近來有網(wǎng)絡媒體稱,,“中微半導體自主研制的5納米等離子體刻蝕機,性能優(yōu)良,,將用于全球首條5納米芯片制程生產(chǎn)線”,,并評論說“中國芯片生產(chǎn)技術(shù)終于突破歐美封鎖,第一次占領(lǐng)世界制高點”“中國彎道超車”等等,。
中微公司的刻蝕機的確水平一流,,但夸大闡述其戰(zhàn)略意義,則被相關(guān)專家反對,??涛g只是芯片制造多個環(huán)節(jié)之一??涛g機也不是對華禁售的設備,,在這個意義上不算“卡脖子”。
首先,,外行容易混淆“光刻機”和“刻蝕機”,。光刻機相當于畫匠,刻蝕機是雕工,。前者投影在硅片上一張精細的電路圖(就像照相機讓膠卷感光),,后者按這張圖去刻線(就像刻印章一樣,腐蝕和去除不需要的部分),。
光刻機是芯片制造中用到的最金貴的機器,,要達到5納米曝光精度難比登天,,ASML公司一家通吃高端光刻機;而刻蝕機沒那么難,,中微的競爭對手還有應用材料,、泛林、東京電子等等,,國外巨頭體量優(yōu)勢明顯,。
“中微的等離子刻蝕機這幾年進步確實不小,”科技日報記者采訪的一位從事離子刻蝕的專家說,,“但現(xiàn)在的刻蝕機精度已遠超光刻機的曝光精度,;芯片制程上,刻蝕精度已不再是最大的難題,,更難的是保證在大面積晶圓上的刻蝕一致性,。”
該專家解釋說,,難在如何讓電場能量和刻蝕氣體都均勻地分布在被刻蝕基體表面上,,以保證等離子中的有效基元,在晶片表面的每一個位置實現(xiàn)相同的刻蝕效果,,為此需要綜合材料學,、流體力學、電磁學和真空等離子體學的知識,。
該專家說:“刻蝕機更合理的結(jié)構(gòu)設計和材料選擇,,可保證電場的均勻分布??涛g氣體的饋入方式也是關(guān)鍵之一,。據(jù)我所知,中微尹志堯博士的團隊在氣體噴淋盤上下過不少的功夫,。另外包括功率電源,、真空系統(tǒng)、刻蝕溫度控制等,,都影響刻蝕結(jié)果,。”
另外,,該專家也指出,,刻蝕機技術(shù)類型很多,中微和他們的技術(shù)原理就有很大區(qū)別,,至于更詳細的技術(shù)細節(jié),,是每個廠家的核心機密。
順便一提:刻蝕分濕法(古代人就懂得用強酸去刻蝕金屬,,現(xiàn)代工藝用氟化氫刻蝕二氧化硅)和干法(如用真空中的氬等離子體去加工硅片),?!皾穹ǔ霈F(xiàn)較早,一般用在低端產(chǎn)品上,。干法一般是能量束刻蝕,,離子束、電子束,、激光束等等,,精度高,無污染殘留,,芯片制造用的就是等離子刻蝕,。”該專家稱,。
上述專家稱贊說,,尹博士以及中微的核心技術(shù)團隊,基本都是從國際知名半導體設備大廠出來的,,尹博士原來就在國外獲得了諸多的技術(shù)成就,。中微不斷提高改進,逐步在芯片刻蝕機領(lǐng)域保持了與國外幾乎同步的技術(shù)水平,。
在IC業(yè)界工作多年的電子工程師張光華告訴科技日報記者:“一兩年前網(wǎng)上就有中微研制5納米刻蝕機的報道,。如果能在臺積電應用,的確說明中微達到世界領(lǐng)先水平,。但說中國芯片‘彎道超車’就是夸大其詞了?!?/p>
“硅片從設計到制造到封測,,流程復雜??涛g是制造環(huán)節(jié)的工序之一,,還有造晶棒、切割晶圓,、涂膜,、光刻、摻雜,、測試等等,,都需要復雜的技術(shù)。中國在大部分工序上落后,?!睆埞馊A說,“而且,,中微只是給臺積電這樣的制造企業(yè)提供設備,,產(chǎn)值比臺積電差幾個數(shù)量級,。”
科技日報記者發(fā)現(xiàn),,2017年開始網(wǎng)絡上經(jīng)常熱炒“5納米刻蝕機”,,而中微公司一再抗議媒體給他們“戴高帽”。
“不要老把產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提高到政治高度,,更不要讓一些新聞人和媒體搞吸引眼球的不實報導,。”尹志堯2018年表示,,“對我和中微的夸大宣傳搞得我們很被動……過一些時候,,又改頭換面登出來,實在讓我們頭痛,?!?/p>