全球第2大NAND型快閃存儲(chǔ)器 (Flash Memory)廠(chǎng)商東芝 ( Toshiba )5日發(fā)布新聞稿宣布,,為加快次世代半導(dǎo)體露光技術(shù)「納米壓印技術(shù)(Nano-imprint Lithography;NIL)」的研發(fā)腳步,已和南韓半導(dǎo)體大廠(chǎng)SK 海力士 (SK Hynix )正式簽署契約,,雙方技術(shù)人員將自2015年4月起透過(guò)東芝橫濱事業(yè)所攜手研發(fā)NIL制程的關(guān)鍵技術(shù),,目標(biāo)為在2017年實(shí)用化。
東芝于去年12月和SK海力士(SK Hynix)就NAND Flash侵權(quán)案一事達(dá)成和解,,海力士(Hynix)除同意支付東芝2.78億美元(約330億日?qǐng)A)和解金外,,雙方當(dāng)時(shí)也宣布將攜手研發(fā)被稱(chēng)為「納米壓印(Nanoimprint)」的次世代半導(dǎo)體露光技術(shù),。
據(jù)日經(jīng)新聞指出,,東芝已于2014年開(kāi)始量產(chǎn)全球最先端的15nm NAND Flash產(chǎn)品,而就現(xiàn)行技術(shù)來(lái)看,,15nm被視為是存儲(chǔ)器電路線(xiàn)幅細(xì)微化的極限,,而東芝期望借由研發(fā)NIL技術(shù)、突破細(xì)微化極限,,讓已逼近極限的電路線(xiàn)幅能進(jìn)一步細(xì)微化,,以借此提高產(chǎn)品性能及成本競(jìng)爭(zhēng)力。
日經(jīng)指出,,東芝目前已和Canon攜手研發(fā)NIL制造設(shè)備,,而東芝和SK 海力士(SK Hynix)于NIL制程技術(shù)的研發(fā)成果也將回饋至制造設(shè)備的研發(fā)上。
另?yè)?jù)日刊工業(yè)新聞指出,,東芝期望藉由NIF技術(shù)的實(shí)用化來(lái)降低3D NAND Flash的成本,。