昨夜晚間,，寧波南大光電發(fā)表公告稱,，公司自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產品 近日成功通過客戶的使用認證。
據(jù)南大光電介紹,，“ArF 光刻膠產品開發(fā)和產業(yè)化”是寧波南大光電承接國家“02 專項”的 一個重點攻關項目,。本次產品的認證通過，標志著“ArF 光刻膠產品開發(fā)和產 業(yè)化”項目取得了關鍵性的突破,，成為國內通過產品驗證的第一只國產 ArF 光 刻膠,，為全面完成項目目標奠定了堅實的基礎。
他們指出,，認證評估報告顯示,，“本次認證選擇客戶 50nm 閃存產品中的控制柵進行驗 證，寧波南大光電的 ArF 光刻膠產品測試各項性能滿足工藝規(guī)格要求,，良率結果達標,。”
在談到這個光刻膠通過客戶認證對公司的價值的時候,，南大光電表示,，ArF 光刻膠材料是集成電路制造領域的重要關鍵材料，可以用于 90nm-14nm 甚至 7nm 技術節(jié)點的集成電路制造工藝,。廣泛應用于高端芯片制 造（如邏輯芯片,、 AI 芯片、5G 芯片,、大容量存儲器和云計算芯片等）,。
ArF 光刻膠的市場前景好于預期。隨著國內 IC 行業(yè)的快速發(fā)展,，自主創(chuàng)新和國產化步伐的加快，以及先進制程工藝的應用，將大大拉動光刻膠的用量,。本次通過客戶認證的產業(yè)化意義大,。本次驗證使用的 50nm 閃存技術平臺，
在特征尺寸上,，線制程工藝可以滿足 45nm-90nm 光刻需求,，孔制程工藝可滿足 65nm-90nm 光刻需求，該工藝平臺的光刻膠在業(yè)界有代表性,。
南大光電“02專項”項目前程提要
在2018年,，南大光電曾發(fā)表關于實施國家“02專項”ArF光刻膠產品的開發(fā) 與產業(yè)化的可行性研究報告。報告指出,，江蘇南大光電材料股份有限公司（以下簡稱“南大光電”,、“公司”、 “本公司”）成立于2000年12月,，注冊資本27,346.88萬元,，為全球MO源主要供應商之一。南大光電經過多年的技術積累及創(chuàng)新,，已經擁有完全自主知識產權的MO源獨特生產技術,。作為全球MO源的主要供應商，產品在滿足國內需求時,，已遠銷日本,、臺灣，韓國,、歐洲和美國,。公司獲得了ISO9001質量認證體系、ISO14001環(huán)境認證體系及OHSAS18001職業(yè)健康體系的認證,。公司2012年8月7日在深圳證券交易所創(chuàng)業(yè)板成功上市,。公司目前擁有MO源、電子特氣,、光刻膠三大業(yè)務板塊,，努力成為國際一流的MO源供應商、國內領先的電子特氣供應商和國內技術最領先的光刻膠供應商并力爭在五到十年內發(fā)展成為國際上優(yōu)秀的電子材料生產企業(yè),。
而公司擬投資65,557萬元實施“193nm（ArF）光刻膠材料開發(fā)和產業(yè)化”項目,，項目實施主體寧波南大光電材料有限公司是本公司的全資子公司。按照他們所說,，193nm（ArF）光刻膠和MO源都屬于高純電子材料,，在生產工藝、分析測試等方面有一定的相似性,，公司現(xiàn)有的很多生產技術和管理經驗可以直接應用到此項目中,。南大光電經過多年的技術積累及創(chuàng)新，已經擁有完全自主知識產權的MO源獨特生產技術。在產品的合成,、純化,、分析、封裝,、儲運及安全操作等方面均已經達到國際先進水平,。同時，為了此次項目的開發(fā),，南大光電已完成1500平方米研發(fā)中心的建設工作,。
根據(jù)規(guī)劃，公司將通過3年的建設,、投產及實現(xiàn)銷售,，達到年產25噸193nm（ArF干式和浸沒式）光刻膠產品的生產規(guī)模。產品滿足集成電路行業(yè)需求標準,，同時建成先進光刻膠分析測試中心和高分辨率光刻膠研發(fā)中心,，為公司新的高端光刻膠產品的研發(fā)和產業(yè)化提供技術保障。目前本項目的主要建設內容為生產車間,、分析測試中心,、研發(fā)中心、倉庫,、水電,、道路等配套設施的建設。
他們在報告中指出,，作為集成電路制造最為關鍵的基礎材料之一——高檔光刻膠材料（如：ArF光刻膠）,，幾乎完全依賴于進口。這種局面已經嚴重制約了我國集成電路產業(yè)的自主發(fā)展,。更有甚者,，我國集成電路工業(yè)使用的高檔光刻膠中，80%以上都是從日本一個國家進口（剩余的部分從美國進口）,。這樣壟斷式的依賴格局使得中國集成電路產業(yè)在我國發(fā)生嚴重自然災害,、政治沖突、商業(yè)沖突或軍事沖突時受到嚴重的負面影響,。從產品性質方面分析,，相較于可以長時間保存（3年左右，甚至更長）的大硅片和先進制造設備,， 高檔光刻膠的保質期很短（6個月左右,，甚至更短）。一旦遇到上述的自然災害或沖突,，我國集成電路產業(yè)勢必面臨芯片企業(yè)短期內全面停產的嚴重局面,。因此,，盡快實現(xiàn)全面國產化和產業(yè)化高檔光刻膠材料具有十分重要的戰(zhàn)略意義和經濟價值。
但南大光電也強調,，ArF光刻膠產品的配方包括成膜樹脂,、光敏劑、添加劑和溶劑等組分材料,。是否能夠將各個組分的功能有效地結合在一起，關系到光刻膠配方的成敗,，這是調制光刻膠配方的最大挑戰(zhàn)和難點,，也是一個光刻膠公司技術能力的基本體現(xiàn)。國際上只有為數(shù)很少的幾家光刻膠公司可以做到產品級 ArF光刻膠配方的調制,。針對此種情況,，一方面，我們可以進行外部引“智”,，從光刻膠技術先進的美國和日本等國家引進相關領域的專家,。另一方面，我們應該進行內部尋“智”,，聯(lián)合國內光刻膠的研究單位,，積極培養(yǎng)國內的光刻膠研發(fā)人才。通過人才的“內外結合”,，我們將自主研發(fā)出國產ArF光刻膠產品,。同時，我們又可以此團隊為基礎,，建設屬于我國自己本土的光刻膠人才隊伍,，為公司先進光刻膠產品的升級換代和我國集成電路行業(yè)的后續(xù)發(fā)展奠定基礎。
日本絕對領導的光刻膠市場
據(jù)智研咨詢統(tǒng)計,，2019年全球光刻膠市場規(guī)模預計近90億美元,，自2010年至今CAGR約5.4%。預計該市場未來3年仍將以年均5%的速度增長,，至2022年全球光刻膠市場規(guī)模將超過100億美元,。
根據(jù)下圖，我們可以了解到低端的g/i-line的占總的半導體光刻膠市場份額31%,，高端的KrF,、ArF-i光刻膠的市場份額最大，達到45%,，基本是被日本的企業(yè)壟斷,，所以讓日本在半導體領域有極大的控制能力。
以 ArF 光刻膠產品為代表的先進光刻膠以及工藝的主要技術和專利都掌握在國外的企業(yè)與研究部門,，如日本的信越化學（Shin-Etsu Chemical）,、合 成橡膠（JSR）,、東京應化（TOK）、住友化學（Sumitomochem）,、富士膠片 （Fujifilm）和美國陶氏（Dow Chemical Company）,，其中尤其是日本企業(yè)，占有率極高,。在KrF光刻膠方面,，日本也是占了主導地位，在這領域有全球5%市場占有率的韓國企業(yè)和11%的美國企業(yè),。
數(shù)據(jù)來源：網絡公開資料,，富途證券整理
南大光電表示，本項目已作為我國“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”的核心 部分被列入我國國家科技重大專項,，受到國家科技部的高度支持,。作為對 提升國家綜合國力有重大推動作用的戰(zhàn)略性產業(yè)，ArF（干式和浸沒式）光 刻膠是我國集成電路產業(yè)的關鍵原材料,，與國家經濟及社會發(fā)展的需求緊 密結合,。本項目不僅能夠極大提高我國本土企業(yè)的自主創(chuàng)新能力，更重要 的是通過重大關鍵技術的突破,，將帶動和提升我國整個電子工業(yè)體系的技 術水平和國際競爭