海，2018年3月14日--應(yīng)用材料公司今日發(fā)布了其市場領(lǐng)先的SEMVision?系列缺陷檢測和分類技術(shù)最新產(chǎn)品,，助力尖端存儲和邏輯芯片的制造商提升生產(chǎn)力,。最新的SEMVision G7系統(tǒng)，是目前市面上唯一具有高分辨率缺陷成像,，以及經(jīng)生產(chǎn)驗(yàn)證,、具有先進(jìn)機(jī)器學(xué)習(xí)智能的DR-SEM*系統(tǒng),。它有助于芯片制造商更快對缺陷進(jìn)行分類，找出根本原因并解決良率問題,。

　　“由于將日趨復(fù)雜的新設(shè)計投入生產(chǎn)的難度越來越大,，芯片制造商正在尋找加快產(chǎn)品面市和實(shí)現(xiàn)最優(yōu)良率的方法?！睉?yīng)用材料公司副總裁兼工藝診斷及控制事業(yè)部總經(jīng)理Ofer Greenberger表示,，“SEMVision G7系統(tǒng)進(jìn)一步拓展了成像能力，可以對關(guān)鍵缺陷進(jìn)行檢測,，包括在晶圓邊緣斜面和側(cè)面位置,。這些地方的缺陷若未能及時發(fā)現(xiàn)，可能會導(dǎo)致芯片的良率下降,。利用全新機(jī)器學(xué)習(xí)算法進(jìn)行實(shí)時自動分類和缺陷分析,，可以確保精準(zhǔn)和一致的工藝控制，加速提升芯片制造商實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的生產(chǎn)工藝,?！?/p>

　　除了獨(dú)特的晶圓邊緣斜面和側(cè)面位置的成像能力之外，SEMVision G7還改進(jìn)了無圖案晶圓的光源和收集系統(tǒng),，實(shí)現(xiàn)了18納米缺陷的光學(xué)檢測,。無圖案晶圓上的缺陷識別和表征,，為芯片制造商提供了表面形貌和材料等信息,，可以幫助確定缺陷的來源并用更快的時間進(jìn)行糾正。

　　Purity? II技術(shù),，是業(yè)內(nèi)唯一經(jīng)全面生產(chǎn)驗(yàn)證的Purity? ADC的技術(shù),。此項技術(shù)拓展了SEMVision G7系統(tǒng)的機(jī)器學(xué)習(xí)能力，使它能夠?qū)W習(xí)工藝變更情況,，并在運(yùn)行過程中調(diào)整自動統(tǒng)計分類引擎,。全新的機(jī)器學(xué)習(xí)能力將工程設(shè)計數(shù)據(jù)與SEM圖像結(jié)合起來，能產(chǎn)生基于位置的缺陷分類,，實(shí)現(xiàn)更準(zhǔn)確的環(huán)境情況輸入,，且加速根本原因的分析。全新的缺陷提取算法,，能夠優(yōu)先分揀出在分類引擎中預(yù)定義的缺陷,，確保至關(guān)重要的缺陷能夠先被突出與顯示出來。通過使用機(jī)器智能學(xué)習(xí)實(shí)現(xiàn)快速準(zhǔn)確的自動缺陷檢測和根本原因分析,，Purity II ADC能夠加快工藝提升并實(shí)現(xiàn)卓越的良率管理,。

　　關(guān)于應(yīng)用材料公司

　　應(yīng)用材料公司（納斯達(dá)克：AMAT）是材料工程解決方案的領(lǐng)導(dǎo)者，全球幾乎每一個新生產(chǎn)的芯片和先進(jìn)顯示器的背后都有應(yīng)用材料公司的身影,。憑借在規(guī)模生產(chǎn)的條件下可以在原子級層面改變材料的技術(shù),，我們助力客戶實(shí)現(xiàn)可能,。應(yīng)用材料公司堅信，我們的創(chuàng)新必能驅(qū)動先進(jìn)科技成就未來,。欲知詳情,，請訪問www.appliedmaterials.com