近年來,在人工智能(AI),、5G等推動下,,以MRAM(磁阻式隨機存取存儲器)、鐵電隨機存取存儲器 (FRAM),、相變隨機存取存儲器(PRAM),,以及可變電阻式隨機存取存儲器(RRAM)為代表的新興存儲技術(shù)逐漸成為市場熱點。這些新技術(shù)吸引各大晶圓廠不斷投入,,最具代表性的廠商包括臺積電,、英特爾、三星和格芯(Globalfoundries),。
那么,,這些新興存儲技術(shù)為什么會如此受期待呢?主要原因在于:隨著半導體制造技術(shù)持續(xù)朝更小的技術(shù)節(jié)點邁進,,傳統(tǒng)的DRAM和NAND Flash面臨越來越嚴峻的微縮挑戰(zhàn),,DRAM 已接近微縮極限,而NAND Flash則朝3D方向轉(zhuǎn)型,。
此外,,傳統(tǒng)存儲技術(shù)在高速運算上也遭遇阻礙,處理器與存儲器之間的“墻”成為了提升運算速度和效率的最大障礙,。特別是AI的發(fā)展,,數(shù)據(jù)需求量暴增,“墻”的負面效應(yīng)愈加突出,,越來越多的半導體廠商正在加大對新興存儲技術(shù)的研發(fā)和投資力度,,尋求成本更佳、速度更快,、效能更好的存儲方案,。
從目前來看,最受期待的就是MRAM,,各大廠商在它上面投入的力度也最大,。MRAM屬于非易失性存儲技術(shù),是利用具有高敏感度的磁電阻材料制造的存儲器,,斷電時,,MRAM儲存的數(shù)據(jù)不會丟失,且耗能較低,,讀寫速度快,,可媲美SRAM,,比Flash速度快百倍,在存儲容量方面能替代DRAM,,且數(shù)據(jù)保存時間長,,適合高性能應(yīng)用。
MRAM的基本結(jié)構(gòu)是磁性隧道結(jié),,研發(fā)難度高,,目前主要分為兩大類:傳統(tǒng)MRAM和STT-MRAM,前者以磁場驅(qū)動,,后者則采用自旋極化電流驅(qū)動,。
另外,相較于DRAM,、SRAM和NAND Flash等技術(shù)面臨的微縮困境,,MRAM可滿足制程進一步微縮需求。目前,,DRAM制程工藝節(jié)點為1X nm,,已接近極限,而Flash走到20 nm以下后,,就朝3D制程轉(zhuǎn)型了,。MRAM制程則可推進至10nm以下。
諸神爭霸
在過去幾年里,,包括臺積電,、英特爾、三星,、格芯等晶圓代工廠和IDM,,相繼大力投入MRAM 研發(fā),而且主要著眼于STT-MRAM,,也有越來越多的嵌入式解決方案誕生,,用以取代Flash、EEPROM和SRAM,。
臺積電
早在2002年,,臺積電就與中國臺灣地區(qū)工研院簽訂了MRAM合作發(fā)展計劃。近些年,,該公司一直在開發(fā)22nm制程的嵌入式STT-MRAM,采用超低漏電CMOS技術(shù),。
2018年,,臺積電進行了eMRAM芯片的“風險生產(chǎn)”,2019年生產(chǎn)采用22nm制程的eReRAM芯片,。
2019年,,臺積電在嵌入式非易失性存儲器技術(shù)領(lǐng)域達成數(shù)項重要的里程碑:在40nm制程方面,,該公司已成功量產(chǎn)Split-Gate(NOR)技術(shù),支持消費類電子產(chǎn)品應(yīng)用,,如物聯(lián)網(wǎng),、智慧卡和MCU,以及各種車用電子產(chǎn)品,。在28nm制程方面,,該公司的嵌入式快閃存儲器支持高能效移動計算和低漏電制程平臺。
在ISSCC 2020上,,臺積電發(fā)布了基于ULL 22nm CMOS工藝的32Mb嵌入式STT-MRAM,。該技術(shù)基于臺積電的22nm ULL(Ultra-Low-Leakage)CMOS工藝,具有10ns的極高讀取速度,,讀取功率為0.8mA/MHz/bit,。對于32Mb數(shù)據(jù),它具有100K個循環(huán)的寫入耐久性,,對于1Mb數(shù)據(jù),,具有1M個循環(huán)的耐久性。它支持在260°C下進行90s的IR回流焊,,在150°C下10年的數(shù)據(jù)保存能力,。它以1T1R架構(gòu)實現(xiàn)單元面積僅為0.046平方微米,25°C下的32Mb陣列的漏電流僅為55mA,。
目前,,臺積電已經(jīng)完成22nm嵌入式STT-MRAM技術(shù)驗證,進入量產(chǎn)階段,。在此基礎(chǔ)上,,該公司還在推進16 nm 制程的STT-MRAM研發(fā)工作。
除了MRAM,,臺積電也在進行著ReRAM的研發(fā)工作,,并發(fā)表過多篇基于金屬氧化物結(jié)構(gòu)的ReRAM論文。
本周,,臺灣地區(qū)工研院電光所所長吳志毅表示,,由于新興存儲技術(shù)將需要整合邏輯制程技術(shù),因此現(xiàn)有存儲器廠商要卡位進入新市場,,門檻相對較高,,而臺積電在這方面具有先天優(yōu)勢,因為該公司擁有很強的邏輯制程生產(chǎn)能力,,因此,,臺積電跨入新興存儲市場會具有競爭優(yōu)勢。
據(jù)悉,臺灣地區(qū)工研院在新興存儲技術(shù)領(lǐng)域研發(fā)投入已超過10年,,通過元件創(chuàng)新,、材料突破、電路優(yōu)化等方式,,開發(fā)出了更快,、更耐久、更穩(wěn)定,、更低功耗的新一代存儲技術(shù),,目前,正在與臺積電在這方面進行合作,。未來,,臺積電在新興存儲器發(fā)展方面,工研院將會有所貢獻,,但具體內(nèi)容并未透露,。
三星
三星在MRAM研發(fā)方面算是起步較早的廠商,2002年就開始了這項工作,,并于2005年開始進行STT-MRAM的研發(fā),,之后不斷演進,到了2014年,,生產(chǎn)出了8Mb的eMRAM,。
三星Foundry業(yè)務(wù)部門的發(fā)展路徑主要分為兩條,從28nm節(jié)點開始,,一條是按照摩爾定律繼續(xù)向下發(fā)展,,不斷提升FinFET的工藝節(jié)點,從14nm到目前的7nm,,進而轉(zhuǎn)向下一步的5nm,。
另一條線路就是FD-SOI工藝,該公司還利用其在存儲器制造方面的技術(shù)和規(guī)模優(yōu)勢,,著力打造eMRAM,,以滿足未來市場的需求。這方面主要采用28nm制程,。
三星28nm制程FD-SOI(28FDS)嵌入式NVM分兩個階段,。第一個是2017年底之前的電子貨幣風險生產(chǎn),第二個是2018年底之前的eMRAM風險生產(chǎn),。并同時提供eFlash和eMRAM(STT-MRAM)選項,。
該公司于2017年研制出了業(yè)界第一款采用28FDS工藝的eMRAM測試芯片。
2018年,,三星開始在28nm平臺上批量生產(chǎn)eMRAM,。2019年3月,,該公司推出首款商用eMRAM產(chǎn)品。據(jù)悉,,eMRAM模塊可以通過添加三個額外的掩膜集成到芯片制造工藝的后端,因此,,該模塊不必要依賴于所使用的前端制造技術(shù),,允許插入使用bulk、FinFET或FD-SOI制造工藝生產(chǎn)的芯片中,。三星表示,,由于其eMRAM在寫入數(shù)據(jù)之前不需要擦除周期,因此,,它比eFlash快1000倍,。與eFlash相比,它還使用了較低的電壓,,因此在寫入過程中的功耗極低,。
2018年,Arm發(fā)布了基于三星28FDS工藝技術(shù)的eMRAM編譯器IP,,包括一個支持18FDS (18nm FD-SOI工藝)的eMRAM編譯器,。這一平臺有助于推動在5G、AI,、汽車,、物聯(lián)網(wǎng)和其它細分市場的功耗敏感應(yīng)用領(lǐng)域的前沿設(shè)計發(fā)展。
2019年,,三星發(fā)布了采用28FDS工藝技術(shù)的1Gb嵌入STT-MRAM,。基于高度可靠的eMRAM技術(shù),,在滿足令人滿意的讀取,,寫入功能和10年保存時間的情況下,可以實現(xiàn)90%以上的良率,。并且具備高達1E10周期的耐久性,,這些對于擴展eMRAM應(yīng)用有很大幫助。
2019年底,,Mentor宣布將為基于Arm的eMRAM編譯器IP提供IC測試解決方案,,該方案基于三星的28FDS工藝技術(shù)。據(jù)悉,,該測試方案利用了Mentor的Tessent Memory BIST,,為SRAM和eMRAM提供了一套統(tǒng)一的存儲器測試和修復IP。
Globalfoundries
2017年,,時任Globalfoundries首席技術(shù)官的Gary Patton稱,,Globalfoundries已經(jīng)在其22FDX(22nm制程的FD-SOI工藝技術(shù))制程中提供了MRAM,同時也在研究另一種存儲技術(shù)。
由于Globalfoundries重點發(fā)展FD-SOI技術(shù),,特別是22nm制程的FD-SOI,,已經(jīng)很成熟,所以該公司的新興存儲技術(shù),,特別是MRAM,,都是基于具有低功耗特性的FD-SOI技術(shù)展開的。
今年年初,,Globalfoundries宣布基于22nm FD-SOI 平臺的eMRAM投入生產(chǎn),。該eMRAM技術(shù)平臺可以實現(xiàn)將數(shù)據(jù)保持在-40°C至+125°C的溫度范圍內(nèi),壽命周期可以達到100,000,,可以將數(shù)據(jù)保留10年,。該公司表示,正在與多個客戶合作,,計劃在2020年安排多次流片,。
據(jù)悉,該公司的eMRAM旨在替代NOR閃存,,可以定期通過更新或日志記錄進行重寫,。由于是基于磁阻原理,在寫入所需數(shù)據(jù)之前不需要擦除周期,,大大提高了寫入速度,,宏容量從4-48Mb不等。
英特爾
英特爾也是MRAM技術(shù)的主要推動者,,該公司采用的是基于FinFET技術(shù)的22 nm制程,。
2018年底,英特爾首次公開介紹了其MRAM的研究成果,,推出了一款基于22nm FinFET制程的STT-MRAM,,當時,該公司稱,,這是首款基于FinFET的MRAM產(chǎn)品,,并表示已經(jīng)具備該技術(shù)產(chǎn)品的量產(chǎn)能力。
結(jié)語
由于市場需求愈加凸顯,,且有各大晶圓廠大力投入支持,,加快了以MRAM為代表的新興存儲技術(shù)的商業(yè)化進程。未來幾年,,雖然DRAM和NAND Flash將繼續(xù)站穩(wěn)存儲芯片市場主導地位,,但隨著各家半導體大廠相繼投入發(fā)展,新興存儲器的成本將逐步下降,,可進一步提升 MRAM等技術(shù)的市場普及率,。