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荷蘭巨頭ASML將推出更新型的光刻機(jī) 比EUV還先進(jìn)

2021-12-16
來源:運(yùn)營商財(cái)經(jīng)網(wǎng)
關(guān)鍵詞: ASML 光刻機(jī) EUV

12月14日消息,,CNBC 報(bào)道稱,全球最先 進(jìn)的光刻機(jī)廠商荷蘭AMSL公司正在開發(fā)一種新版本的EUV光刻機(jī),,將成為世界上最先 進(jìn)的芯片制造設(shè)備,。中國現(xiàn)在連EUV光刻機(jī)都買不到,所以,,對于這種更新型的光刻機(jī),,更要警惕。

這種光刻機(jī)被稱為 High NA(高數(shù)值孔徑),。據(jù)稱,,第一臺(tái)高 NA 機(jī)器仍在開發(fā)中,預(yù)計(jì)從 2023 年開始提供先行體驗(yàn),,以便芯片制造商可以更快地開始驗(yàn)證并學(xué)會(huì)如何使用,。然后,,客戶可以在 2024 年和 2025 年將以此進(jìn)行自己的研發(fā)工作,。從 2025 年開始,它們很可能用于大批量制造,。

這種NA光刻機(jī)可以讓芯片制造商研制出更復(fù)雜的芯片,。光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,,對芯片工藝有著決定性的影響,。小于5納米的芯片晶圓,,只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。EUV光刻機(jī)如今名氣巨大,,其實(shí)推出時(shí)間并不長,。

NV光刻機(jī)還沒問世,就已被全球各芯片廠盯著,。今年 7 月,,英特爾首席執(zhí)行官表示,該公司有望成為 ASML 新機(jī)器的第一個(gè)接收者,。

而2018年4月,,中芯國際向阿斯麥下單了一臺(tái)EUV(極紫外線)光刻機(jī),按理于2019年初交貨,,卻迄今未收到貨,,因?yàn)槊绹鵀榱讼拗坪商mASML公司向中國公司出口極紫外光刻機(jī)(EUV),對荷蘭屢次施壓,。  最終,,荷蘭不再續(xù)簽 ASML 的出口許可。而中國則是 ASML 公司的第二大客戶,,占其營業(yè)總收入的 20%,,ASML也希望能增加其在華的銷量。

假如幾年之后ASML公司推出更新型的光刻機(jī),,那中國和國外的芯片代工能力的差距有可能進(jìn)一步拉大,。




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