7月2日消息，據媒體報道，2023年末ASML向英特爾交付了首臺High-NA EUV光刻機，業(yè)界普遍認為，High-NA EUV光刻技術將在先進芯片開發(fā)和下一代處理器的生產中發(fā)揮關鍵作用。

不過這種情況最近似乎發(fā)生了變化，各個晶圓代工廠都在減少對High-NA EUV依賴，并且延后引入新技術的時間。

近日投資機構下調ASML目標股價，從每股795歐元降至759歐元，降幅約5%，同時調低了2026-2027年的收益預期。不過，機構仍維持“買入”評級，認為ASML長期增長邏輯未變。

此次股價預期調整的核心原因在于High-NA EUV（高數值孔徑極紫外光刻機）需求不及預期。美國銀行預測，ASML 2026年High-NA EUV出貨量或僅4臺，較此前預期減少50%。

行業(yè)分析指出，芯片制造技術正轉向新型晶體管結構（如GAAFET、CFET），這些設計通過“環(huán)繞式柵極”和蝕刻工藝優(yōu)化性能，降低了對光刻精度的依賴。因此，晶圓廠可能延后High-NA EUV的采用時間，轉而優(yōu)化現有EUV設備的使用效率。

盡管短期面臨High-NA EUV需求調整，但投資機構對ASML的長期前景仍持樂觀態(tài)度。AI芯片（如GPU、AI加速器）的爆發(fā)式增長推動先進制程需求，而ASML的EUV技術仍是3nm及以下工藝的關鍵設備。