《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁 > 嵌入式技術(shù) > 業(yè)界動態(tài) > 2016年CPU GPU前景展望

2016年CPU GPU前景展望

2016-02-18
關(guān)鍵詞: CPU PC 超能網(wǎng) 半導(dǎo)體

  2015年已經(jīng)遠(yuǎn)去,,盡管PC產(chǎn)業(yè)再一次遭遇了下滑的困境,,但技術(shù)進(jìn)步是止不住的,越是在困難的情況下,,技術(shù)發(fā)展就越重要,,新技術(shù)不僅能為企業(yè)打開新的大門,,也能給消費者帶來全新的應(yīng)用體驗,創(chuàng)造全新的需求,,從而推動產(chǎn)品升級換代,。

  2016年有哪些技術(shù)值得我們關(guān)注?在回顧了2015之后,,超能網(wǎng)還會推出一系列文章展望2016年可能會改變我們生活的新技術(shù),。今天我們首先來看半導(dǎo)體/處理器領(lǐng)域的,作為PC核心的CPU,、GPU等產(chǎn)品又會有哪些值得關(guān)注的技術(shù)進(jìn)步呢,?

  1、半導(dǎo)體制造工藝逼近10nm,,摩爾定律還能飯否

  半導(dǎo)體技術(shù)是整個PC產(chǎn)業(yè)的根基,,半導(dǎo)體工藝沒進(jìn)步,,核心PC產(chǎn)品就無法繼續(xù)發(fā)展。在過去的50年中“摩爾定律”成了主導(dǎo)半導(dǎo)體工藝進(jìn)展的金科玉律,,Intel不僅是摩爾定律的提出者,,也是摩爾定律最堅定的捍衛(wèi)者,Intel也靠著摩爾定律成就了一方霸業(yè),。

  但是業(yè)界對摩爾定律的質(zhì)疑也從來沒斷過,,特別是最近幾年,很多人都認(rèn)為硅基半導(dǎo)體技術(shù)很快就要面臨極限了,,Intel自己的“Tick-Tock”鐘擺戰(zhàn)略在Haswell架構(gòu)之后也失效了,,14nm工藝延期了一年多,以致于到了2016年14nm依然會是主流,。

  按照目前的形勢來看,,14/16nm FinFET工藝已經(jīng)成熟,,除了Intel之外,,TSMC、三星已經(jīng)在去年分別量產(chǎn)了14nm,、16nm FinFET工藝,,今年開始量產(chǎn)第二代高性能工藝了,GlobalFoundries今年也會量產(chǎn)14nm工藝,。下一步是10nm節(jié)點,,雖然進(jìn)度比預(yù)期的晚,不過10nm工藝現(xiàn)在也渡過研發(fā)階段了,,目前正在準(zhǔn)備量產(chǎn),,Intel預(yù)計是在2017年下半年推出10nm CannonLake處理器,TSMC與三星在10nm工藝上更積極,,對宣稱今年下半年就會量產(chǎn)10nm工藝,。

  10nm之后就是7nm節(jié)點了,但它離量產(chǎn)還有段距離,,因為工藝越先進(jìn),,晶體管間距越小,漏電流也愈加嚴(yán)重,,導(dǎo)致晶體管功耗過高,。除此之外,先進(jìn)的生產(chǎn)工藝還要依賴半導(dǎo)體制造裝備的進(jìn)步,,原本在10nm工藝就準(zhǔn)備啟用的EUV光刻機(jī)一直不夠成熟,,ASML公司為了研發(fā)EUV設(shè)備投入了相當(dāng)多的資源,但EUV光刻機(jī)的產(chǎn)量及光照強(qiáng)度還是上不去,,離規(guī)?;I(yè)生產(chǎn)還有很長的距離,,以致于Intel等公司并不看好7nm節(jié)點啟用EUV的前景,有可能要拖到5nm節(jié)點,。

  硅基半導(dǎo)體受挫,,科研人員很早就開始尋找新的半導(dǎo)體材料,包括砷化鎵,、碳納米管甚至量子阱晶體管,。2015年IBM及合作伙伴三星、GlobalFoundries率先展示了7nm工藝芯片,,使用的就是硅鍺材料,,使用這種材料的晶體管開關(guān)速度更快,功耗更低,,而且密度更高,,可以輕松實現(xiàn)200億晶體管,晶體管密度比目前的硅基半導(dǎo)體高出一個量級,。

  Intel雖然沒有展示過7nm工藝,,但他們對此一直很自信,此前表態(tài)稱即便沒有EUV工藝,,他們也懂得如何制造7nm芯片,,但愿這沒有在吹牛,因為Intel能否即時推出7nm工藝,,關(guān)系著摩爾定律還能否再戰(zhàn)二十年,。

  2、處理器進(jìn)入10核+時代:AMD爆發(fā),,Intel求穩(wěn)

  半導(dǎo)體工藝發(fā)展雖然很重大,,但并不急迫,AMD,、Intel新一代處理器至少還有14nm,、10nm兩代工藝可用。2016年這兩家都會推出新一代處理器,,其中AMD推的是嘔心瀝血研發(fā)多年的改頭換面之作——Zen處理器,,Intel今年則會有Broadwell-E及Kabylake處理器。

  先說老大Intel,,今年的2代新品中,,Broadwell-E是針對LGA2011平臺的HEPT發(fā)燒級處理器,Kabylake是針對主流市場的LGA1151處理器,,前者最動人的地方在于桌面處理器首次出現(xiàn)10核心設(shè)計,,旗艦型號Core i7-6950X將是10核20線程,頻率3.0GHz,,L3緩存高達(dá)25MB,。

  至于AMD,,他們今年上半年會把第四代模塊化架構(gòu)Excavator核心帶到桌面市場上,推出AM4插槽的Bristol Ridge處理器,,下半年的重點則是Zen架構(gòu)處理器,,也是AM4插槽,但架構(gòu),、工藝全新升級,,放棄之前由推土機(jī)架構(gòu)引入的模塊多核理念,回歸傳統(tǒng)的SMT多線程,。

  Zen架構(gòu)曝光率非常高,,隔三差五就要在媒體上亮相,雖然我們對Zen架構(gòu)的細(xì)節(jié)所知甚少,,但從AMD及各方流傳出來的信息來看,,Zen架構(gòu)性能值得期待,官方表示IPC性能提升40%還多,,14nm FinFET工藝也會大幅降低處理器的功耗,。

  還有一點值得注意,不光Intel在推8核甚至10核處理器,,AMD的Zen架構(gòu)多核并行能力也有提高,,桌面版首發(fā)時至少是4核8線程起步,,中高端會是8核16線程,,而服務(wù)器/工作站出現(xiàn)16核32線程甚至32核64線程也不要驚訝。

  不論是Intel的10核處理器還是AMD的16核處理器,,桌面處理器在突破6核,、8核之后會繼續(xù)進(jìn)入10核+時代,Intel Broadwell-E在前兩代突破8核之后已經(jīng)確定有10核20線程產(chǎn)品,,AMD的Zen架構(gòu)更加激進(jìn),,8核16線程不是問題,是否會在桌面市場推出12核甚至16核的旗艦也令人期待,。

  3,、PCI-E 4.0姍姍來遲,廠商自研新總線

  伴隨著CPU,、GPU計算性能的飛速增長,,PCI-E總線也要有相應(yīng)的準(zhǔn)備,不過最新一代PCI-E 4.0總線技術(shù)已經(jīng)推遲了,,原定于2015年上半年發(fā)布最終規(guī)范,,但現(xiàn)在來看PCI-E 4.0總線可能要拖到2016年甚至2017年了。

  新一代總線具備更高的性能,,具體來說,, 目前在用的PCI-E 3.0總線速率是8GT/s,,Link帶寬8Tb/s,每一通道帶寬約為1GB/s,,x16通道雙向帶寬32GB/s,,而PCI-E 4.0在PCI-E 3.0基礎(chǔ)上保持架構(gòu)不變,速率翻倍到16GT/s,,通道帶寬提升到2GB/s,,x16雙向帶寬高達(dá)64GB/s。

  不過PCI-E 4.0面臨的問題也不少,,除了銅介質(zhì)速率繼續(xù)提升的技術(shù)難題之外,,PCI-E 4.0最大的尷尬之處在于——桌面顯卡用不到這么高的帶寬,高性能計算領(lǐng)域PCI-E 4.0帶寬又不給力,。前者很好說,,因為從PCI-E 2.0到PCI-E 3.0時代,顯卡性能也沒有因此受益,,PCI-E 3.0 x16帶寬已經(jīng)達(dá)到了32GB/s,,目前的高端顯卡并不需要這么高的帶寬,而升級到PCI-E 4.0,,64GB/s的帶寬對桌面顯卡來說也是浪費,。

  如果用到HPC領(lǐng)域,PCI-E 4.0帶寬的64GB/s又有點捉襟見肘了,,等不及的廠商早已經(jīng)在暗地里開發(fā)新的總線技術(shù),,其中NVIDIA跟IBM聯(lián)合開發(fā)了NVLink總線,號稱帶寬是PCI-E總線的5-12倍,,AMD也在開發(fā)自家的架構(gòu)互聯(lián)技術(shù),,帶寬超過100GB/s。

  無論AMD還是NVIDIA,,他們開發(fā)的新總線技術(shù)帶寬可以輕松超過100GB/s,,這對服務(wù)器產(chǎn)品很有用,但對桌面市場有什么意義呢,?值得發(fā)燒友關(guān)注的就是多卡互聯(lián)技術(shù),,目前AMD、NVIDIA最多能做到的也就是4卡SLI/CF交火,,有了NVLink這樣的技術(shù),,8卡SLI或者CF都是有可能的。

  4,、GPU架構(gòu),、工藝升級:不僅拼性能,效能更重要

  說完了CPU處理器,,我們也不能忽視GPU處理器,。作為當(dāng)前PC中功耗最高的一部分,,顯卡對游戲性能影響至關(guān)重要,但在性能越高=功耗越高這條路上,,顯卡也面臨一個選擇——NVIDIA的Maxwell架構(gòu)證明了顯卡性能增長的同時,,能耗也可以很低。2016年的GPU不僅要性能,,更重要的是效能,,我們要看到還是每瓦性能比。

  在Maxwell架構(gòu)之后,,NVIDIA將推出新一代的Pascal架構(gòu),。根據(jù)官方在GTC 2015年大會上公布的資料,Pascal顯卡將支持3D Memory顯存,,容量,、帶寬可達(dá)普通顯存的2-4倍,而顯卡只有標(biāo)準(zhǔn)PCI-E顯卡的1/3大小,。

  至于AMD,,由于目前的R200、R300系列顯卡大都還在使用GCN架構(gòu)改款,,制程工藝還是28nm工藝,,能效方面已經(jīng)落后NVIDIA的Maxwell架構(gòu)了,所以2016年AMD也會在GPU領(lǐng)域有大動作——推出了GCN 4.0架構(gòu)Polaris,,制程工藝升級到14/16nm FinFET,,同時會搭配HBM 2顯存,號稱每瓦性能比提升一倍,。

  AMD還實際演示了Polaris顯卡的能效優(yōu)勢,,之前使用用Polaris架構(gòu)的一款中端顯卡跟NVIDIA的GTX 950做了對比,同樣是在1920x1080 60fps的性能上,,Polaris顯卡的整機(jī)功耗是86W,而GTX 950整機(jī)功耗是140W,,可見功耗優(yōu)勢非常非常大,。

  5、新一代高帶寬內(nèi)存:HBM向左,,HMC向右

  2016年GPU要想提高性能,、降低功耗,除了架構(gòu)改進(jìn)之外,,新一代內(nèi)存技術(shù)也功不可沒,,其中AMD在去年的Fury顯卡上首次使用的HBM內(nèi)存就是代表,NVIDIA所說的3D顯存其實也是HBM技術(shù),,不過是HBM 2代技術(shù),。與HBM競爭的則是美光主導(dǎo)的HMC內(nèi)存技術(shù),。

  對于HBM技術(shù),我們之前做過詳細(xì)介紹:AMD詳解HBM顯存:性能遠(yuǎn)超GDDR5,,功耗降50%,,面積小94%。簡單來說,,HBM就是在GDDR5顯存無法繼續(xù)大幅提升頻率的情況下?lián)Q了一種思路,,通過提高總線位寬來提高帶寬,第一代HBM顯存的頻率只有500MHz,,等效1GHz,,遠(yuǎn)低于目前的GDDR5顯存,但帶寬高達(dá)128GB/s,,4顆芯片總計可以帶來512GB/s的帶寬,,遠(yuǎn)高于主流GDDR5顯存。

  2016年HBM 2代也來了,,JEDEC已經(jīng)正式批準(zhǔn)了HBM 2顯存規(guī)范,,相比第一代HBM,HBM 2可堆棧的層數(shù)更多,,單顆容量最高可達(dá)8GB,,頻率也翻倍到2Gbps,帶寬從128GB/s提高到256GB/s,,這樣一來布置4組HBM 2顯存就可以實現(xiàn)32GB容量,、1TB/s的帶寬了,次之也有16GB容量,,1TB/s帶寬,,這正好與NVIDIA之前宣稱的數(shù)據(jù)相符。

  HBM內(nèi)存技術(shù)已經(jīng)得到了SK Hynix,、三星等廠商的支持,,另一個內(nèi)存技術(shù)大腕美光的選擇不同——顯存市場他們繼續(xù)推改良版的GDDR5X,3D堆棧內(nèi)存上則選擇了HMC(Hybrid Memory Cube),,它跟HBM一樣都需要使用TSV工藝連接多層DRAM芯片,。

  性能方面,HMC閃存相比DDR內(nèi)存依然有足夠多的優(yōu)勢,,普通DDR3-1600內(nèi)存雙通道帶寬不過12.8GB/s,,美光之前宣稱HMC的性能是DDR3內(nèi)存的20倍,單通道帶寬就有128GB/s(跟HBM 1代相同),,同時功耗比DDR3減少70%,,占用面積比DDR3減少95%。

  HMC陣營實際上也有Intel、三星等其他公司參與,,但目前力推HMC的基本上只有美光公司,,他們現(xiàn)在推出了2/4GB容量的HMC內(nèi)存,有兩種封裝,,896-Ball BGA封裝的帶寬為160GB/s,,666-Ball BGA封裝的帶寬是120GB/s。

  具體應(yīng)用方面,,HMC在Intel的新一代Xeon Phi加速卡上露過面了,,代號Knights Landing的Xeon Phi加速卡配備了16GB板載緩存,號稱5倍帶寬,、5倍能效于DDR4內(nèi)存,,它就是美光提供的HMC內(nèi)存。

  不過總體來看,,HMC相對HBM來說還有點滯后,,HBM在新一代顯卡上站穩(wěn)腳跟沒問題,未來也會進(jìn)入服務(wù)器等市場,,HMC受到的支持力度不如HBM,,不過3D內(nèi)存技術(shù)現(xiàn)在還是新興事物,現(xiàn)在給HBM,、HMC作出最終判決還有點為時過早,。

  總之,2016年半導(dǎo)體/處理器技術(shù)的進(jìn)步首先要依賴工藝升級,,雖然10nm及7nm工藝還有點遠(yuǎn),,但2016年我們可以預(yù)期新一代處理器全面升級14/16nm FinFET工藝,這比去年的28nm,、20nm工藝已經(jīng)有很大進(jìn)步了,。不論是AMD、Intel的CPU還是AMD,、NVIDIA的GPU,,F(xiàn)inFET工藝都會帶來20%以上的性能提升,30-40%的功耗降低,,最終的CPU/GPU不僅性能更強(qiáng),,功耗也會大幅降低。


本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點,。轉(zhuǎn)載的所有的文章,、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有,。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者,。如涉及作品內(nèi)容,、版權(quán)和其它問題,請及時通過電子郵件或電話通知我們,,以便迅速采取適當(dāng)措施,,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失。聯(lián)系電話:010-82306118,;郵箱:[email protected],。