ASML正在研發(fā)新一代EUV光刻機EXE：5000系列,，最快會于2021年面世。
據IT之家了解,，現在ASML銷售的光刻機主要為NXE：3400B和改進型的NXE：3400C,，結構上相似。差別在于NXE：3400C采用模塊化設計,，將平均維護時間從48小時縮短到8－10小時,；NXE：3400C的產量也從125WPH提升到了175WPH。這兩款EUV光刻機屬于第一代,，物鏡系統(tǒng)的NA（數值孔徑）為0．33,。
在光刻機的分辨率公式中，NA數字越大,，代表光刻機精度更高,。ASML現在在研發(fā)新一代EUV光刻機EXE：5000系列，NA為0．55,。主要合作伙伴有Carl Zeiss AG和IMEC比利時微電子中心,。
據悉,，EXE：5000系列EUV光刻機主要面向3nm時代，目前臺積電和三星的制程工藝路線圖已經到了3nm,，要想讓技術盡快落地到實際,，EXE：5000系列EUV光刻機的研發(fā)極為重要。
據ASML的爆料,，EXE：5000系列EUV光刻機樣機最快會于2021年面世,，最快可能會于2023年或者2024年上市。
光刻機是目前世界上最復雜的精密設備之一,，芯片制造的核心設備之一,，除了可以用來生產芯片，還有用于封裝的光刻機,、LED制造領域的投影光刻機,。作為全球唯一能生產EUV光刻機的公司——荷蘭ASML公司。去年共銷售26臺EUV光刻機,，用于臺積電,、三星的7nm和5nm工藝制造。
《兵進光刻機,，中國芯片血勇突圍戰(zhàn)》
作者：遠洋
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