來滿足客戶對性能和質(zhì)量目標(biāo)的追求,。
”這項革命性技術(shù)有望徹底改變半導(dǎo)體制造工藝,并將加快下一代構(gòu)圖應(yīng)用的引入,?!澳税雽?dǎo)體解決方案全球負(fù)責(zé)人Anand Nambiar表示。默克認(rèn)為,,定向自組裝可以在未來幾年內(nèi)成為半導(dǎo)體行業(yè)中的先進(jìn)制造工藝,。
寫在最后
如果定向自組裝真的能走進(jìn)半導(dǎo)體制造,那么業(yè)界將能夠以更經(jīng)濟(jì)高效的方式,,生產(chǎn)出越來越小的晶體管,,從而確保運算和數(shù)字革命能夠繼續(xù)以驚人的步速向前邁進(jìn)。這同樣預(yù)示著分子制造新時代的曙光,。
#humanprogress 近幾年,,定向自組裝(DSA)引起了大量業(yè)界同仁的興趣,已經(jīng)發(fā)展成為一個由大學(xué),、計量學(xué)家,、材料和設(shè)備供應(yīng)商組成的寶貴生態(tài)系統(tǒng)。與以前單一行業(yè)的努力不同,,材料和化學(xué)公司之間的合作將更好的推動定向自組裝技術(shù)的真正落地實施,。一場芯片制造的革命即將來臨,那么,,默克又將如何聯(lián)合材料廠商利用定向自組裝技術(shù)打造前瞻性的微芯片呢,?