《電子技術(shù)應(yīng)用》
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采用開(kāi)關(guān)器件提高PFC效率
摘要: 在CCM PFC中,,通過(guò)改善MOSFET技術(shù)可以減少開(kāi)關(guān)損耗,,甚至可通過(guò)SiC技術(shù)改善升壓二極管來(lái)減少M(fèi)OSFET的開(kāi)關(guān)損耗,。
Abstract:
Key words :

在CCM PFC中,通過(guò)改善MOSFET技術(shù)可以減少開(kāi)關(guān)損耗,,甚至可通過(guò)SiC技術(shù)改善升壓二極管來(lái)減少M(fèi)OSFET的開(kāi)關(guān)損耗,。

  功率因數(shù)是一個(gè)數(shù)值參數(shù),常用來(lái)衡量提供給交-直流變換器的輸入功率的質(zhì)量,。最近功率因數(shù)補(bǔ)償(PFC)的標(biāo)準(zhǔn),,如IEC 61000-4-3,已經(jīng)大規(guī)模應(yīng)用到許多系統(tǒng)當(dāng)中,,并且在交-直流電力系統(tǒng)市場(chǎng)中表現(xiàn)出增長(zhǎng)態(tài)勢(shì),。為了能夠達(dá)到這些標(biāo)準(zhǔn),設(shè)計(jì)人員可以運(yùn)用被動(dòng)式與主動(dòng)式PFC設(shè)計(jì)技術(shù),,這種設(shè)計(jì)技術(shù)必須符合電力系統(tǒng)中的電網(wǎng)諧波標(biāo)準(zhǔn),。

  方法之一就是運(yùn)用被動(dòng)PFC的低成本解決方案,但是這一方案需要一個(gè)笨重的大體積LC濾波器,。主動(dòng)PFC廣泛用于減少系統(tǒng)濾波器電感線圈的尺寸與重量,。因此,增加效率與功率密度是主動(dòng)PFC方案的關(guān)鍵設(shè)計(jì)因素,。對(duì)于大功率交-直流變換器來(lái)說(shuō),連續(xù)傳導(dǎo)模式(CCM)升壓型主動(dòng)PFC拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)更受歡迎,。與非連續(xù)傳導(dǎo)模式(DCM)和臨界傳導(dǎo)模式CRM)不同的是,,CCM PFC產(chǎn)生的波紋電流更小,,可簡(jiǎn)化EMI濾波器設(shè)計(jì)以及保持小負(fù)荷下的穩(wěn)定性。因此CCM PFC不僅廣泛用于服務(wù)器與遠(yuǎn)程通信的電源供給,,而且可用于平面顯示器的電源供給,。

  按照功率變換器PFC改善功率密度的設(shè)計(jì)趨勢(shì),設(shè)計(jì)人員必須減少系統(tǒng)損耗與整個(gè)系統(tǒng)的尺寸,、重量,,或者增加開(kāi)關(guān)頻率,集成有源元件,。

  一種新型的MOSFET/二極管組合可以實(shí)現(xiàn)較高的功效,,減少開(kāi)關(guān)損耗。并且通過(guò)降低MOSFET的導(dǎo)通電阻,,提高其開(kāi)關(guān)速度完成CCM PFC控制器的設(shè)計(jì),。上述性能的改善,都離不開(kāi)一種具有低反向恢復(fù)電荷(QRR)的SiC肖特基二極管,。下面在一個(gè)400W CCM PFC應(yīng)用當(dāng)中,,將其與常用的硅Si二極管/平面型MOSFET的組合方式進(jìn)行比較,可看出本文所述MOSFET/二極管組合的優(yōu)點(diǎn),。

  與DCM升壓電感的恒流相比,,CCM下的PFC具備更多優(yōu)勢(shì)。通過(guò)EMI濾波的電流要比DCM或CRM中小得多,,因此這些優(yōu)勢(shì)在大功率設(shè)計(jì)中更為明顯,。在一般情況下,MOSFET的功率損耗通常由它的開(kāi)關(guān)損耗決定,,事實(shí)上開(kāi)關(guān)損耗是由分立升壓二極管的反向回縮特性所引起的,,而上述這個(gè)根源取決于工作電流與二極管溫度。這些因素導(dǎo)致了二極管與MOSFET功率損耗的增加,,進(jìn)而影響到變流器的性能,。

  圖1與圖2所示為CCM PFC的工作情況,包括電流和電壓波形,,可看出低QRR對(duì)PFC二極管的重要性,。一開(kāi)始,二極管D1引入輸入電流,,同時(shí)還有二極管中的少量積累電荷,。在開(kāi)關(guān)導(dǎo)通的過(guò)程中,MOSFET M1導(dǎo)通,,二極管D1關(guān)斷,。巨大的導(dǎo)通電流流過(guò)MOSFET,除了經(jīng)整流的輸入電流以外還包括D1的反向恢復(fù)電流與放電電流,。一般情況下,,電流的變化率通過(guò)M1的封裝電感及其他存在于外部回路的寄生電感進(jìn)行限制,。二極管電流波形的負(fù)值區(qū)域便是反向恢復(fù)電荷QRR,其中時(shí)間間隔長(zhǎng)度(t0到t2)是反向恢復(fù)時(shí)間tRR,。在t0與t1之間時(shí),,二極管保持正向偏置,因此MOSFET電壓為VOUT+VF,。在t1時(shí)間,,p-n結(jié)附近的積累電荷被耗盡。二極管反向電流持續(xù)存在,,直至消除所有殘留的少量積累電荷,。在t2時(shí)間,這些電流基本上為零,,二極管在反向偏置條件下達(dá)到穩(wěn)態(tài),。[1]這些由硅Si二極管反向恢復(fù)特性所引起功率損耗,限制了CCM PFC的功效與開(kāi)關(guān)頻率,。
 


  CCM PFC中最值得關(guān)注的是減少M(fèi)OSFET與升壓二極管的傳導(dǎo)性與開(kāi)關(guān)損耗,。如果您想設(shè)計(jì)一高性能的、且具有較小尺寸與較高的工作頻率的CCM PFC,,其MOSFET要求如下:較小的導(dǎo)通電阻以減少傳導(dǎo)損耗,;低CGD以減少開(kāi)關(guān)損耗;低QG以減少柵極驅(qū)動(dòng)功率,;低熱阻,。同樣,升壓二極管要求如下:tRR時(shí)間短以減少M(fèi)OSFET導(dǎo)通損耗,;低QRR以減少二極管開(kāi)關(guān)損耗,;小VF以減少傳導(dǎo)損耗;溫和的反向回縮特性以減少EMI,;低熱阻,。

  MOSFET比較

  圖3所示為Fairchild Semiconductor(飛兆半導(dǎo)體)公司的SuperFET 600-V MOSFET的橫截面,它運(yùn)用了電荷平衡技術(shù)(右),,另一個(gè)是傳統(tǒng)的平面型MOSFET(左),。一開(kāi)始便引起我們注意的差異是SuperFET元器件內(nèi)部的加厚p型柱。SuperFET所提供的低導(dǎo)通電阻所起的作用(>90%)在于N-型漂移區(qū),。加厚P型柱的作用是限制MOSFET輕摻雜外延區(qū)的電場(chǎng),。相比傳統(tǒng)的平面MOSFET,n-型外延層的電阻率急劇減少,,同時(shí)保持擊穿電壓不變,。高壓MOSFET的導(dǎo)通電阻降低后,可比傳統(tǒng)的

 

  MOSFET的開(kāi)關(guān)特性隨著它的寄生電容的改變而改變。例如高壓SuperFET有源面積的減小直接導(dǎo)致輸入電容的減小,,因此減少了柵極電荷,。這導(dǎo)致導(dǎo)通延遲時(shí)間變短,需要的驅(qū)動(dòng)功率變小,。當(dāng)我們比較SuperFET與平面MOSFET的電容時(shí),VDS一接近10V(對(duì)SuperFET來(lái)說(shuō))CGD的值急速地減小,,在導(dǎo)通的開(kāi)關(guān)瞬態(tài),,較小的輸出電容可減小放電損耗。因?yàn)檫@項(xiàng)技術(shù)的目的是使元件能夠承受住高速開(kāi)關(guān)瞬態(tài)下的電壓(dv/dt)與電流(di/dt),,這些元器件能夠在較高的頻率下可靠地工作,,由于折算電阻的影響其品質(zhì)因數(shù)(FOM)只相當(dāng)于同等級(jí)平面器件的三分之一。

  使用SuperFET的好處之一是它的低通導(dǎo)電阻減少了功率損耗,。這允許設(shè)計(jì)人員可以不使用昂貴的冷卻系統(tǒng)并且減少了散熱器的尺寸,。它的低柵極電荷同樣使得它更容易且更有效地在高頻下驅(qū)動(dòng)。這些特性都減少了系統(tǒng)的整體功率損耗,。

  二極管比較

  硅Si肖特基二極管常作為小于300V的中低壓應(yīng)用,,因?yàn)樵诼╇娏髋c正向?qū)▔航当3衷谌菰S的等級(jí)之內(nèi)時(shí),它們顯示出很低的開(kāi)關(guān)損耗與正的溫度系數(shù),。然而這類二極管對(duì)于高壓應(yīng)用來(lái)說(shuō)并不理想,,因?yàn)楦邏簯?yīng)用中漏電流與正向?qū)▔航狄叩亩唷1容^起來(lái),,SiC肖特基二極管在高壓領(lǐng)域更有吸引力,。因?yàn)樘蓟璧膿舸╇妶?chǎng)是硅的10倍。此外SiC的寬帶隙容許較高的工作溫度[2],。另外,,在開(kāi)關(guān)狀態(tài)轉(zhuǎn)換過(guò)程中,SiC肖特基二極管沒(méi)有反向恢復(fù)電流,,這是因?yàn)樗鼪](méi)有額外的少數(shù)載流子,。雖然寄生結(jié)電容確實(shí)產(chǎn)生了位移電流但可以忽略不計(jì)。因此在CCM PFC應(yīng)用中,,由于SiC肖特基二極管優(yōu)越的反向回縮特性,,可不依賴于元器件的溫度與正向傳導(dǎo)特性,使得SiC肖特基二極管與硅Si二極管相比能夠提供更大的功效,。[3-7]

  圖4所示為SiC肖特基二極管和硅二極管的反向恢復(fù)特性對(duì)比,。在這個(gè)例子中,F(xiàn)airchild公司的速?gòu)?fù)硅二極管按照tRR和VF區(qū)分為三種類型,,隱形二極管具有快速反向回縮特性,,超高速元件擁有最低的VF值。通過(guò)25℃時(shí)的反向恢復(fù)測(cè)試,硅二極管中出現(xiàn)了大量的反向恢復(fù)電流,,而SiC肖特基二極管僅僅在電容中出現(xiàn)由p-n結(jié)反向偏壓形成的位移電流,。SiC肖特基和硅二極管的V-I特性曲線均為溫度的涵數(shù)。正向電流較低時(shí),,溫度升高時(shí)VF減小,。在這個(gè)區(qū)域內(nèi),可觀察到肖特基勢(shì)壘兩端的電流呈指數(shù)特性,。當(dāng)正向電流增加時(shí),,二極管的體電阻決定其正向偏置特性,并且肖特基二極管的VF隨溫度上升而增大,。SiC肖特基二極管的帶隙越大,,本征載流子濃度和運(yùn)行結(jié)溫就越高。就原理而論,,硅二極管的最高結(jié)溫為150℃[8],,而SiC肖特基二極管有可能達(dá)到600℃。運(yùn)行溫度的增加允許其重量,、體積,、成本和熱量管理系統(tǒng)復(fù)雜性的全面減小。
 

  另外,,由于SiC肖特基二極管具有正溫度系數(shù),,因此與硅二極管相比,它們更適于在較高的電壓下并聯(lián)運(yùn)行,。SiC肖特基二極管的低QRR不僅減少二極管的開(kāi)關(guān)損耗,,而且能減少M(fèi)OSFET的導(dǎo)通損耗,使CCM PFC達(dá)到很高的能效,。就算SiC二極管中的正向電流比硅二極管大,,上述情況仍然成立。在MOSFET的導(dǎo)通瞬間,,SiC肖特基二極管優(yōu)越的溫度特性可以降低漏電流峰值,。并且設(shè)計(jì)人員可以使用較小的MOSFET來(lái)減低成本。

  MOSFET/SiC二極管集成模塊

  使用高壓SuperFET和一個(gè)SiC肖特基二極管組成的CCM PFC測(cè)試電路,,具體地說(shuō),,將Fairchild公司的600-VN溝道SuperFET MOSFET(FCA20N60)和6A SiC肖特基二極管組合,與平面型MOSFET(FQA24N50)和超高速二極管(RURP860)組合進(jìn)行比較,,比較內(nèi)容為開(kāi)關(guān)損耗與功效,。此測(cè)試電路的工作頻率100kHz,輸出電壓和電流分別為400V與1A,。導(dǎo)通時(shí)SuperFET的柵電阻是12Ω,,關(guān)斷時(shí)為9.1Ω。

  分別測(cè)量MOSFET與二極管的電壓和電流來(lái)估算元件的功率損耗。并且量測(cè)輸入與輸出功率來(lái)計(jì)算系統(tǒng)的功效,。滿負(fù)荷下,,MOSFET信號(hào)波形由高電平向低電平躍遷時(shí),輸入為110Vac,,開(kāi)關(guān)損耗通過(guò)VDS與ID的交叉區(qū)來(lái)測(cè)量,。SuperFET開(kāi)關(guān)時(shí)間大大地降低。平面型MOSFET的關(guān)斷損耗為159μJ,,SuperFET為125μJ(減小34μJ或21%),。

  滿負(fù)荷下,MOSFET信號(hào)波形由低電平向高電平躍遷時(shí),,輸入為110Vac,在二極管與MOSFET中有5.3A的反向恢復(fù)電流通過(guò)(除電感電流以外),,此電流來(lái)自于升壓硅二極管,。然而SiC肖特基二極管僅僅有1.2A的位移電流,可忽略不計(jì),。所以使用硅二極管時(shí)MOSFET的開(kāi)通損耗為73.8μJ,,使用SiC肖特基二極管時(shí)為28.9μJ(減少44.9μJ或61%)。

  在此次測(cè)試中,,滿負(fù)荷下二極管信號(hào)波形由高電平向低電平躍遷時(shí),,輸入為110Vac。硅二極管中的反向恢復(fù)電流峰值為5.3A,,反向恢復(fù)電壓峰值為500V,。在同樣情況下,SiC肖特基二極管中的反向恢復(fù)電流可忽略不計(jì),,反向恢復(fù)電壓為450V,。這兩種MOSFET類型的不同動(dòng)態(tài)特性形成不同的MOSFET開(kāi)通損耗。由于SiC二極管的恢復(fù)時(shí)間為零,,因此SiC肖特基二極管的關(guān)斷損耗要比硅二極管低大約78%,。
 

  圖5所示為開(kāi)關(guān)損耗一覽,將SuperFET與SiC肖特基二極管組合后,,可有效減少開(kāi)關(guān)損耗,。與平面型MOSFET相比,SuperFET能夠降低21%的關(guān)斷損耗,。與速?gòu)?fù)二極管相比,,SiC二極管能夠降低61%的開(kāi)通損耗。當(dāng)然,,使用SiC肖特基二極管代替速?gòu)?fù)硅二極管與傳統(tǒng)的MOSFET組合,,可以使MOSFET的關(guān)斷損耗降低78%,使其開(kāi)通損耗降低23%。圖6所示為不同器件組合的功效測(cè)量結(jié)果,。從圖中不難看出,,在整個(gè)運(yùn)行范圍中,MOSFET/SiC肖特基二極管的組合對(duì)提高功效起到了很重要的作用,。甚至在大電流時(shí)(滿負(fù)荷低輸入電壓),,改善的效果也很明顯,在同樣的情況下,,MOSFET/SiC肖特基二極管組合的功效比傳統(tǒng)器件高出4%,。對(duì)于開(kāi)關(guān)損耗的分析證明,通過(guò)減小SiC肖特基二極管的反向恢復(fù)電荷來(lái)減低MOSFET開(kāi)通損耗,,是提高功效的主要途徑,。最終結(jié)果是增加了CCM PFC下的功率密度。

 

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