《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁 > 模擬設(shè)計 > 業(yè)界動態(tài) > 鼎龍股份:擬新建集成電路CMP用拋光墊項目及集成電路制造清洗液項目

鼎龍股份:擬新建集成電路CMP用拋光墊項目及集成電路制造清洗液項目

2021-01-17
來源:全球半導(dǎo)體觀察
關(guān)鍵詞: 鼎龍股份 集成電路 CMP 清洗液

鼎龍股份14日公告,公司擬新建集成電路CMP用拋光墊項目(三期)及年產(chǎn)1萬噸集成電路制造清洗液項目。計劃投資合計5.67億元,,本次投資資金來源為公司自有或自籌資金。

CMP用拋光墊項目擬新建車間占地面積6000平方米,,建筑面積16500平方米,購置并安裝凈化系統(tǒng)設(shè)備,、貼合機(jī),、拋光機(jī)等儀器設(shè)備共43臺,完善配套設(shè)施,。建成后,,預(yù)計具備年產(chǎn)50萬片CMP用拋光墊生產(chǎn)能力。

集成電路制造清洗液項目規(guī)劃建筑面積28994平方米,,建設(shè)生產(chǎn)車間4500平方米,,辦公樓5000平方米及倉庫,購置混配機(jī),、自動投料機(jī),、Zeta電位儀,、顆粒計數(shù)器等儀器設(shè)備92臺,建設(shè)配套設(shè)施,,建成年產(chǎn)清洗液1萬噸,。

鼎龍股份表示,公司拋光墊下游芯片制程客戶對供應(yīng)鏈安全的要求極高,,需要公司該產(chǎn)品在武漢廠區(qū)已有產(chǎn)能基礎(chǔ)上異地建廠擴(kuò)能,,利于供貨安全性及穩(wěn)定性,。

先進(jìn)制程的高端清洗液絕大多數(shù)掌握在兩家美國公司手中,,公司擬實(shí)施CMP后清洗液和光刻膠蝕刻后清洗液項目的產(chǎn)業(yè)化,將有效解決國內(nèi)該系列產(chǎn)品嚴(yán)重依賴海外進(jìn)口的卡脖子問題,。

鼎龍股份是打印復(fù)印耗材龍頭,,近年向半導(dǎo)體材料領(lǐng)域持續(xù)拓展。公司主營打印復(fù)印通用耗材和光電半導(dǎo)體工藝材料,。光電半導(dǎo)體工藝材料業(yè)務(wù)是公司近年重點(diǎn)布局的業(yè)務(wù)領(lǐng)域,,主要產(chǎn)品包括:化學(xué)機(jī)械CMP 拋光墊、清洗液及柔性顯示基材PI 漿料等,。


本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn),。轉(zhuǎn)載的所有的文章,、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有,。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者,。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題,,請及時通過電子郵件或電話通知我們,,以便迅速采取適當(dāng)措施,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失,。聯(lián)系電話:010-82306118,;郵箱:[email protected]