據(jù)每日經(jīng)濟新聞報道,,世界光刻機巨頭ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的企業(yè),,由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機,,所以此次展示的是其DUV光刻機。據(jù)了解,,該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片,。
ASML也帶來了其整體光刻解決方案,包括先進控制能力的光刻機臺計算光刻和測量通過建模,、仿真,、分析等技術,讓邊緣定位精度不斷提高,。
作為全球芯片光刻技術的領導者,,本次ASML(阿斯麥)以“光刻未來,攜手同行”為主題亮相第三屆進博會技術裝備展區(qū),。時間是2020年11月5日至10日,,位于技術裝備展區(qū)3C6-002。
光刻機(Mask Aligner) 又名掩模對準曝光機,,曝光系統(tǒng),,光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備,。它采用類似照片沖印的技術,,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
另據(jù)澎湃新聞報道,,在第三屆中國國際進口博覽會現(xiàn)場,,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波表示,,該公司對向中國出口集成電路光刻機持開放態(tài)度,,對全球客戶均一視同仁,在法律法規(guī)框架下,,都將全力支持,。沈波透露,2020年第二,、第三季度,,公司發(fā)往中國大陸地區(qū)的光刻機臺數(shù)超過了全球總臺數(shù)的20%。
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