眼下，臺(tái)積電和三星都在全力沖刺5nm工藝，這將是7nm之后的又一個(gè)重要節(jié)點(diǎn),，全面應(yīng)用EUV極紫外光刻技術(shù)，提升效果會(huì)非常明顯,，所以都受到了高度重視,。

　　現(xiàn)在，三星的5nm取得了重要進(jìn)展,，來自EDA(電子自動(dòng)化設(shè)計(jì))巨頭Cadence,、Synopsys的全流程設(shè)計(jì)工具已經(jīng)通過了三星5LPE(Low Power Early)工藝的認(rèn)證，可以幫助芯片廠更快速地開發(fā)高效的,、可預(yù)測(cè)的芯片,。

　　本次驗(yàn)證使用的是ARM Cortex-A57、Cortex-A53芯片,，結(jié)果完全符合三星新工藝的需求,，但是三星未透露更具體的指標(biāo)，如核心數(shù),、頻率,、功耗等,。

　　三星5LPE工藝仍然使用傳統(tǒng)FinFET立體晶體管，但加入了新的標(biāo)準(zhǔn)單元架構(gòu),，并同時(shí)使用DUV,、EUV光刻技步進(jìn)掃描系統(tǒng)。

　　由于繼承了舊工藝的部分指標(biāo),，使用三星5LPE工藝設(shè)計(jì)芯片的時(shí)候,，可以重復(fù)使用7LPP IP，同時(shí)享受新工藝的提升,。

　　三星7LPP工藝將是其第一次導(dǎo)入EUV,，但只有少數(shù)光刻層使用，5LPE會(huì)擴(kuò)大使用范圍,，效果更加明顯,。

　　按照三星的說法，5LPE工藝相比于7LPP工藝可以帶來25%的邏輯電路能效提升,，同時(shí)可將功耗降低20%,，或者將性能提升10%。