隨著Globalfoundries公司無限期退出7nm及以下工藝研發(fā),，全球有能力研發(fā)先進工藝的只剩下英特爾、臺積電及三星,，其中英特爾公司是過去幾十年中半導(dǎo)體工藝最強大的公司,，但是現(xiàn)在他們的10nm工藝都延期到明年底，臺積電,、三星的7nm已經(jīng)或者即將量產(chǎn),。英特爾在制程工藝上的延期不只是影響10nm及未來的7nm工藝，更重要的是英特爾使用EUV光刻工藝也面臨不確定性,，分析稱2021年底英特爾都不太可能用上EUV工藝,，而臺積電、三星明年的7nm改進版工藝就會用上EUV工藝,。

　　?？闯芫W(wǎng)的讀者應(yīng)該知道EUV光刻機對7nm及以下的工藝節(jié)點非常重要,，目前全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的就只有荷蘭ASML公司了，而EUV光刻機研發(fā)已經(jīng)有二十多年歷史了,，現(xiàn)在的EUV光刻機雖然已經(jīng)量產(chǎn)出貨,，但在產(chǎn)能還達不到要求，所以臺積電首先推出了不使用EUV光刻工藝的第一代7nm,，預(yù)計明年的7nm+增強版工藝上才會使用EUV光刻工藝,。

　　在EUV光刻機上，三星是最激進的一家,，直接在7nm工藝上首發(fā)EUV工藝,，但這也導(dǎo)致三星的7nm工藝難度高，進展比臺積電更慢,，臺積電今年中就開始量產(chǎn)7nm芯片,，三星的7nm EUV工藝預(yù)計要到明年初才能正式量產(chǎn)，而且客戶數(shù)量遠低于臺積電的50多家,。

　　GF公司原本也在第二代7nm工藝上使用EUV工藝,，不過他們現(xiàn)在退出了7nm工藝的研發(fā)、生產(chǎn),，EUV光刻機也用不上了,，不知道會如何處理他們的EUV光刻機及之前的ASML光刻機訂單。

　　在EUV工藝上,，英特爾還是最早投入研發(fā)資源的半導(dǎo)體公司之一,，但是現(xiàn)在英特爾的不確定性也是最大的，前幾年英特爾還表態(tài)他們并不依賴EUV工藝,，即便沒有EUV光刻機也懂得如何制造7nm工藝的芯片,，這番豪言已經(jīng)是2014年的事了。

　　現(xiàn)在英特爾最大的麻煩不是EUV光刻工藝,，他們首先要解決的是10nm工藝的量產(chǎn),，將良率提高到可以接受的程度，在2019年底正式推出基于10nm工藝的處理器,，而在2020年才有可能大規(guī)模生產(chǎn)出移動,、桌面、服務(wù)器版的10nm芯片,。

　　英特爾的7nm工藝尚在研發(fā)中,，英特爾透露的消息非常少，此前只是表態(tài)稱7nm工藝上吸取了10nm工藝的教訓(xùn),，不搞太浮夸的指標(biāo)以便降低量產(chǎn)難度,。至于EUV工藝，英特爾官方?jīng)]有正式表態(tài)呢,，EETiems上周在報道中援引伯恩斯坦分析師Mark Li的消息稱英特爾還在等待EUV技術(shù)更加成熟,，在2021年底之前不會將EUV工藝納入到其工藝技術(shù)中去,。

　　這個分析意味著英特爾至少要在三年后才能用上EUV工藝，即便2021年末真的推出了EUV工藝,，那也意味著英特爾在這個技術(shù)進度上落后臺積電,、三星公司兩年時間，盡管英特爾的決定可能更成熟一些,，在新工藝技術(shù)問題沒解決之前上EUV工藝可能會引入額外的風(fēng)險,。