ASML正在研發(fā)新一代EUV光刻機EXE：5000系列,，最快會于2021年面世,。

據(jù)IT之家了解,，現(xiàn)在ASML銷售的光刻機主要為NXE：3400B和改進(jìn)型的NXE：3400C,，結(jié)構(gòu)上相似,。差別在于NXE：3400C采用模塊化設(shè)計,，將平均維護(hù)時間從48小時縮短到8－10小時；NXE：3400C的產(chǎn)量也從125WPH提升到了175WPH,。這兩款EUV光刻機屬于第一代,，物鏡系統(tǒng)的NA（數(shù)值孔徑）為0．33。

在光刻機的分辨率公式中,，NA數(shù)字越大,，代表光刻機精度更高。ASML現(xiàn)在在研發(fā)新一代EUV光刻機EXE：5000系列,，NA為0．55,。主要合作伙伴有Carl Zeiss AG和IMEC比利時微電子中心。

據(jù)悉,，EXE：5000系列EUV光刻機主要面向3nm時代,，目前臺積電和三星的制程工藝路線圖已經(jīng)到了3nm，要想讓技術(shù)盡快落地到實際,，EXE：5000系列EUV光刻機的研發(fā)極為重要,。

據(jù)ASML的爆料，EXE：5000系列EUV光刻機樣機最快會于2021年面世,，最快可能會于2023年或者2024年上市,。

光刻機是目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一，芯片制造的核心設(shè)備之一,，除了可以用來生產(chǎn)芯片,，還有用于封裝的光刻機、LED制造領(lǐng)域的投影光刻機,。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的公司——荷蘭ASML公司,。去年共銷售26臺EUV光刻機，用于臺積電,、三星的7nm和5nm工藝制造,。

《兵進(jìn)光刻機，中國芯片血勇突圍戰(zhàn)》

作者：遠(yuǎn)洋