《電子技術(shù)應(yīng)用》
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帶隙基準(zhǔn)源單粒子敏感性分析
2018年電子技術(shù)應(yīng)用第12期
隋成龍,,韓旭鵬,,王 亮,,劉家齊,,李同德,,曹煒亦,,趙元富
北京微電子技術(shù)研究所,,北京100076
摘要: 基于一款0.18 μm工藝下常規(guī)設(shè)計(jì)帶隙基準(zhǔn)源,,使用單粒子瞬態(tài)脈沖電流模型分析了常見CMOS兩級(jí)放大器的單粒子敏感性,。對(duì)于帶隙基準(zhǔn)源中使用的垂直型PNP管使用TCAD軟件建立了三維模型,,并通過仿真驗(yàn)證了其應(yīng)用在帶隙基準(zhǔn)源中的單粒子敏感性。最后,,針對(duì)帶隙基準(zhǔn)源單粒子敏感特性,,提出了整體加固建議。
中圖分類號(hào): TN406
文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼: A
DOI:10.16157/j.issn.0258-7998.183103
中文引用格式: 隋成龍,,韓旭鵬,,王亮,等. 帶隙基準(zhǔn)源單粒子敏感性分析[J].電子技術(shù)應(yīng)用,,2018,,44(12):5-8.
英文引用格式: Sui Chenglong,Han Xupeng,,Wang Liang,,et al. Single event sensitivity analysis of bandgap reference[J]. Application of Electronic Technique,2018,,44(12):5-8.
Single event sensitivity analysis of bandgap reference
Sui Chenglong,,Han Xupeng,Wang Liang,,Liu Jiaqi,,Li Tongde,Cao Weiyi,,Zhao Yuanfu
Beijging Microelectronics Technology Institute,,Beijing 100076,China
Abstract: Based on the conventional design of bandgap reference using 0.18 μm process, the single event transient pulse current model was used to analyze the single event sensitivity of common CMOS two-stage amplifiers. The vertical type PNP transistor used in the bandgap reference was modeled using TCAD software, and its single event sensitivity in the bandgap reference source was verified by simulation. In the end, the radiation hardened bandgap reference was proposed.
Key words : SET,;bandgap reference,;vertical PNP

0 引言

    隨著集成電路特征尺寸的不斷減小,單粒子效應(yīng)越來越成為影響空間集成電路工作狀態(tài)的主要因素,,單粒子瞬態(tài)(Single Event Transient,,SET)已經(jīng)成為集成電路軟錯(cuò)誤的主要來源[1]。目前模擬集成電路的精度越來越高,速度越來越快,,即使微小的電壓擾動(dòng)也會(huì)對(duì)模擬電路造成非常大的影響,,進(jìn)而造成整個(gè)系統(tǒng)的失常。模擬電路對(duì)于單粒子效應(yīng)引入的噪聲和擾動(dòng)十分敏感,,在模擬集成電路中SET效應(yīng)是所有單粒子效應(yīng)中最需要進(jìn)行加固消減的[2],。

    在模擬集成電路中,帶隙基準(zhǔn)源結(jié)構(gòu)被用來為電路提供一個(gè)與溫度無關(guān)的偏置電壓,,是模擬集成電路的基本模塊之一,。在常見的如LDO電路、PLL電路及數(shù)模轉(zhuǎn)換電路中,,廣泛應(yīng)用了帶隙基準(zhǔn)源設(shè)計(jì),。分析帶隙基準(zhǔn)源的單粒子敏感特性,對(duì)模擬集成電路加固具有重要意義,。本文通過采用單粒子瞬態(tài)脈沖電流模型對(duì)一款常規(guī)帶隙基準(zhǔn)源電路進(jìn)行了敏感節(jié)點(diǎn)分析,,對(duì)于帶隙基準(zhǔn)源中使用的PNP雙極管進(jìn)行了三維建模并且仿真驗(yàn)證了其單粒子敏感特性。最后,,針對(duì)帶隙基準(zhǔn)源提出了抗單粒子瞬態(tài)加固設(shè)計(jì),。

1 帶隙基準(zhǔn)源基本結(jié)構(gòu)

    本文的帶隙基準(zhǔn)源電路采用了基本的Kuijk帶隙基準(zhǔn)源結(jié)構(gòu)[3-4]。其主體結(jié)構(gòu)如圖1所示,。通過調(diào)節(jié)電阻R2和R3的比值以及PNP管偏置電流的比值得到一個(gè)具有零溫度系數(shù)的1.2 V參考電壓[4],。

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    對(duì)于此帶隙基準(zhǔn)源其主體為提供“鉗位”功能的放大器電路。在此帶隙基準(zhǔn)源中使用了典型的兩級(jí)放大器,,其開環(huán)單位增益帶寬約為7 MHz,。放大器的主體結(jié)構(gòu)及其電流偏置電路如圖2所示,其偏置電路功能為提供放大器正常工作所需的偏置電流,。

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2 帶隙基準(zhǔn)源單粒子敏感節(jié)點(diǎn)分析

    在輻射環(huán)境中的高能粒子入射集成電路,,影響器件的敏感區(qū)域,在入射軌跡周圍將產(chǎn)生大量電子空穴對(duì),,當(dāng)電子空穴對(duì)被器件進(jìn)一步收集,,將形成瞬態(tài)脈沖,沿著通路向下傳播,,在電路的總輸出端將產(chǎn)生瞬態(tài)的波動(dòng)變化曲線,,這種電路中的瞬態(tài)脈沖被稱為單粒子瞬態(tài)效應(yīng)。一般來說,,當(dāng)PMOS管或者NMOS管處于關(guān)閉狀態(tài)時(shí),,其漏極和阱之間將形成反偏PN結(jié),此時(shí)當(dāng)單粒子打入后,,反偏PN結(jié)的耗盡區(qū)將會(huì)快速收集單粒子電荷,,形成瞬態(tài)脈沖電流,,從而導(dǎo)致電路狀態(tài)的變化。通常來說,,單粒子瞬態(tài)脈沖電流模型是用于仿真集成電路單粒子敏感性的主要工具[5],,如圖3所示。當(dāng)電路受到單粒子轟擊后,,過剩載流子在耗盡區(qū)電場影響下進(jìn)行漂移和擴(kuò)散,,形成電流脈沖。使用單粒子瞬態(tài)電流脈沖模型,,可以半定量地分析單粒子瞬態(tài)效應(yīng)對(duì)于電路的影響,,即對(duì)整個(gè)電路進(jìn)行單粒子敏感性分析,進(jìn)而為電路級(jí)的輻射加固設(shè)計(jì)提供參考,。

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    將相同的脈沖電流分別注入電路中的各個(gè)節(jié)點(diǎn),,通過記錄輸出電壓的擾動(dòng)程度和恢復(fù)時(shí)間可以對(duì)比找出單粒子敏感節(jié)點(diǎn)?;诖怂枷耄瑢?duì)帶隙基準(zhǔn)源的放大電路進(jìn)行單粒子模擬注入,,如圖2中所示,,分別對(duì)放大器各節(jié)點(diǎn)進(jìn)行瞬態(tài)脈沖電流注入, 脈沖電流總注入電荷約為2.02 pC,。其結(jié)果如表1所示,。

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    由表1可知,對(duì)于放大器的主體結(jié)構(gòu)來說其對(duì)注入的單粒子瞬態(tài)脈沖電流較為敏感,。其中,,第一級(jí)放大器的輸出節(jié)點(diǎn)O及第二級(jí)的輸出節(jié)點(diǎn)P,其對(duì)單粒子瞬態(tài)脈沖電流的響應(yīng)最為強(qiáng)烈,。

3 帶隙基準(zhǔn)源中垂直型PNP管建模及單粒子效應(yīng)仿真

    對(duì)于帶隙基準(zhǔn)源中使用的PNP器件,,此前文獻(xiàn)中對(duì)其研究較少。在帶隙基準(zhǔn)源中,,由于其決定了放大器的輸入,,因此,對(duì)其的PNP的單粒子敏感性分析十分重要,。然而,,現(xiàn)有的文獻(xiàn)并無適用于二極管接法垂直型PNP管單粒子效應(yīng)分析的電路級(jí)模型,為了更好地分析PNP管的單粒子敏感性,,選擇使用TCAD軟件對(duì)其進(jìn)行建模,,進(jìn)行全三維仿真。圖4所示是根據(jù)0.18 μm工藝庫里的Spice模型建立的垂直PNP模型,,其發(fā)射極面積為25 μm2,。

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    在設(shè)計(jì)的帶隙基準(zhǔn)源電路中,垂直PNP雙極管基極集電極相連,如圖1所示,。為了進(jìn)一步分析其單粒子行為,,簡化仿真復(fù)雜度,加快仿真速度,,采用了如圖5所示的簡化小電路,。使用TCAD中的單粒子模型模擬轟擊小電路中PNP管時(shí),其發(fā)射極電位變化如圖6所示,。單粒子打在PNP上,,大量的電荷將被集電結(jié)耗盡區(qū)收集,基極和集電極產(chǎn)生較大電流,,而由于發(fā)射極和較大的電阻串聯(lián),,在其通路上電流較小,因此發(fā)射極將會(huì)產(chǎn)生一個(gè)持續(xù)約1 ns的電壓擾動(dòng),,電位從0.64 V降至0.29 V,。而過剩載流子只能通過集電結(jié)進(jìn)行消耗,基極與集電極電流為發(fā)射極電流的幾十倍,,如圖6所示,。

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    在實(shí)際的電路中,帶隙基準(zhǔn)源的放大器輸入阻抗較大,,且其開環(huán)增益帶寬只有7 MHz,,反應(yīng)時(shí)間較慢,當(dāng)單粒子打入后,,由輸出電壓經(jīng)反饋電阻提供到PNP的電流較小,,使得發(fā)射極電位無法快速恢復(fù),造成較長時(shí)間的不穩(wěn)定工作狀態(tài),。因此,,將TCAD中得到的PNP單粒子行為模型提取出來,將其簡化為一個(gè)向下拉0.5 V的持續(xù)3 ns的瞬時(shí)電壓脈沖,,如圖7所示,。

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    利用此設(shè)計(jì),在電路級(jí)上分析PNP單粒子敏感性對(duì)帶隙基準(zhǔn)源的影響,。對(duì)帶隙基準(zhǔn)源的輸入節(jié)點(diǎn)M,、N,如圖1所示,,分別添加脈沖電壓源,,模擬單粒子效應(yīng)對(duì)PNP管造成的影響。對(duì)于其仿真結(jié)果如圖8所示,,當(dāng)脈沖電壓源添加在N節(jié)點(diǎn)上,,帶隙基準(zhǔn)源的輸出降低至1.04 V左右,,持續(xù)約500 ns。因此帶隙基準(zhǔn)源結(jié)構(gòu)中,,PNP管也是十分敏感的器件,。

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4 帶隙基準(zhǔn)源加固設(shè)計(jì)

    由前文的分析可知,常規(guī)帶隙基準(zhǔn)源中存在多個(gè)單粒子敏感節(jié)點(diǎn),,且在帶隙基準(zhǔn)源中使用的垂直PNP器件也是對(duì)單粒子十分敏感的器件,。對(duì)于帶隙基準(zhǔn)源,如果對(duì)每一敏感節(jié)點(diǎn)都進(jìn)行相應(yīng)的加固設(shè)計(jì),,勢必會(huì)對(duì)整體電路性能造成影響,,且其復(fù)雜度大,因此,,在帶隙基準(zhǔn)源的實(shí)際應(yīng)用中使用了如圖9所示的加固設(shè)計(jì),。在帶隙基準(zhǔn)源的輸出端添加RC濾波電路,當(dāng)帶隙基準(zhǔn)源輸出電壓發(fā)生變化時(shí),,流經(jīng)RC濾波電路的瞬態(tài)電流將被電容收集,,使帶隙輸出電壓緩慢變化。

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5 結(jié)論

    本文針對(duì)一款常規(guī)帶隙基準(zhǔn)源電路,,使用單粒子瞬態(tài)脈沖電流模型進(jìn)行了單粒子敏感性分析,。分析發(fā)現(xiàn),在放大器電路中,,其輸出節(jié)點(diǎn)對(duì)于單粒子瞬態(tài)極為敏感,,當(dāng)單粒子打入時(shí),,產(chǎn)生的瞬態(tài)電流將影響其輸出電壓,,進(jìn)而影響下一級(jí)電路輸出。并且,,創(chuàng)新性地通過TCAD仿真,,驗(yàn)證了帶隙基準(zhǔn)源中使用的垂直型PNP雙極管的單粒子敏感性。對(duì)于PNP管,,在單粒子的作用下,,帶隙基準(zhǔn)源輸出將會(huì)出現(xiàn)較明顯的擾動(dòng)。最后,,針對(duì)帶隙基準(zhǔn)源的單粒子敏感特性,,提出了整體加固設(shè)計(jì)建議。

參考文獻(xiàn)

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[2] POPP J D.Developing radiation hardened complex system on chip ASICs in commercial ultra-deep submicron CMOS processes[C].2010 IEEE Nuclear and Space Radiation Effects Conference Short Course,,Denver,Jul.2010.

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[4] BROKAW A P.A simple three terminal IC bandgap reference[J].IEEE Journal of Solid-State Circuit,,1974,1(9):388-393.

[5] NASHIYAMA I,,HIRAO T,,KAMIYA T, et al.Single-event current transients induced by high energy ion microbeams[J].IEEE Transactions on Nuclear Science,1993,,40(6):1935-1940.



作者信息:

隋成龍,,韓旭鵬,王  亮,,劉家齊,,李同德,曹煒亦,,趙元富

(北京微電子技術(shù)研究所,,北京100076)

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