據(jù)媒體報(bào)道,，光刻機(jī)巨頭ASML（阿斯麥）日前宣布,，將在中國臺(tái)灣的南部科學(xué)園區(qū)建立自己在海外（荷蘭之外）的首個(gè)培訓(xùn)中心,，旨在就近輔導(dǎo)臺(tái)積電所領(lǐng)導(dǎo)EUV光刻制造集群,。

所謂EUV即極紫外光刻,，目前全球有且只有ASML可以生產(chǎn)相關(guān)機(jī)器,。光刻是半導(dǎo)體芯片制造中最費(fèi)時(shí)間也是最費(fèi)成本的環(huán)節(jié)之一,，而且它決定了芯片的工藝水平,，常說的XXnm工藝主要是看光刻機(jī)水平,。

臺(tái)積電的第一代7nm因?yàn)橼s進(jìn)度,，沒有使用EUV，而是DUV（深紫外光刻）,，不過隨著7nm的改良以及5nm量產(chǎn),、3nm風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)的進(jìn)行，EUV開始更多導(dǎo)入,。

ASML今年二季度的財(cái)報(bào)顯示,，雖然僅僅出貨了9臺(tái)光刻機(jī)，但凈利潤高達(dá)7．51億歐元,。畢竟,，一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)就達(dá)到約合10億元人民幣左右。

另外,，TrendForce數(shù)據(jù)顯示,，今年第一季度，臺(tái)積電營收102億美元,，是第二名三星的幾乎4倍,。