最新數據顯示，ASML在12月中完成了第100臺EUV光刻機的出貨。業(yè)內預估ASML今年（2021年）的EUV光刻機產能將達到45~50臺的規(guī)模,。

7納米及更先進制程,，必須借助光刻設備轉印半導體電路圖案。追逐先進制程的芯片制造廠商中,，臺積電和三星均已引入光刻機。目前，臺積電和三星已進入5nm工藝的量產階段,，臺積電代工的產品包括蘋果A14、M1、華為麒麟9000等,，后者則包括Exynos 1080,、驍龍888等。

據日經中文網報道,，在半導體制造領域將電路轉印到基板的設備市場上,，尼康、佳能和荷蘭ASML這三家企業(yè)形成壟斷,，但支持EUV技術的設備目前只有ASML成功實現商用化,。

ASML表示，迭代到5nm后,，EUV的層數達到了10~14層,，包括但不限于觸點、過孔以及關鍵金屬層等過程,。未來的3nm,、2nm，對EUV的依賴將更甚,。

另外,，ASML定于明年中旬交付最新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE:3600D，生產效率提升18%,、機器匹配套準精度改進為1.1nm,，單臺價格或高于老款的1.2億歐元（約合9.5億元人民幣）。