文獻(xiàn)標(biāo)識碼: A
DOI:10.16157/j.issn.0258-7998.2016.02.008
中文引用格式: 張雷鳴,,劉博,,張金燦. 基于電感源極退化技術(shù)的高線性混頻器設(shè)計[J].電子技術(shù)應(yīng)用,2016,,42(2):32-35.
英文引用格式: Zhang Leiming,,Liu Bo,Zhang Jincan. Design of high linearity mixer using inductive source degeneration[J].Application of Electronic Technique,,2016,,42(2):32-35.
0 引言
隨著工藝技術(shù)的發(fā)展,,CMOS器件的尺寸以及功耗越來越小。為了便于攜帶,,要求用于移動設(shè)備中的射頻集成電路具有較低的功耗,。然而,由于線性度和功耗兩者之間的相互制約,,高線性度設(shè)計逐漸成為目前CMOS射頻集成電路領(lǐng)域研究的重點和熱點[1-4],。
一般而言,由于混頻器的輸入信號功率遠(yuǎn)大于低噪聲放大器的輸入信號功率,,因此射頻接收機的線性度主要受限于混頻器,,并使混頻器的線性度成為其較為重要的考量指標(biāo)。目前,,關(guān)于改進混頻器線性度的技術(shù)已經(jīng)有了較多的研究成果,。文獻(xiàn)[5]通過在晶體管本征柵源電容并聯(lián)電容,降低了三階交調(diào)分量IMD3的幅度,。雖然該技術(shù)改進了三階交調(diào)點IIP3,,但是額外的電容限制了電路的工作頻率。文獻(xiàn)[6]通過在開關(guān)級引入LC濾波電路,,并利用濾波器降低了在本振頻率處開關(guān)級晶體管寄生電容的影響,,實現(xiàn)了開關(guān)級線性度的提高,但改善非常有限,。
本文采用一種全新的線性度提高技術(shù),,通過在跨導(dǎo)放大器級處引入電感源極退化方式的正反饋補償技術(shù),,提高整個混頻器電路的線性度。同時,,通過引入電流注入技術(shù)[7-10],,改善電路的噪聲和增益性能。該混頻器采用TSMC 0.13 μm CMOS工藝設(shè)計,,運用ADS2009U軟件對其進行仿真驗證,,并進行了版圖設(shè)計。仿真結(jié)果表明,,該混頻器在不影響其他指標(biāo)的前提下,,極大地提高了其線性度IIP3指標(biāo),使其達(dá)到8.6 dBm的高線性度,。通過合理優(yōu)化整體參數(shù),,噪聲系數(shù)僅為10.9 dB,增益高達(dá)14 dB,,在同類混頻器設(shè)計中,,性能指標(biāo)較優(yōu),。
1 線性度提高技術(shù)
由于有源混頻器的線性度主要取決于跨導(dǎo)級的線性度,,因此本文在跨導(dǎo)級引入線性提高技術(shù)。圖1給出了本文所采用的跨導(dǎo)級電路圖,,它由M1和M2組成的CMOS反相器,、共柵晶體管M3、電流源M4和退化電感L1~L3組成,。共柵晶體管M3作為輔助放大器,,用于抵消作為主放大器的CMOS反相器所產(chǎn)生的三階交調(diào)分量IMD3。源極退化電感L1和L2用于輸入阻抗的匹配[5],,退化電感L3用于控制正反饋補償中的三階跨導(dǎo)分量,。該電路通過主從放大器產(chǎn)生大小相等、相位相反的IMD3分量,,并在其相加時抵消,,從而改善了混頻器的線性度。
如圖1所示,,輸出電流Iout的大小如下所示:
其中,,I1、I2和I3分別是晶體管M1,、M2和M3的漏極電流,。由于跨導(dǎo)級是電路非線性特性產(chǎn)生的主要因素,將I1,、I2和I3用泰勒級數(shù)展開式表達(dá)如下:
μn是器件的電子遷移率,,COX是柵極單位面積電容量,,VTHN是N型MOSFET的開啟電壓。式(5)的第一項代表偏置電流,,第二項和第三項代表交流信號電流,,第三項產(chǎn)生非線性失真。輸入信號Vgs越大,,MOSFET所產(chǎn)生的非線性失真越明顯,。
為了分析每一個電感源極退化放大器所產(chǎn)生的非線性效應(yīng),圖2給出了包含有退化電感的CMOS模型的電路圖,。其中圖2(a)為共源結(jié)構(gòu)的NMOS,,圖2(b)為共源結(jié)構(gòu)的PMOS,圖2(c)為共柵結(jié)構(gòu)的NMOS,。為了簡化分析,,該模型忽略了對線性度影響較小MOS晶體管二階效應(yīng),如溝道長度調(diào)制效應(yīng),、體效應(yīng),,以及其他的寄生電容效應(yīng)。由圖2可知,,漏電流(I1,、I2和I3)和輸入電壓(VRF)之間的關(guān)系表達(dá)式如下所示:
其中,Vgs1,、Vgs2和Vgs3分別是MOS器件M1,、M2和M3的柵源間電壓。
將式(2)~式(4)和式(7)~式(10)代入到式(1)中可得到[11]:
本文所采用的跨導(dǎo)級的輸出電流包含有基波頻率的二階和三階交調(diào)分量,,較高階次的交調(diào)分量已經(jīng)在計算過程中忽略,。相應(yīng)跨導(dǎo)級的輸入三階交調(diào)點IIP3可被表示為:
其中,一階跨導(dǎo)gm1是跨導(dǎo)級的基本增益,。IMD3主要取決于三階跨導(dǎo),,而三階跨導(dǎo)由退化電感和工藝相關(guān)參數(shù)(k1、k2和k3)決定,。為了便于分析與計算,,僅將式(11)中每個跨導(dǎo)的前三項代入式(12)中,可得:
式(13)中一階跨導(dǎo)gm1的前兩項和第三項分別代表了主從放大器的基本跨導(dǎo)系數(shù),。式(13)表明:為了使混頻器具有基本增益,,必須保證前兩項要大于第三項,而且,,需要合理地設(shè)計退化電感的大小以抵消該跨導(dǎo)級的三階跨導(dǎo)項gm3,,退化電感的取值應(yīng)如下式所示[11]:
上式中電感L1和L2必須采用較小的數(shù)值,主要有三個方面的原因:(1)由于k1和k2是決定跨導(dǎo)級基本增益的主要因素,因此工藝相關(guān)參數(shù)k1和k2應(yīng)相對大于k3,;(2)較大的L1和L2使得式(13)的分母增加,,惡化了跨導(dǎo)級的IIP3,且較大的L1和L2增加了電路芯片的面積,,提高了設(shè)計成本,;(3)L3的電感值基于式(14)進行選取,且鑒于L1,、L2和L3也對電路的輸入阻抗造成影響,,因而在取值的過程中也要兼顧電路的輸入阻抗,使其匹配到50 Ω,。所以通過合理優(yōu)化設(shè)計參數(shù),,本文所采用的跨導(dǎo)級電路可有效減小三階交調(diào)分量,得到較高的IIP3值,。
2 工作原理與性能分析
圖3所示為本文所設(shè)計的混頻器電路圖,,該混頻器基于折疊拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),其主要由四部分組成:跨導(dǎo)級(M1~M3),、開關(guān)級(M4~M5),、負(fù)載級(RL)和電流注入級(M6~M7)。通過引入電流注入結(jié)構(gòu),,改善了混頻器的增益和噪聲特性,。
此混頻器采用TSMC 0.13 μm CMOS工藝設(shè)計,運用ADS2009U軟件對其進行仿真,,并完成了版圖設(shè)計,。如上所述,在保證輸入阻抗匹配的前提下,,盡量選擇較小的L1和L2的電感值,而且L3電感值的選取要滿足式(14)所示的條件,,以抵消該跨導(dǎo)級的三階跨導(dǎo)項gm3,,進而改善電路的線性度。
混頻器工作電壓為1.2 V,,射頻輸入頻率2.45 GHz,,功率-30 dBm;本振頻率2.35 GHz,,功率0 dBm,,工作電流為7.2 mA。輸入三階交調(diào)點的IIP3仿真結(jié)果圖如圖4所示,。在本振功率為0 dBm時,,其為8.6 dBm,線性度指標(biāo)較優(yōu),。圖5和圖6分別給出了噪聲系數(shù)NF和轉(zhuǎn)換增益隨著本振功率變化的仿真結(jié)果,,在本振功率為0 dBm時,,噪聲系數(shù)為10.9 dB,增益為14 dB,。
圖7為該混頻器電路的版圖,,版圖尺寸為0.71 mm×0.62 mm。表1給出了本文所設(shè)計的高線性度混頻器與以往文獻(xiàn)所設(shè)計的混頻器的比較結(jié)果,。為了便于比較,,給出了采用式(15)所示的歸一化FOM指標(biāo)[12]。由該表可見,,本文所設(shè)計的混頻器的綜合性能指標(biāo)最優(yōu),,F(xiàn)OM達(dá)到16.06 dB。
式中,,G為增益,,NF為噪聲系數(shù),P為電路所消耗的功耗,。
3 結(jié)論
本文通過理論分析,,為抵消三階跨導(dǎo)分量,得到更高的線性度提供了設(shè)計方向,。該跨導(dǎo)放大器最終應(yīng)用于折疊結(jié)構(gòu)式混頻器當(dāng)中,,以改善混頻器的線性度,并且通過引入電流注入技術(shù)改善電路的增益和噪聲,。仿真結(jié)果表明,,該混頻器達(dá)到IIP3=8.6 dBm的較高線性度,增益高達(dá)14 dB,,噪聲系數(shù)僅為10.9 dB,。通過與其他相關(guān)研究成果相比較可知,本文所設(shè)計的混頻器歸一化FOM指標(biāo)最優(yōu),,達(dá)到16.06 dB,。
通過采用本文提供基于電感源極退化技術(shù)的高線性跨導(dǎo)放大器設(shè)計方法,并利用TSMC 0.13 μm CMOS工藝完成了某型號UWB射頻通訊芯片中的混頻器單元設(shè)計與仿真,。目前,,該混頻器電路芯片已下線,并利用多項目晶圓合作MPW項目進行了流片,。
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