雖然Intel在10nm工藝上卡殼了,,但是它的對手們卻是突飛猛進(jìn),,勢如破竹;比如臺積電,,前腳才剛宣布5nm EUV工藝試產(chǎn),,后腳又來了個(gè)6nm(N6)工藝官宣。
據(jù)悉,,臺積電新推的6nm制程工藝系7nm基礎(chǔ)上改進(jìn)而來,,號稱在已有7nm(N7)工藝的基礎(chǔ)上大幅度增強(qiáng),可提供極具競爭力的高性價(jià)比,,并能加速產(chǎn)品研發(fā),、量產(chǎn)、上市速度,。
周知,,目前臺積電7nm工藝有兩個(gè)版本,第一代采用傳統(tǒng)DUV光刻技術(shù),,第二代則是首次加入EUV極紫外光刻,,已進(jìn)入試產(chǎn)階段,預(yù)計(jì)下一代蘋果A,、華為麒麟都會用,。而新的6nm工藝也有EUV極紫外光刻技術(shù),聲稱相比第一代7nm工藝可以將晶體管密度提升18%,,同時(shí)設(shè)計(jì)規(guī)則完全兼容第一代7nm,,便于升級遷移,降低成本,。
臺積電6nm預(yù)計(jì)2020年第一季度試產(chǎn),,主要服務(wù)于中高端移動芯片、消費(fèi)應(yīng)用終端,、AI,、網(wǎng)絡(luò)、5G,、高性能計(jì)算芯片等,。
臺積電CEO兼副董事長魏哲家(CC Wei)表示:“絕大多數(shù)7nm工藝客戶,都會轉(zhuǎn)向6nm工藝,,使用率和量產(chǎn)產(chǎn)能都會迅速擴(kuò)大,?!?019年臺積電憑借這兩者合計(jì)可貢獻(xiàn)大約25%的收入。
不過,,大家切忌認(rèn)為臺積電的7nm就一定比Intel的10nm強(qiáng),,不同晶圓加工廠對工藝的標(biāo)準(zhǔn)都不盡相同,叫法當(dāng)然也是五花八門,;目前業(yè)界普遍認(rèn)為臺積電的7nm其實(shí)就差不多等同于Intel的10nm,;但5nm,可能就真的要甩開Intel一大截了,!不過,,確實(shí)這樣的叫法很容易讓普通消費(fèi)者產(chǎn)生誤解,這方面私以為臺積電和三星都耍了滑頭,,Intel有點(diǎn)吃虧,!