眾所周知,目前全球最牛的光刻機(jī)廠商就是荷蘭的ASML了,,全世界僅有它一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī),,而EUV光刻機(jī)是10nm以下芯片制造中必不可少的設(shè)備。
可以說ASML緊緊的扼住了全球芯片制造企業(yè)的喉嚨,,只要它不賣EUV光刻機(jī)給對(duì)方,,對(duì)方的工藝就只能停留在10nm以上。
事實(shí)上,在20年前,,ASML其實(shí)是一家名不見真?zhèn)鞯男∑髽I(yè),,和日本的尼康、佳能比起來,,真的就是個(gè)小作坊,,那么為何最終是它勝出,一家獨(dú)大,,然后讓尼康,、佳能變成了二流光刻機(jī)企業(yè)了呢?
事實(shí)上,,這與ASML成長(zhǎng)過程中的兩個(gè)轉(zhuǎn)折點(diǎn)有關(guān),,也正是抓住了這機(jī)會(huì),在這兩次轉(zhuǎn)折點(diǎn)中,,都站對(duì)了位置,,才有今天的ASML。
第一次是2004年左右,,當(dāng)時(shí)業(yè)界采用的光刻機(jī)光源是193nm波長(zhǎng)的,,采用的是干刻法,接下來要提升光源到157nm波長(zhǎng),,這樣精度更高,,但困難非常大。
這時(shí)候臺(tái)積電表示,,光源還可以使用193nm波長(zhǎng)的,,但換個(gè)介質(zhì)試試,不要用空氣當(dāng)介質(zhì)了,,用水當(dāng)介質(zhì),,而光源在通過水時(shí),會(huì)產(chǎn)生折射,,這樣193nm波長(zhǎng)的光源,,實(shí)際效果可能比157nm的波長(zhǎng)還要好呢?
尼康,、佳能認(rèn)為這不實(shí)際,,不如研究157nm光刻機(jī)好了,而ASML覺得自己反正就是小企業(yè),,不如陪臺(tái)積電試一下,,萬一成功了呢?
于是ASML成功了,,采用水當(dāng)介質(zhì)的浸潤(rùn)式光刻機(jī)火了,,成功的把精度再提高了,,且成本低,研發(fā)快,,僅僅5年時(shí)間,,ASML就拿下了全球一半多的市場(chǎng),后來尼康,、佳能想要跟進(jìn),,已經(jīng)遲了。
第二次機(jī)會(huì)是2015年,,當(dāng)時(shí)浸潤(rùn)式光刻機(jī)已經(jīng)發(fā)展到極限了,接下來研究的方向采用波長(zhǎng)為13.5nm的極紫外線,,制造EUV光刻機(jī),。
并且這時(shí)候,英特爾牽頭搞了一個(gè)前沿組織EUV LLC,,就是研究這些的,,于是ASML加入了進(jìn)來,并且ASML很聰明,,覺得如果自己搞出這樣的光刻機(jī),,可能會(huì)被美國(guó)忌憚,于是讓出了自己的股份,,讓英特爾,、臺(tái)積電、三星等都成為自己的股東,。
這樣不僅打消了美國(guó)的在顧慮,,還贏得了客戶、盟友,,也得到了眾多的技術(shù)支持,,于是順利的推出了EUV系列光刻機(jī),還不愁賣,,也不怕美國(guó)制裁它,,如今ASML是真的在EUV光刻機(jī)上一家獨(dú)大,真正的壟斷市場(chǎng)了,。