技術改變世界,,但世界同時也在埋葬技術。
來自外媒的消息報道說,預計到2018年底,臺積電用7nm工藝完成流片的芯片設計將超過50款,而到2019年底會有100多款芯片采用其7nm和增強版7nm EUV極紫外光刻技術,。
阿明觀察分析:搶奪全球芯片代工制造的話語權,臺積電TSMC可謂真的是拼了,。
在此之前,,有消息透露臺積電7nm EVU已經(jīng)完成了芯片流片,7nm EVU相比于7nm DUV晶體管密度提升20%,,同等頻率下功耗可降低6-12%,。
極紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography),常稱作EUV光刻,,極紫外線就是指需要通過通電激發(fā)紫外線管的K極然后放射出紫外線,。
業(yè)界有人曾提到,,EUV 光刻的技術能夠拯救摩爾定律。這是,,EUV光刻機的價格高達一億美金,。目前,全球可以量產(chǎn)7nm工藝制程EUV光刻機的也只有ASML了,。
更有意思的是,,不僅ASML光刻機耗電量驚人。一臺輸出功率為250W的EUV光刻機工作一天,,光是光源這一項,,就會消耗3萬度電。
同時用于ASML的鏡片也是祖?zhèn)鞯?,采用蔡司技術打底,。鏡片材質做到均勻,需幾十年到上百年技術積淀,。德國,,拋光鏡片的工人,祖孫三代在同一家公司的同一個職位,。
話又說回來,,臺積電計劃在2020年大規(guī)模量產(chǎn)7nm EUV,不得不提前布局,,提前投入技術和人才為此而努力,。當然,隨著7nm EUV技術登臺亮相,,早先的28nm工藝利用率自然會大幅度下滑。因此技術創(chuàng)新迭代的同時,,如何打理好老技術的利用價值,,也是對臺積電一個不小的挑戰(zhàn)。(Aming)
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——阿明/撰文——
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