最近,，IBM公布了其在7nm制程上取得重大進(jìn)展,，而14nm工藝是英特爾直到2014年才推出的，10nm更是計(jì)劃2015年推出的,，但是現(xiàn)在看來至少要推遲到2016年下半年或者2017年上半年,。與14nm類似，英特爾在10nm跳票嚴(yán)重,。

　　14nm

　 　多年以來,，在純邏輯制程方面，英特爾都可以理直氣壯地聲稱其工藝領(lǐng)先所有競爭對手,。2007年英特爾在45nm節(jié)點(diǎn)導(dǎo)入HKMG工藝（High-K絕緣 層+金屬柵極）,，直到2010年左右，HKMG才在整個(gè)半導(dǎo)體業(yè)界普及,。2011年英特爾在22nm節(jié)點(diǎn)引入FinFET工藝,，直到2014年大部分競爭 對手才實(shí)現(xiàn)了FinFET工藝。從22nm推進(jìn)到14nm,，英特爾理應(yīng)比其他廠商更順利一些,，因?yàn)橛⑻貭栔恍枰s小工藝尺寸,，而其他廠商既要導(dǎo)入 FinFET工藝，又要縮減尺寸,，但是英特爾在14nm上卻栽了大跟頭,。英特爾在2007、2009和2011年分別進(jìn)入45nm,、32nm和22nm工 藝節(jié)點(diǎn),，14nm工藝按計(jì)劃應(yīng)該在2013年推出，但是英特爾直到2014年才推出14nm工藝,，比計(jì)劃晚了好幾個(gè)季度,。

　　三星則跳過了20nm，在2014年底直接進(jìn)入14nm工藝,，只比英特爾晚了一點(diǎn)點(diǎn),。三星最早的14nm工藝被稱為“14LPE”，在“14LPE”之后,，三星將推出提升性能的“14LPP”工藝,。三星也將14nm工藝授權(quán)給GlobalFoundries，從而使IC設(shè)計(jì)公司有更多的14nm工藝選擇,。

　　臺積電對抗14nm工藝的制程被其稱為“16FF”,，這種16nm FinFET工藝在2014年末引入，2015年量產(chǎn),。2015年下半年臺積電還將量產(chǎn)一款提高性能的“16FF+”工藝,。

　 　有兩點(diǎn)需要說明一下。英特爾公布的工藝導(dǎo)入日期是英特爾處理器導(dǎo)入新工藝的時(shí)間,，而晶圓代工廠公布的工藝導(dǎo)入日期是系統(tǒng)級芯片（SoC）導(dǎo)入新工藝的時(shí) 間,。由于系統(tǒng)級芯片比處理器要支持更多的設(shè)備，所以系統(tǒng)級芯片所采用的工藝一般比處理器更復(fù)雜,。相同的工藝節(jié)點(diǎn),，英特爾的系統(tǒng)級芯片工藝導(dǎo)入時(shí)間一般比處 理器工藝導(dǎo)入時(shí)間晚一年。第二點(diǎn),，晶圓代工廠的14nm工藝指只縮減了前道工藝的尺寸,，后道工藝還是20nm工藝的水平，英特爾的前道工藝與后道工藝都進(jìn) 行了縮減,，因此英特爾的工藝尺寸比其他晶圓廠都要小,。

　　顯然晶圓代工廠在14nm工藝的遷移比英特爾更順利，這種狀況對于這些晶圓代工廠意味著什么呢,？

　 　28nm時(shí)臺積電是晶圓代工廠的領(lǐng)頭羊,，蘋果因此把應(yīng)用處理器的訂單從三星轉(zhuǎn)移到了臺積電。14nm/16nm節(jié)點(diǎn)上，蘋果的業(yè)務(wù)仍然是臺積電最大的收 入來源,，但是蘋果把代工業(yè)務(wù)分給了三星和臺積電,，而且三星的訂單更早一些。高通也把部分訂單從臺積電挪到三星,。顯而易見,，三星14nm的順利量產(chǎn)使得它從 臺積電那里搶了不少生意。

　　14nm工藝推遲對于英特爾的影響難以判斷,，英特爾僅有很少的代工業(yè)務(wù),，因此至少現(xiàn)在代工方面對于英特爾沒有 實(shí)質(zhì)影響。英特爾最主要的業(yè)務(wù)是PC處理器,，在這個(gè)市場和AMD歷經(jīng)多年拼殺,，終于憑借先進(jìn)的工藝和制造優(yōu)勢迫使AMD賣掉了晶圓廠。現(xiàn)在英特爾在PC處 理器市場近乎壟斷地位,，從現(xiàn)在的市場來看,，14nm工藝推遲對于英特爾的PC業(yè)務(wù)不會有實(shí)質(zhì)性影響。工藝延緩或許對財(cái)務(wù)會造成不利影響,，但是英特爾整個(gè) 2014年的毛利仍然很高,，所以這方面的影響也可以忽略。

　　10nm

　　本來根據(jù)英特爾的計(jì)劃,，10nm工藝應(yīng)該在2015年推出,，但是現(xiàn)在至少要推遲到2016年下半年或者2017年上半年。與14nm類似,，英特爾在10nm跳票嚴(yán)重。

　　三星已經(jīng)展示了10nm的晶圓,，并表示他們將在2017年量產(chǎn)10nm工藝,。

　　臺積電也在緊攻10nm工藝，宣稱將在2016年第二季度試產(chǎn)10nm工藝,，并在2016年末正式開始量產(chǎn),。基本上這三家公司在10nm工藝進(jìn)度上是前后腳的關(guān)系,。

　 　三星和臺積電誰能夠在10nm工藝競賽中領(lǐng)先,，誰就能夠得到更多蘋果的代工業(yè)務(wù)。現(xiàn)在三星和臺積電在10nm工藝開發(fā)上進(jìn)展都非常好,，不過 GlobalFoundries的10nm工藝進(jìn)展則是一個(gè)謎,，GlobalFoundries最近把IBM的半導(dǎo)體業(yè)務(wù)買了下來，通過IBM的資 源,，GlobalFoundries現(xiàn)在開始開發(fā)自己的10nm工藝,。

　　英特爾的10nm工藝何時(shí)量產(chǎn)難以預(yù)測。英特爾剛剛收購了Altera，10nm工藝對于生產(chǎn)Altera的產(chǎn)品很重要,。工藝推遲肯定會影響到英特爾的財(cái)務(wù)狀況,，但是對于英特爾PC處理器的影響很難看清楚。

       7nm

　　IBM最近公布了一顆7nm工藝測試芯片,，這是IBM和 GlobalFoundries,、三星和半導(dǎo)體設(shè)備商等一起合作的成果。這顆測試芯片被認(rèn)為是現(xiàn)在唯一一顆可以工作的7nm芯片,，公布出來的工藝細(xì)節(jié)包括 采用硅鍺（SiGe）FinFET通道,、EUV（遠(yuǎn)紫外光）以及30nm的間距。

　　如果期望7nm工藝在2017/2018年量產(chǎn),，那么 現(xiàn)在完成7nm測試芯片正當(dāng)其時(shí),。臺積電也許諾在2017年量產(chǎn)7nm工藝，這將使其史上第一次實(shí)現(xiàn)兩年導(dǎo)入兩個(gè)工藝節(jié)點(diǎn),。采用硅鍺通道與30nm間距都 在意料之中,。EUV成功使用很重要，但是量產(chǎn)時(shí)還需要解決EUV工具,、薄膜等問題,。

　　由于現(xiàn)在臺積電和英特爾關(guān)于7nm的開發(fā)狀況守口如瓶，所以也難說IBM這次就真的跑在了前面,。但是這個(gè)可以工作的7nm測試芯片對于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)無疑是個(gè)好消息,。未來幾年這幾家廠商在工藝上的競賽也值得關(guān)注。

　　結(jié)論

　　蘋果,、高通,、NVIIDA和Xilinx都有大量的代工業(yè)務(wù)，這些IC設(shè)計(jì)廠 商試圖在三星和臺積電之間找到平衡,，自然希望這兩家的工藝能夠齊頭并進(jìn),。三星和臺積電在制程大戰(zhàn)中與英特爾打得不可開交，甚至在系統(tǒng)級芯片（SoC)制程 上領(lǐng)先了英特爾,。英特爾在工藝發(fā)展上碰到了很多麻煩,，雖然現(xiàn)在還沒有給英特爾造成大的影響，但是如果未來幾年英特爾還不能擺脫困局,，那么工藝問題定將長他 人志氣,，滅自己威風(fēng)。