《電子技術(shù)應用》
您所在的位置:首頁 > 可編程邏輯 > 業(yè)界動態(tài) > 三大壁壘攻破 我國PLC光分路器芯片占全球市場50%份額

三大壁壘攻破 我國PLC光分路器芯片占全球市場50%份額

2019-05-26
關(guān)鍵詞: PLC 光分路器

  我國光電子芯片,,已在豫北小城鶴壁獲得突破,。其中的PLC光分路器芯片早在2012年就實現(xiàn)國產(chǎn)化,迫使國外芯片在中國市場的價格從每晶圓最高時2400多美元降到100多美元,。目前已占全球市場50%以上份額,。

  pIYBAFzkw0-AWHeYAAFrW2CKXAk613.png

  更了不起的是,,他們研發(fā)的陣列波導光柵(AWG)芯片,在骨干網(wǎng),、高速數(shù)據(jù)中心及5G基站前傳等領域獲重大突破,,其中,骨干網(wǎng)AWG進入相關(guān)領域知名國際設備商供應鏈,,高速數(shù)據(jù)中心及5G應用技術(shù)有望在國際競爭中領跑,。近日,他們已在5G前傳循環(huán)型波分復用,、解復用芯片核心技術(shù)方面,,開始實驗驗證工作。

  攻克光電子芯片三大壁壘

  5月17日,,記者前往鶴壁采訪,。在仕佳光子展廳里,吳遠大介紹,,在目前世界上100多類高端光電子芯片中,,國內(nèi)有兩大類全系列化芯片技術(shù)基本實現(xiàn)國產(chǎn)化。一類是主要應用于光纖到戶接入網(wǎng)中的PLC光分路器芯片,,另一類是主要應用于骨干網(wǎng),、城域網(wǎng)、高速數(shù)據(jù)中心和5G領域的陣列波導光柵芯片,?!斑@兩類芯片,都是我們公司研發(fā)的,?!眳沁h大說。

  今年45歲的吳遠大,,是中國科學院半導體研究所研究員,主要致力于高性能無源光電子材料與器件的應用基礎研究,,同步開展PLC光分路器芯片及陣列波導光柵芯片的產(chǎn)業(yè)化技術(shù)開發(fā)工作,。2011年,,作為我國光電子事業(yè)主要開拓者王啟明院士團隊的一員,他與所里的6個年輕人一起,,來到鶴壁擔任河南仕佳光子科技股份有限公司常務副總裁,,開展院企合作,開啟我國高端光電子芯片的產(chǎn)業(yè)化之路,。

  吳遠大說,,在國家863計劃、973計劃項目資助下,,中科院半導體所對這些芯片已經(jīng)開展了十多年的基礎研究,,但由于三方面原因,此前一直沒有產(chǎn)業(yè)化,。

  一是高質(zhì)量的高折射率差硅基SiOx集成光波導材料基礎薄弱,。微電子技術(shù)中二氧化硅薄膜材料的厚度,一般僅為幾百納米,;而平面集成光波導芯片中,,則要求二氧化硅膜的厚度高達幾個微米,甚至幾十個微米,,要求無龜裂,、無缺陷,且更偏重二氧化硅材料的光傳輸性質(zhì),。國外生長硅基SiOx集成光波導材料的方式主要有兩種:以歐美為代表的化學氣相沉積法(PECVD),,以日本、韓國為代表的火焰水解法(FHD),。PECVD法精度較高,,操控性好;FHD法生長速率快,,產(chǎn)業(yè)化效率更高,,二者各有優(yōu)缺點。而國內(nèi)缺乏相關(guān)應用基礎研究,。

  二是芯片工藝水平達不到芯片產(chǎn)業(yè)化需求,,特別是在整張晶圓的均勻性、穩(wěn)定性方面,,如二氧化硅厚膜的高深寬比和低損耗刻蝕工藝,。

  三是在產(chǎn)業(yè)和市場導向上,過去偏重于買,,拿市場換技術(shù),。

  “我們帶著這些研究成果來到鶴壁,也許是厚積薄發(fā),2011年建立專用研發(fā)生產(chǎn)線,,2012年就完成產(chǎn)業(yè)化工藝技術(shù)開發(fā),,2015年P(guān)LC光分路芯片全球市場份額達到50%。那一年,,我們出貨芯片2000多萬顆,;今年前4個月,每月產(chǎn)量都在200萬顆以上,。國際上芯片產(chǎn)業(yè)化十來年才能走完的路,,我們?nèi)哪昃蛯崿F(xiàn)了?!眳沁h大說,。

  兩大研發(fā)計劃,攻克兩座光電芯片山頭

  在光分路器芯片成功實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化的同時,,他們又把目光投向了陣列波導光柵芯片(AWG)開發(fā),。

  2013年,國家863計劃“光電子集成芯片及其材料關(guān)鍵工藝技術(shù)”項目,,由仕佳光子牽頭承擔,,吳遠大擔任課題負責人。

  他們采用等離子體增強化學氣相沉積和火焰水解法相結(jié)合的二氧化硅厚膜生長原理,,改進厚膜生長設備,,通過對多層結(jié)構(gòu)的二氧化硅材料進行多組分、抗互溶的摻雜,,結(jié)合梯度高溫處理及干法刻蝕工藝制程,,獲得了不同折射率差的低損耗、低應力,、高品質(zhì),、高折射率差SiOx光波導材料,且材料生長效率顯著提升,,彌補了硅基SiOx集成光波導材料基礎薄弱的難題,,為AWG芯片的產(chǎn)業(yè)化打下了堅實基礎。

  進一步,,在國家重點研發(fā)計劃項目“高性能無源光電子材料與器件研究”資助下,,又攻克了多項芯片關(guān)鍵工藝技術(shù),在六英寸硅基/石英基SiOx晶圓工藝的均勻性,、重復性和穩(wěn)定性方面獲得了專利或?qū)S屑夹g(shù),,培養(yǎng)了十多位專項工藝技能人才,實現(xiàn)了芯片工藝能力與產(chǎn)業(yè)化技術(shù)的融合融通,,研制成功的4通道,、8通道及16通道AWG芯片,打破了國外對我國高性能AWG芯片產(chǎn)業(yè)化技術(shù)的長期壟斷,實現(xiàn)了在國際市場上與國外企業(yè)同臺競爭,。

  目前,,項目團隊擁有AWG芯片設計及工藝核心發(fā)明專利十多項,并獲得了2017年度國家科技進步二等獎,,提升了我國下一代(5G)通信主干承載光網(wǎng)絡和光互連建設的核心競爭力。

  開辟高速DFB激光器芯片產(chǎn)業(yè)化新征程

  現(xiàn)在,,仕佳光子又引進中科院半導體所王圩院士團隊,,開始了高速DFB激光器芯片產(chǎn)業(yè)化的新征程。

  兩個院士團隊的13名專家常年駐扎在鶴壁,。鶴壁則以仕佳光子為龍頭,,引進了上海標迪、深圳騰天,、威訊光電等十多家上下游配套企業(yè),,成立了6大省級以上技術(shù)研發(fā)創(chuàng)新平臺。一個有“芯”的“中原硅谷”正在鶴壁崛起,!

  “中國芯片雖然已經(jīng)在個別領域趕上了國外先進水平,,甚至超越了國外技術(shù)?!?但是,,吳遠大說,“整體而言,,要全面追趕上還需要20年,。所以,必須瞄準主要芯片,,全面實現(xiàn)國產(chǎn)化,!”而這正是他們下一步要攻克的目標。


本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉(zhuǎn)載的所有的文章,、圖片,、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認版權(quán)者,。如涉及作品內(nèi)容,、版權(quán)和其它問題,請及時通過電子郵件或電話通知我們,,以便迅速采取適當措施,,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟損失。聯(lián)系電話:010-82306118;郵箱:[email protected],。