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恩智浦突破固態(tài)射頻能量極限

2017-07-11

  新型晶體管為915MHz應用提供750W CW

  邁阿密–2017年6月20日(IMPI年度微波功率研討會)–全球最大的射頻功率晶體管供應商恩智浦半導體(NXP Semiconductors N.V.)(納斯達克代碼:NXPI)今日宣布推出業(yè)內面向915MHz應用的最高功率晶體管,。MRF13750H晶體管提供750W連續(xù)波(CW),,比目前市場上同類產品高出百分之五十,。MRF13750H晶體管基于50V硅技術LDMOS,,突破了半導體射頻功率放大器的極限,使之成為在高功率工業(yè)系統(tǒng)中替代真空管的極具吸引力的產品,。

  這款晶體管簡單易用,,極大方便了微波發(fā)生器設計人員。與真空管時代的技術(如磁控管)相比,,MRF13750H具有卓越的精度,、控制性和可靠性。MRF13750H支持在0至750W的全動態(tài)范圍內進行精確的功率控制,,并可實現頻移,,有助于精確地使用射頻能量。而且,,MRF13750H的性能隨時間推移下降很小,,能夠運行數十年,降低了總擁有成本,。MRF13750H的工作電壓為50V,,比磁控管更安全。另外,,固態(tài)功率放大器尺寸小,,有助于實現設計冗余和靈活性。

  恩智浦市場射頻功率工業(yè)技術高級總監(jiān)兼總經理Pierre Piel表示:“長期以來,,半導體器件的可靠性和優(yōu)異的控制特性早已得到認同,,但是工業(yè)系統(tǒng)設計人員難以組合多個晶體管來匹配磁控管的功率水平。現在憑借MRF13750H的優(yōu)異性能,,工業(yè)加熱工程師能在非常高功率的系統(tǒng)中使用這種晶體管,。”

  射頻能量聯盟執(zhí)行董事Klaus Werner表示:“鑒于固態(tài)射頻能量作為高效可控的熱源和功率源具有諸多優(yōu)勢,,射頻能量聯盟(RFEA)認為該技術有著不可估量的市場機會,,不僅能夠改善現有的射頻能量應用,而且有助于開發(fā)新的能量應用,。新產品MRF13750H的強大性能無疑將加速行業(yè)向固態(tài)射頻技術的轉型?!?/p>

  這款新晶體管專為工業(yè),、科學和醫(yī)療(ISM)應用而設計,范圍從700MHz至1300MHz,,特別適合工業(yè)加熱/干燥,、固化和材料焊接及顆粒加速器應用。MRF13750H在915MHz時可提供750W CW,,效率為67%,,封裝為3×3.8英寸(7.6×9.7厘米)小封裝,。


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