12月14日消息，CNBC 報道稱,，全球最先 進的光刻機廠商荷蘭AMSL公司正在開發(fā)一種新版本的EUV光刻機,，將成為世界上最先 進的芯片制造設(shè)備。中國現(xiàn)在連EUV光刻機都買不到,，所以,，對于這種更新型的光刻機，更要警惕,。

這種光刻機被稱為 High NA（高數(shù)值孔徑）,。據(jù)稱，第一臺高 NA 機器仍在開發(fā)中,，預(yù)計從 2023 年開始提供先行體驗,，以便芯片制造商可以更快地開始驗證并學(xué)會如何使用。然后,，客戶可以在 2024 年和 2025 年將以此進行自己的研發(fā)工作,。從 2025 年開始，它們很可能用于大批量制造,。

這種NA光刻機可以讓芯片制造商研制出更復(fù)雜的芯片,。光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,，對芯片工藝有著決定性的影響,。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn),。EUV光刻機如今名氣巨大,，其實推出時間并不長。

NV光刻機還沒問世,，就已被全球各芯片廠盯著,。今年 7 月，英特爾首席執(zhí)行官表示，該公司有望成為 ASML 新機器的第一個接收者,。

而2018年4月,，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，按理于2019年初交貨,，卻迄今未收到貨,，因為美國為了限制荷蘭ASML公司向中國公司出口極紫外光刻機（EUV），對荷蘭屢次施壓,。  最終，荷蘭不再續(xù)簽 ASML 的出口許可,。而中國則是 ASML 公司的第二大客戶,，占其營業(yè)總收入的 20%，ASML也希望能增加其在華的銷量,。

假如幾年之后ASML公司推出更新型的光刻機,，那中國和國外的芯片代工能力的差距有可能進一步拉大。