據(jù)外媒報(bào)道,，三星電子已經(jīng)利用遠(yuǎn)紫外線（EUV）設(shè)備完成了7納米芯片工藝的開發(fā),。最初，這家韓國半導(dǎo)體巨頭計(jì)劃在今年下半年完成這項(xiàng)技術(shù),，但最終它提前六個(gè)月實(shí)現(xiàn)目標(biāo)。

相比10納米工藝,，7納米工藝可以讓產(chǎn)品面積縮小40%,。此外它還能將芯片性能提高10%，在性能相同時(shí)將能耗提高35%,。這意味著,，三星電子將能夠?yàn)橐苿釉O(shè)備、網(wǎng)絡(luò)設(shè)備,、服務(wù)器和加密貨幣采礦業(yè)制造出更先進(jìn)的半導(dǎo)體,。

三星電子一名高管說：“7納米工藝讓移動設(shè)備廠商能夠在設(shè)備中安裝更大的電池，或者是采用更薄的設(shè)計(jì),?！?/p>

三星的這項(xiàng)新技術(shù)將在今年開始投入量產(chǎn)，目前該公司正準(zhǔn)備向高通提供樣品,，以利用新技術(shù)為后者大規(guī)模制造移動應(yīng)用處理器,。高通是三星7納米工藝的首家企業(yè)客戶。

三星也開始了5納米工藝的開發(fā),。在明年,，該公司預(yù)計(jì)將完成這項(xiàng)技術(shù)，并在7納米產(chǎn)品于華城S3產(chǎn)線大規(guī)模量產(chǎn)的同時(shí)完成生產(chǎn)5納米產(chǎn)品的準(zhǔn)備工作,。然后,，目前正在華城市建造的遠(yuǎn)紫外線產(chǎn)線將開始在2020年生產(chǎn)基于7、6,、5納米制程的產(chǎn)品,。