5月27日,，一則日本將對中國斷供光刻膠的消息震驚資本市場,。據(jù)外媒透露,，日本光刻膠龍頭企業(yè)信越化學(xué)將限制向中國多家一線晶圓廠供貨KrF級別光刻膠，迫使晶圓廠恐將面臨缺失光刻膠的窘境,。

　　斷供尚未正式落地,，但市場對斷供光刻膠的恐懼卻率先反應(yīng)的股價(jià)上。27日收盤,，容大感光,、晶瑞股份等國產(chǎn)光刻膠概念股紛紛漲停。

　　從市場規(guī)模上看,，在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈條中,，光刻膠只不過占比不足1%的細(xì)小市場。數(shù)據(jù)顯示,，2020年全球半導(dǎo)體市場規(guī)模4260億美元,，而應(yīng)用于半導(dǎo)體市場的光刻膠規(guī)模卻僅為19億元，僅占半導(dǎo)體行業(yè)的0.4%,。

　　究竟市場為何會因?yàn)樾⌒〉墓饪棠z而引發(fā)如此震動,？投資者們又在擔(dān)心什么？

　　01 持續(xù)迭代的光刻膠

　　光刻膠涉及到PCB,、LCD和半導(dǎo)體三個(gè)應(yīng)用方向,，本文探討的核心就在于被市場關(guān)注的半導(dǎo)體光刻膠。

　　光刻工藝是芯片制造的精髓,，成本約占芯片總成本的35%,，耗時(shí)約占整個(gè)芯片總耗時(shí)的50%。光刻并非由光刻機(jī)直接用激光在硅片上雕刻而成,，而是一系列復(fù)雜流程才獲得的最終結(jié)果,。

　　半導(dǎo)體制作過程中，光刻膠是必不可少的核心原料,，缺了它就將讓半導(dǎo)體的光刻流程陷入癱瘓。具體而言,，光刻會涉及七大流程：涂膠,、前烘、曝光,、顯影,、豎膜、刻蝕、去膠,。

　　需要首先在硅片上涂抹一種能夠改變硅片溶解度的光致抗蝕劑,，也就是光刻膠。然后經(jīng)過曝光（改變光刻膠溶解度）,、顯影（利用顯影液溶解改性后光刻膠的可溶部分）處理,。

　　由于光刻膠改變了部分溶解度，因此沒有被涂抹的地方就會被溶解,，由此形成圖案,，最終再通過刻蝕在硅片上畫出電路圖。

　　按照成分考量,，光刻膠主要由五部分組成,，分別是感光樹脂（聚合劑）、增感劑（光引發(fā)劑）,、單體（活性稀釋劑）,、溶劑與助劑。

　　其中,，光引發(fā)劑和樹脂是光刻膠的最核心部分,，樹脂起到聚合作用，形成光刻膠的骨架,；光引發(fā)劑是光刻膠材料中的光敏成分,，能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。

　　從光刻技術(shù)正式被應(yīng)用起,，整個(gè)行業(yè)就處于不斷迭代之中,，光源與光刻膠是光刻技術(shù)迭代的核心。

　　就光刻膠而言,，其波長由紫外寬譜向ｇ線（436nm）,、ｉ線（365nm）、KrF（248nm）,、ArF（193nm）,、F2（157nm）、EUV（13.5nm）的方向轉(zhuǎn)移,，并通過分辨率增強(qiáng)技術(shù)不斷提升光刻膠的分辨率水平,。

　　實(shí)際上，光刻膠的進(jìn)化趨勢與摩爾定律相匹配,。1965年,，英特爾公司創(chuàng)始人戈登·摩爾提出了一個(gè)關(guān)于計(jì)算機(jī)存儲器發(fā)展趨勢的報(bào)告，在其中它獲得了一個(gè)驚人的發(fā)現(xiàn)：在每個(gè)新的芯片大體上包含其前任兩倍的容量,，每個(gè)芯片產(chǎn)生的時(shí)間都是在前一個(gè)芯片產(chǎn)生后的18-24個(gè)月內(nèi),。

　　這就意味著處理器的工作效率翻倍,，而成本則降至至一半。對于采用光刻技術(shù)進(jìn)行加工的半導(dǎo)體而言,，光刻的線寬極限和精度直接決定了集成路的集成度,、可靠性和成本。

　　根據(jù)摩爾定律,，由于光源波長與加工線寬呈線性關(guān)系,，這意味著光源采用更短的波長將得到更小的圖案、在單位面積上實(shí)現(xiàn)更高的電子元件集成度,，從二獲得更高的性能與更低的成本,。

　　由此不難發(fā)現(xiàn)，看似不起眼的光刻膠實(shí)則是一個(gè)不斷進(jìn)化中的行業(yè),。

　　02 背后的密碼

　　縱觀現(xiàn)階段光刻膠產(chǎn)業(yè)格局,，日本一家獨(dú)大，美國尚可自足,，中國仍處于追趕之中,。

　　相關(guān)數(shù)據(jù)顯示，全球光刻膠市場中,，日本份額占比達(dá)到72%,，而中國企業(yè)的市場占有率不足13%。如果進(jìn)一步聚焦生產(chǎn)難度更大的半導(dǎo)體光刻膠市場,，中國企業(yè)的占有率就更微乎其微,。

　　追根溯源，美國柯達(dá)其實(shí)是光刻技術(shù)的最早應(yīng)用者,，而在很長一段時(shí)間中,，美國企業(yè)都在光刻膠技術(shù)方面遙遙領(lǐng)先。

　　但真正的轉(zhuǎn)折點(diǎn)其實(shí)并不產(chǎn)生在光刻膠本身,，而是由上游光刻機(jī)所主導(dǎo),。從1976年開始，日本企業(yè)尼康,、佳能全面布局光刻機(jī)領(lǐng)域,，而美國光刻機(jī)龍頭就成為它們效仿的對象。

　　像很多追趕中的企業(yè)一樣,，由于性能優(yōu)越,，日本光刻機(jī)很快追上了美國產(chǎn)品。

　　1986年,，半導(dǎo)體市場大滑坡,，表現(xiàn)在公司層面就是龍頭公司巨額虧損，裁員,、降薪接踵而至,，這讓曾經(jīng)風(fēng)光無限的美國光刻機(jī)市場慘遭重創(chuàng)。另一方面,，日本企業(yè)的崛起并在此時(shí)當(dāng)時(shí)次時(shí)代產(chǎn)品KrF光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)趕超,。

　　光刻機(jī)市場的反超傳導(dǎo)至配件光刻膠市場，1995年東京應(yīng)化實(shí)現(xiàn)KrF光刻膠商業(yè)化,，徹底打破了以IBM為首的美國企業(yè)的壟斷,。在1986年的光刻機(jī)大變局后，日本企業(yè)代替美國企業(yè)成為了世界光刻機(jī)的焦點(diǎn),，而美國則徹底淪為配角,。

　　光刻膠需求量很小，所以很少有巨頭“ALL IN”這一單品市場,，它大多數(shù)還是作為大型化學(xué)公司的一個(gè)部門而存在,。同時(shí)作為光刻機(jī)的配套產(chǎn)業(yè)，其背后則直接與國家產(chǎn)業(yè)力量高度相關(guān),。

　　如果單從產(chǎn)品本身出發(fā),，相信光刻膠的合成并不困難，但其卻面對與光刻體系的適用性的限制,。單就光刻膠本身而言,，其本身并不具備變準(zhǔn)化，各家的產(chǎn)品也會因?yàn)閹追N原料配比的差異而產(chǎn)生不同的效果,。

　　在光刻的7大流程中,，單一光刻膠的改變，很可能引發(fā)其它流程的連鎖反應(yīng),，甚至?xí)ψ罱K的結(jié)果造成極大的影響,。為了保證產(chǎn)品的穩(wěn)定性，在取得穩(wěn)定的光刻膠供給后,，客戶們并不愿意輕易更換其它產(chǎn)品的,。

　　光刻膠市場需求量本就有限，同時(shí)客戶還被深度綁定,，這就讓光刻膠新入局者缺乏動力,，而缺乏與之匹配的高端光刻機(jī)，亦是阻礙中國光刻膠發(fā)展的核心因素之一,。

　　但這并不意味著中國企業(yè)不存在機(jī)會,。縱觀光刻機(jī)發(fā)展歷史,，在尖端光刻機(jī)市場,，日本尼康已經(jīng)被荷蘭ASML趕超；而半導(dǎo)體制造中,，整個(gè)產(chǎn)業(yè)也從日本轉(zhuǎn)移到了中國和韓國,。如此來看,，中國光刻膠企業(yè)是存在發(fā)展機(jī)會的。

　　03 產(chǎn)業(yè)暗戰(zhàn)

　　盡管日本已經(jīng)不再是最頂尖的光刻機(jī)制造者,，但其依舊憑借在光刻膠企業(yè)的多年積累,，申請了大量的專利和技術(shù)儲備，并利用產(chǎn)能去限制潛在競爭者,。一定程度的上,，小小的光刻膠已經(jīng)成為日本的戰(zhàn)略武器。

　　2019年,，日本就曾宣布對韓國進(jìn)行出口管制,，而制裁的核心正是聚焦于氟聚酰亞胺、光刻膠,、高純度氟化氫三種材料產(chǎn)品,。從用途來看，這三種材料分別是顯示面板,、半導(dǎo)體芯片制造中的核心材料,，同時(shí)日本也在這三項(xiàng)材料中占據(jù)統(tǒng)治地位。

　　在當(dāng)時(shí)的清單上,，15~193光刻膠是使用氟化氫（ArF）光源的半導(dǎo)體光刻膠,。1~15以下的是極紫外線（EUV）用光刻膠。而這些正是當(dāng)時(shí)三星電子和SK海力士在半導(dǎo)體生產(chǎn)中所需要的的核心材料,。

　　由于高端光刻膠的保質(zhì)期為6-9個(gè)月,，保存較為困難，因此企業(yè)很難通過大規(guī)模儲存的方式來避免被“卡脖子”的窘境,，這也就導(dǎo)致即使是韓國這樣的芯片強(qiáng)國,，也不得不面對潛在的停產(chǎn)困局。

　　據(jù)韓國貿(mào)易協(xié)會統(tǒng)計(jì),，在日本制裁的2019年,，韓國芯片設(shè)備最大的進(jìn)口國依然是日本，進(jìn)口規(guī)模高達(dá)3296億美元,，由此可以看出日本在芯片行業(yè)的深厚積淀,。

　　從韓國身上，中國相關(guān)企業(yè)可以找到答案,，半導(dǎo)體項(xiàng)目需要長時(shí)間投入,、重資布局，這一過程中,，勢必會遇到險(xiǎn)阻,，也有可能遭遇困境。這是一條荊棘之路，但同時(shí)也是一條必經(jīng)之路,。

　　04 光刻膠的中國軍團(tuán)

　　正如前文所述,，光刻膠市場規(guī)模很小，同時(shí)由于產(chǎn)業(yè)限制,，參與者很難快速獲得可觀的利潤,。如果單純從財(cái)務(wù)角度看，光刻膠并非一個(gè)好的生意,。

　　另一方面，從摩爾效應(yīng)出發(fā),，光刻機(jī)的迭代已經(jīng)十分迅速,，目前中國企業(yè)落后明顯，因此中國的光刻膠企業(yè)不應(yīng)該再將高昂的研發(fā)費(fèi)用投入到低端光刻膠市場,，而是應(yīng)該對準(zhǔn)目前和未來的主流市場,。

　　如果目前中國光刻膠企業(yè)還按照行業(yè)發(fā)展規(guī)律從低端向高端一步一步研發(fā)，那么勢必會受累于此,，導(dǎo)致最終入不敷出,。

　　從某種意義而言，光刻膠不是一個(gè)單純的國產(chǎn)替代邏輯,，而其真正存在的機(jī)會,，就是中國企業(yè)誰能跟誰主流，打破日本年的壟斷,。

　　就信越化學(xué)斷供的KrF級別光刻膠而言,，這正是當(dāng)年日本趕超美國成為龍頭的產(chǎn)品，本就是一款并不那么新的產(chǎn)品,。然而即使是這一級別,，國內(nèi)能夠參與其中的公司也只有寥寥數(shù)家，更不要提后續(xù)的ArF級別和EUV級別產(chǎn)品了,。

　　縱觀目前中國光刻膠市場,，涉足研發(fā)KrF級別以上產(chǎn)品的公司共有五家：徐州博康、彤程新材,、南大光電,、上海新陽、晶瑞股份,。

　　徐州博康成立于2010年,，專注于中高端光刻膠研發(fā)。從2017年其,，博康開始承擔(dān)國際02項(xiàng)目中的《193納米光刻膠的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化》,，并于2019年正式被國家確定為光刻膠單體的國標(biāo)制定單位。

　　目前,，博康已經(jīng)成功開發(fā)I線光刻膠,、KrF光刻膠,、ArF光刻膠和電子束光刻膠四大系列光刻膠產(chǎn)品，同時(shí)集合了單體,、樹脂等光刻膠上游材料和光刻膠的全產(chǎn)業(yè)鏈開發(fā),。

　　徐州博康并未上市，2020年1月華懋科技通過產(chǎn)業(yè)基金向徐州博康進(jìn)行投資,，產(chǎn)業(yè)基金東陽凱陽擬出資 3000 萬元向徐州博康增資,，增資后持有徐州博康 1.186%股權(quán)，同時(shí)獲得 5.5 億元無條件轉(zhuǎn)股權(quán)和 2.2 億元股權(quán)轉(zhuǎn)讓權(quán),，若全部轉(zhuǎn)股合計(jì)持有 31.63%股權(quán),。

　　彤程新材是新材料綜合服務(wù)商，通過收購,，獲得北京科華56.56%股權(quán),，成為公司第一大股東。由此成功的從橡膠廠商切換至光刻膠賽道,。同時(shí)其還擁有另一家光刻膠廠商北京北旭電子45%的股份,。

　　北京科華成立于2004年，去年?duì)I收 8928 萬元,，是中國大陸銷售額最高的國產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠公司,，旗下產(chǎn)品已經(jīng)覆蓋KrF（248nm）、I-line,、G-line,、紫外寬譜的光刻膠及配套試劑。公司擁有中高檔光刻膠生產(chǎn)基地,，能夠?qū)崿F(xiàn)KrF級別產(chǎn)品的百噸量產(chǎn),。

　　2010 年起，北京科華承擔(dān) KrF 光刻膠國家 02 專項(xiàng),，并于 2014 年完成產(chǎn)業(yè)化并形成銷售,，2020 年 KrF（248nm）光刻膠銷售 286萬元，是唯一可以批量供應(yīng)KrF光刻膠給8寸和12寸客戶的本土光刻膠公司,。

　　晶瑞股份產(chǎn)品涉及超凈高純試劑,、光刻膠、功能性材料,、鋰電池材料和基礎(chǔ)化工材料等,。公司的光刻膠由公司的子公司蘇州瑞紅生產(chǎn)，擁有國家 02 重大專項(xiàng)資助的一流光刻膠研發(fā)和評價(jià)實(shí)驗(yàn)室,。

　　蘇州瑞紅承擔(dān)的 02 國家重大專項(xiàng)光刻膠項(xiàng)目已通過驗(yàn)收并實(shí)現(xiàn)銷售,，紫外負(fù)型光刻膠和寬譜正膠及部分 g 線等高端產(chǎn)品已規(guī)模供應(yīng)市場數(shù)十年，i 線光刻膠近年已供應(yīng)國內(nèi)頭部芯片公司，高端 KrF（248nm）光刻膠完成中試,，產(chǎn)品分辨率達(dá)到了 0.25～0.13m 的技術(shù)要求,，建成了中試示范線。

　　上海新陽主營開發(fā)銅互連電鍍液及添加劑,、蝕刻后清洗液,、ArF干法、KrF,、I線光刻膠,、底部抗反射膜等配套材料。

　　2016年底公司立項(xiàng)開發(fā)集成電路制造用高端光刻膠,，公司已研發(fā)獲得多個(gè)ArF干法,、KrF厚膜光刻膠產(chǎn)品配方、工藝數(shù)據(jù)和技術(shù)參數(shù),，得到了多次可重復(fù)的實(shí)驗(yàn)室曝光結(jié)果，關(guān)鍵曝光參數(shù)已經(jīng)達(dá)到了光刻生產(chǎn)工藝對商用光刻膠可以進(jìn)行中試產(chǎn)品驗(yàn)證的基本要求,。

　　南大光電是一家專業(yè)從事高純電子材料研發(fā),、生產(chǎn)和銷售的高新技術(shù)企業(yè)，公司正式成立于 2000 年,，技術(shù)來源于南京大學(xué),。

　　2020年12月，南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品成功通過武漢新芯的使用認(rèn)證,，成為通過產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國產(chǎn)ArF光刻膠,。

　　建立ArF光刻膠產(chǎn)品大規(guī)模生產(chǎn)線，形成年產(chǎn)25噸ArF（干式/浸沒式）光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)能力,，產(chǎn)品性能滿足90nm-14nm集成電路制造的要求,，在通過下游客戶使用認(rèn)證后實(shí)現(xiàn)批量銷售。

　　五家公司誰能跑贏,，這存在著變數(shù),，但這卻很可能是半導(dǎo)體行業(yè)未來發(fā)展的風(fēng)口。我們的半導(dǎo)體行業(yè)想要真正強(qiáng)大,，不僅需要突破制造端的限制,，還要突破原材料端的封鎖。

　　05 結(jié)語

　　總體而言,，疫情是中國企業(yè)整體崛起的一次機(jī)會,。

　　縱觀國際疫情肆虐，而國內(nèi)疫情控制極好,，不僅很早就復(fù)產(chǎn)復(fù)工,，而且很多行業(yè)的產(chǎn)業(yè)規(guī)模已經(jīng)超越疫情前水平。

　　過去幾年，很多外資企業(yè)將產(chǎn)業(yè)基地搬移至東南亞國家,，而在疫情之下,，已經(jīng)開始有部分企業(yè)重新回歸中國。從這方面看,，中國制造依然有著強(qiáng)勁的優(yōu)勢,。

　　聚焦半導(dǎo)體材料行業(yè)，雖然日本依然有著其它國家無可比擬技術(shù)實(shí)力,，但在下游市場,，中國產(chǎn)業(yè)鏈已經(jīng)成為不可或缺的一環(huán)，這種大趨勢下,，中國企業(yè)的自主可控話將是大勢所趨,。

　　突發(fā)的光刻膠斷供消息，對于中國半導(dǎo)體企業(yè)而言可能并不是壞事,，這讓投資者重新將注意力投回到了中國半導(dǎo)體行業(yè),。

　　光刻膠行業(yè)雖然僅占半導(dǎo)體整體的不到1%，但這確實(shí)必須爭下來的1%,。