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臺積電、英特爾,、三星的納米制程之爭

2018-10-25
作者:王偉

  隨著格羅方德無限期退出7nm及以下工藝研發(fā),,全球有能力研發(fā)先進工藝的只剩下臺積電英特爾和三星,。過去幾十年里,,英特爾依循摩爾定律,在制程工藝技術上一路領先,,但是10nm工藝遲遲難產(chǎn),,近期宣告將延期到明年底。反觀競爭對手三星和臺積電,,在14/16nm節(jié)點之后好像開掛一樣,,10nm工藝都已經(jīng)量產(chǎn)商用,其中臺積電更是拿下了華為麒麟970,、蘋果A11,,三星則搞定了高通驍龍845。最近也相繼曝光7nm工藝研制成功,。這是否意味著半導體代工市場新格局已定,?英特爾真的沒機會逆襲了嗎,?

  在回答這個問題之前,讓我們來深究一下三大代工廠的最新進展,。

  臺積電:率先量產(chǎn) 一路領先

  臺積電方面日前表示7nm制程的芯片已開始量產(chǎn),,同時5nm制程將會在2019年年底或2020年年初投入量產(chǎn)。目前蘋果的A12及華為海思麒麟980處理器,,都是由臺積電的7納米制程所生產(chǎn),。除了移動處理器之外,AMD的7納米制程CPU及GPU,,聯(lián)發(fā)科的5G基帶芯片和高通英偉達的產(chǎn)品也都將使用臺積電的7納米高效能制程,,預計在今年年底之前,用上臺積電7nm工藝制程的芯片將會超過50款,。據(jù)臺積電公布的數(shù)據(jù),,今年9月份營收949.22億新臺幣,環(huán)比增長4.2%,,同比增長了7.2%,,是近年來單月第二高水平??梢哉f在7nm制程上,,臺積電比三星、英特爾都要搶先一步,。

  不僅如此,,臺積電還規(guī)劃了5nm以及3nm工藝,其中5nm工藝投資計劃超過250億美元,,預計2019年試產(chǎn),,2020年量產(chǎn),而3nm工藝計劃投資約為200億美元,,2020年開始建廠,,2021年完成設備安裝,預計2022年底到2023年初量產(chǎn),。

  三星:激進派的代表

  作為芯片代工行業(yè)的后來者,,三星是“全球IBM制造技術聯(lián)盟”中激進派的代表,早早就宣布了7nm時代將采用EUV,。今年4月,,三星剛剛宣布已經(jīng)完成了7nm新工藝的研發(fā),并成功試產(chǎn)了7nm EUV晶元,,比原進度提早了半年,。在2018年年會上,三星官方宣稱高通驍龍5G SoC采用的正是三星7nm LPP工藝,同時表示,,基于EUV技術的7nm制程工藝會在接下來幾個季度內(nèi)大規(guī)模量產(chǎn)(初期EUV僅用于選擇層)。

  除了一步到位的7nm EUV外,,三星還規(guī)劃了一種8nm制程,。這個制程實際上是使用DUV光刻+多重曝光生產(chǎn)的7nm制程,繼承所有10nm工藝上的技術和特性,。由于DUV光刻的分辨率較差,,因而芯片的電氣性能不如使用7nm EUV,所以三星為其商業(yè)命名為8nm,。從這一點來看,,8nm相比現(xiàn)有的10nm,很可能在晶體管密度,、性能,、功耗等方面做出了終極的優(yōu)化,基本上可看做深紫外光刻下的技術極限了,。

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  三星將FinFET技術的極限發(fā)揮到5nm LPE和4nm LPP,,計劃2019年風險試產(chǎn)。不過到了3nm時代,,芯片越做越小,,電流信道寬度不斷變窄,難以控制電流方向,,三星提出了GAAFET方案,,定于2020年早些時候試產(chǎn)。

  英特爾:追求真正的7nm

  在英特爾看來,,在一個固定的芯片面積上,,能夠塞進更多的晶體管,則意味著擁有更多的特性和功能,,而不是一味的追求新一代工藝制程,。在英特爾看來,競爭對手臺積電,、三星只是鉆了工藝命名的空子,。

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  在一次活動上,英特爾曾史無前例地從鰭片間距,、柵極間距,、最小金屬間距、邏輯單元高度,、邏輯晶體管密度等技術指標出發(fā),,直接給出數(shù)據(jù)列表進行對比,以此表明英特爾的14nm生產(chǎn)工藝與三星目前的10nm生產(chǎn)工藝相當,,而英特爾的10納米則要領先臺積電,、三星等其他10nm整整一代--也就是3年時間,。。

  據(jù)《天下》10 月初在美國采訪一位不愿具名的英特爾董事會成員表示,,根據(jù)原始的摩爾定律,,每個新技術世代的電路密度應該是前一代的兩倍,但臺積電卻「投機取巧」,。 根據(jù)官方數(shù)據(jù),,臺積電 7 奈米的邏輯電路密度只達到前一代 10 奈米制程的 1.6 倍。而英特爾希望滿足最嚴苛的摩爾定律,,大幅縮小晶體管體積的同時,,還在制程導入全新材料,希望一步到位,,實現(xiàn)真正的7nm,。

  英特爾曾在 2017 年的美國 IEDM 研討會上宣布將部分導線層材料從原先的銅換成鈷,周邊的低介電材質也將更換,,可以大幅提升性能及耐用度,。結果,英特爾「雙管齊下」策略的量產(chǎn)難度比預期高上許多,,導致預定時程一再跳票,,反而落后臺積電。

  一位外資分析師也證實此事,。 他表示,,英特爾一開始訂的微縮倍率甚至略高于兩倍,但因為屢試不成,,最近已經(jīng)將標準放寬,,因此傳出可能提早在明年中量產(chǎn)。 但產(chǎn)品的性能可能僅與臺積電 7nm接近,。

  然而,,一旦英特爾度過難關,因為已經(jīng)過導入新材料的學習曲期,,下一代產(chǎn)品仍有可能反敗為勝,,這位英特爾董事透露英特爾7nm會比臺積電5nm強很多。


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