當(dāng)季賣出60臺(tái)光刻機(jī),，凈賺87億元
10月14日,，光刻機(jī)霸主——荷蘭阿斯麥（ASML）公司發(fā)布了最新財(cái)務(wù)報(bào)告，數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)顯示，第三季度ASML當(dāng)季實(shí)現(xiàn)營收40億歐元,，凈利潤高達(dá)11億歐元（約合87億元人民幣）,。
2020年前三季度，ASML總共實(shí)現(xiàn)凈銷售額97．24億歐元,，較去年同期77．83億歐元提高近25％,；凈利潤22．03億歐元同樣大幅提升51％。ASML預(yù)估四季度的收入在36到38億歐元,，毛利率50％左右,，2020全年的營收應(yīng)該至少能達(dá)到133億歐元。
據(jù)悉,，第三季出售的60臺(tái)光刻機(jī)為公司提供了近31億歐元的營收,，其中有14臺(tái)是EUV光刻機(jī)，數(shù)量占比約23％,，但卻提供了66％的營收,，從而也足以見得EUV光刻機(jī)的重要程度。
這60臺(tái)光刻機(jī)都賣給了誰,？臺(tái)積電拿下了將近一半數(shù)量,，剩下的則賣給了三星、英特爾這些企業(yè),。從地區(qū)上來看,，中國臺(tái)灣貢獻(xiàn)了光刻機(jī)收入的47％，韓國貢獻(xiàn)了26％,，中國大陸企業(yè)貢獻(xiàn)了21％,。
光刻機(jī)到底能不能賣給中國？回應(yīng)：可以但有限制
如此看來,，中國是ASML光刻機(jī)最大的市場,，ASML甚至在財(cái)報(bào)中立下目標(biāo)，將中國市場2020年的銷售收入小幅提升到10億歐元以上（約79億元人民幣）,。
但此前受中芯國際EUV光刻機(jī)遲遲難以交付消息的影響,，一直有傳言稱ASML光刻機(jī)出口中國必須獲得相應(yīng)許可證，由此給國產(chǎn)芯片制造產(chǎn)業(yè)帶來了莫大難處,。
光刻機(jī)到底能不能賣給中國,？在這次ASML的財(cái)報(bào)會(huì)議的視頻采訪中，ASML CFO Roger Dassen提到了與中芯國際等中國客戶的業(yè)務(wù)情況,，他表示一些情況下出口光刻機(jī)是不需要許可證的。
Roger Dassen指出,，按照該司對美國新規(guī)的整體理解,，如果阿斯麥從荷蘭向中國買家供應(yīng)DUV光刻系統(tǒng)，無需出口許可證。但是直接出口涉及到美國方面的零部件及設(shè)備,，阿斯麥則必須提交出口申請,，待獲批后才能進(jìn)行正常買賣。
換句話說,，一般的光刻機(jī)包括DUV光刻機(jī)在內(nèi)的都可以賣,，但EUV光刻機(jī)必須要獲得許可證。
DUV光刻機(jī)和EUV光刻機(jī)有什么區(qū)別,？簡單來說,，DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）,。兩種不同的光源讓光刻機(jī)獲得了不同的曝光能力,，從而獲得不一樣的工藝制程范圍。
DUV光刻機(jī)最多只能做到25nm,，英特爾曾憑借雙工作臺(tái)的模式做到了10nm,，但是卻無法達(dá)到10nm以下，后來胡正明教授（梁孟松的老師）發(fā)明了FinFET工藝之后,，極盡所能的壓榨了這臺(tái)機(jī)器的潛能,，讓它走到了7nm制程。
但是即使采用了FinFET工藝,，芯片再想往5nm,、3nm先進(jìn)工藝?yán)^續(xù)延伸，那就不得不使用EUV光刻機(jī)了,。因此,，DUV光刻機(jī)和EUV光刻機(jī)的價(jià)格差別也很大，DUV光刻機(jī)的價(jià)格為2000萬－5000萬美金／臺(tái),，而EUV的價(jià)格是1－3億美金／臺(tái),。
那么，ASML此番表態(tài)也等于是表明了自己的態(tài)度,，一般的光刻機(jī)可以賣給你,，但是好又貴的EUV光刻機(jī)，想賣給中國卻是有心無力,。
國產(chǎn)光刻機(jī)走到哪一步,？
世界上做光刻機(jī)的除了ASML以外還有尼康和佳能，但是為什么各大企業(yè)都想購買ASML的光刻機(jī),？很簡單,，在繁雜的光刻機(jī)制造過程中，ASML扮演的是集大成者,，將全球范圍內(nèi)近8000個(gè)核心零部件整合最終造出一臺(tái)光刻機(jī),，其設(shè)備上不僅擁有最頂級(jí)的光源技術(shù)（激光系統(tǒng)）,，在其他精密儀器方面也達(dá)到了世界頂端。
雖然最近十幾年我國一直在致力于研究光刻機(jī),，但是取得的成果并不是很明顯,，目前我國光刻機(jī)最高技術(shù)也就上海微電子所生產(chǎn)的90nm光刻機(jī)。
90nm跟28nm或者是7nm從數(shù)字上來看差距不大,，但光刻機(jī)每上一個(gè)臺(tái)階技術(shù)難度就會(huì)大大增加,，從90nm跨越到65nm并不難，再從65nm升級(jí)到45nm難度加大,，至于28nm,、14nm、7nm,、5nm,，甚至未來有可能出現(xiàn)的3nm、2nm,，難度進(jìn)一步加大,。也正因?yàn)槿绱耍覈墓饪虣C(jī)的研發(fā)進(jìn)度一直都比較緩慢,。
對我國來說,，要想制造高端芯片，在當(dāng)前肯定是離不開海外巨頭的支持,。但是未來必須將核心技術(shù)掌握在自己手里,，不過時(shí)間到底要多久還很難說。