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CPU工藝逼近1nm 全村的希望就看TA了

2020-02-19
來源:網(wǎng)易科技
關(guān)鍵詞: CPU 臺(tái)積電 三星

  作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司,,荷蘭ASML公司去年出售了26臺(tái)EUV光刻機(jī),主要用于臺(tái)積電,、三星的7nm及今年開始量產(chǎn)的5nm工藝,,預(yù)計(jì)今年出貨35臺(tái)EUV光刻機(jī),。

  目前ASML出貨的光刻機(jī)主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計(jì),,維護(hù)更加便捷,平均維修時(shí)間將從48小時(shí)縮短到8-10小時(shí),,支持7nm,、5nm。

  此外,,NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時(shí)處理晶圓數(shù))提升到了175WPH,。

  不論NXE:3400B還是NXE:3400C,目前的EUV光刻機(jī)還是第一代,,主要特點(diǎn)是物鏡系統(tǒng)的NA(數(shù)值孔徑)為0.33,。

  

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  根據(jù)光刻機(jī)的分辨率公式,NA數(shù)字越大,,光刻機(jī)精度還會(huì)更高,,ASML現(xiàn)在還研發(fā)NA 0.55的新一代EUV光刻機(jī)EXE:5000系列,主要合作伙伴是卡爾蔡司,、IMEC比利時(shí)微電子中心,。

  EXE:5000系列的下一代光刻機(jī)主要面向后3nm時(shí)代,目前三星,、臺(tái)積電公布的制程工藝路線圖也就到3nm,,2nm甚至1nm工藝都還在構(gòu)想中,要想量產(chǎn)就需要新的制造裝備,,新一代EUV光刻機(jī)是重中之重,。

  根據(jù)ASML的信息,,EXE:5000系列光刻機(jī)最快在2021年問世,不過首發(fā)的還是樣機(jī),,真正用于生產(chǎn)還得等幾年,,樂觀說法是2023年或者2024年才有可能看到NA 0.55的EXE:5000系列光刻機(jī)上市。

  

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