當(dāng)季賣出60臺(tái)光刻機(jī)，凈賺87億元
10月14日,，光刻機(jī)霸主——荷蘭阿斯麥（ASML）公司發(fā)布了最新財(cái)務(wù)報(bào)告,，數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)顯示,，第三季度ASML當(dāng)季實(shí)現(xiàn)營(yíng)收40億歐元，凈利潤(rùn)高達(dá)11億歐元（約合87億元人民幣）。
2020年前三季度，ASML總共實(shí)現(xiàn)凈銷售額97．24億歐元,，較去年同期77．83億歐元提高近25％；凈利潤(rùn)22．03億歐元同樣大幅提升51％,。ASML預(yù)估四季度的收入在36到38億歐元,，毛利率50％左右，2020全年的營(yíng)收應(yīng)該至少能達(dá)到133億歐元,。
據(jù)悉,，第三季出售的60臺(tái)光刻機(jī)為公司提供了近31億歐元的營(yíng)收，其中有14臺(tái)是EUV光刻機(jī),，數(shù)量占比約23％，但卻提供了66％的營(yíng)收,，從而也足以見(jiàn)得EUV光刻機(jī)的重要程度,。
這60臺(tái)光刻機(jī)都賣給了誰(shuí)？臺(tái)積電拿下了將近一半數(shù)量,，剩下的則賣給了三星,、英特爾這些企業(yè),。從地區(qū)上來(lái)看，中國(guó)臺(tái)灣貢獻(xiàn)了光刻機(jī)收入的47％,，韓國(guó)貢獻(xiàn)了26％,，中國(guó)大陸企業(yè)貢獻(xiàn)了21％。
光刻機(jī)到底能不能賣給中國(guó),？回應(yīng)：可以但有限制
如此看來(lái),，中國(guó)是ASML光刻機(jī)最大的市場(chǎng)，ASML甚至在財(cái)報(bào)中立下目標(biāo),，將中國(guó)市場(chǎng)2020年的銷售收入小幅提升到10億歐元以上（約79億元人民幣）,。
但此前受中芯國(guó)際EUV光刻機(jī)遲遲難以交付消息的影響，一直有傳言稱ASML光刻機(jī)出口中國(guó)必須獲得相應(yīng)許可證,，由此給國(guó)產(chǎn)芯片制造產(chǎn)業(yè)帶來(lái)了莫大難處,。
光刻機(jī)到底能不能賣給中國(guó)？在這次ASML的財(cái)報(bào)會(huì)議的視頻采訪中,，ASML CFO Roger Dassen提到了與中芯國(guó)際等中國(guó)客戶的業(yè)務(wù)情況,，他表示一些情況下出口光刻機(jī)是不需要許可證的。
Roger Dassen指出,，按照該司對(duì)美國(guó)新規(guī)的整體理解,，如果阿斯麥從荷蘭向中國(guó)買家供應(yīng)DUV光刻系統(tǒng)，無(wú)需出口許可證,。但是直接出口涉及到美國(guó)方面的零部件及設(shè)備,，阿斯麥則必須提交出口申請(qǐng)，待獲批后才能進(jìn)行正常買賣,。
換句話說(shuō),，一般的光刻機(jī)包括DUV光刻機(jī)在內(nèi)的都可以賣，但EUV光刻機(jī)必須要獲得許可證,。
DUV光刻機(jī)和EUV光刻機(jī)有什么區(qū)別,？簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography）,，EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）,。兩種不同的光源讓光刻機(jī)獲得了不同的曝光能力，從而獲得不一樣的工藝制程范圍,。
DUV光刻機(jī)最多只能做到25nm,，英特爾曾憑借雙工作臺(tái)的模式做到了10nm，但是卻無(wú)法達(dá)到10nm以下,，后來(lái)胡正明教授（梁孟松的老師）發(fā)明了FinFET工藝之后,，極盡所能的壓榨了這臺(tái)機(jī)器的潛能，讓它走到了7nm制程,。
但是即使采用了FinFET工藝,，芯片再想往5nm,、3nm先進(jìn)工藝?yán)^續(xù)延伸，那就不得不使用EUV光刻機(jī)了,。因此,，DUV光刻機(jī)和EUV光刻機(jī)的價(jià)格差別也很大，DUV光刻機(jī)的價(jià)格為2000萬(wàn)－5000萬(wàn)美金／臺(tái),，而EUV的價(jià)格是1－3億美金／臺(tái),。
那么，ASML此番表態(tài)也等于是表明了自己的態(tài)度,，一般的光刻機(jī)可以賣給你,，但是好又貴的EUV光刻機(jī)，想賣給中國(guó)卻是有心無(wú)力,。
國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)走到哪一步,？
世界上做光刻機(jī)的除了ASML以外還有尼康和佳能，但是為什么各大企業(yè)都想購(gòu)買ASML的光刻機(jī),？很簡(jiǎn)單,，在繁雜的光刻機(jī)制造過(guò)程中，ASML扮演的是集大成者,，將全球范圍內(nèi)近8000個(gè)核心零部件整合最終造出一臺(tái)光刻機(jī),，其設(shè)備上不僅擁有最頂級(jí)的光源技術(shù)（激光系統(tǒng)），在其他精密儀器方面也達(dá)到了世界頂端,。
雖然最近十幾年我國(guó)一直在致力于研究光刻機(jī),，但是取得的成果并不是很明顯，目前我國(guó)光刻機(jī)最高技術(shù)也就上海微電子所生產(chǎn)的90nm光刻機(jī),。
90nm跟28nm或者是7nm從數(shù)字上來(lái)看差距不大,，但光刻機(jī)每上一個(gè)臺(tái)階技術(shù)難度就會(huì)大大增加，從90nm跨越到65nm并不難,，再?gòu)?5nm升級(jí)到45nm難度加大,，至于28nm、14nm,、7nm,、5nm，甚至未來(lái)有可能出現(xiàn)的3nm,、2nm,，難度進(jìn)一步加大。也正因?yàn)槿绱?，我?guó)的光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)度一直都比較緩慢,。
對(duì)我國(guó)來(lái)說(shuō)，要想制造高端芯片,，在當(dāng)前肯定是離不開(kāi)海外巨頭的支持,。但是未來(lái)必須將核心技術(shù)掌握在自己手里，不過(guò)時(shí)間到底要多久還很難說(shuō),。