11月25日消息,，有投資者向南大光電提問(wèn)稱,，公司 ARF 光刻膠驗(yàn)證的怎么樣啦，什么時(shí)候會(huì)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),？對(duì)此,，南大光電回應(yīng),，公司 ArF 光刻膠產(chǎn)品分別通過(guò)一家存儲(chǔ)芯片制造企業(yè)和一家邏輯芯片制造企業(yè)的驗(yàn)證,，目前多款產(chǎn)品正在多家客戶同時(shí)進(jìn)行認(rèn)證,，后續(xù)驗(yàn)證進(jìn)展情況請(qǐng)關(guān)注公司相關(guān)信息披露。

南大光電表示，目前公司有多款A(yù)rF光刻產(chǎn)品在國(guó)內(nèi)大型芯片制造企業(yè)進(jìn)行測(cè)試,。光刻膠是客制化產(chǎn)品，技術(shù)含量高,，驗(yàn)證周期長(zhǎng),，且體量不大。因?yàn)槭翘娲M(jìn)口,，所以我們研發(fā)的產(chǎn)品需要適應(yīng)客戶端的工藝參數(shù),，留給我們的調(diào)整空間很小，所以驗(yàn)證難度大,。目前驗(yàn)證進(jìn)展順利,，預(yù)計(jì)今年年底會(huì)有幾款產(chǎn)品通過(guò)驗(yàn)證。公司也將抓緊推進(jìn)市場(chǎng)拓展工作,，爭(zhēng)取盡快實(shí)現(xiàn)批量銷售,。

據(jù)了解，早在2016年,，南大光電參股了北京科華微電子材料有限公司,，便開始了研發(fā)“193nm光刻膠項(xiàng)目”，并且該公司是唯一一家通過(guò)了EUV光刻膠“02專項(xiàng)”研發(fā)的企業(yè),。彼時(shí),，南大光電便宣稱，計(jì)劃用3年的時(shí)間實(shí)現(xiàn)ArF光刻膠產(chǎn)品的建設(shè),、投產(chǎn)和銷售,，最終達(dá)到年產(chǎn)25噸193nm ArF光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模。

國(guó)產(chǎn)光刻膠任重而道遠(yuǎn)

資料顯示,，南大光電此次通過(guò)客戶認(rèn)證的ArF光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料,，可以用于90nm～14nm甚至7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝。廣泛應(yīng)用于高端芯片制造,，包括邏輯芯片,、AI芯片、5G芯片,、大容量存儲(chǔ)器和云計(jì)算芯片等,。

眾所周知，自去年以來(lái),，全球芯片供應(yīng)緊缺持續(xù),，各大晶圓廠積極擴(kuò)張產(chǎn)能，上游半導(dǎo)體耗材光刻膠等材料需求巨大,，如今南大光電ArF光刻膠再次通過(guò)企業(yè)認(rèn)證,，量產(chǎn)化有望，將很大程度緩解光刻膠產(chǎn)能緊缺的窘境。

光刻膠是半導(dǎo)體芯片制造行業(yè)的重要關(guān)鍵原材料,，在半導(dǎo)體集成電路材料中技術(shù)難度最大,，質(zhì)量要求最高，主要應(yīng)用于芯片制造的光刻工藝,，而光刻工藝又是半導(dǎo)體芯片最為核心的工藝,，占整個(gè)芯片制造成本的35％，光刻膠通過(guò)利用光化學(xué)反應(yīng)原理,，經(jīng)曝光,、顯影等光刻工序，將所需要的圖像留存,，并轉(zhuǎn)移到待加工的晶圓片上,，從而完成光刻。

在半導(dǎo)體領(lǐng)域,，光刻膠產(chǎn)品主要分為紫外光刻膠g線（436nm）和i線（365nm）,，深紫外光刻膠KrF（248nm）、ArF（193nm）,，以及目前最先進(jìn)的,，可以應(yīng)用于EUV技術(shù)的極紫外光刻膠（13．5nm）。

一直以來(lái),，國(guó)內(nèi)的光刻膠市場(chǎng)被日美等外資企業(yè)長(zhǎng)期壟斷,，國(guó)內(nèi)光刻膠企業(yè)僅有少量的低端g線、i線以及KrF線光刻膠可實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),，自給率不到20％,，目前國(guó)內(nèi)更為高端的ArF光刻膠產(chǎn)品仍未實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

根據(jù)公開資料顯示,，目前整個(gè)光刻膠產(chǎn)品的市場(chǎng)里,，日美企業(yè)占據(jù)了87％的市場(chǎng)份額，其中日企JSR株式會(huì)社在全球先進(jìn)的ArF,、EUV市場(chǎng)具有較為領(lǐng)先的地位,，是全球光刻膠龍頭廠商，占有28％的市場(chǎng)份額,，其他主要廠商包括日本的東京應(yīng)化,、富士電子、信越化學(xué),、美國(guó)的陶氏杜邦等,，具體占比如下圖所示：

（數(shù)據(jù)源于TC VIEW，OFweek維科網(wǎng)·電子工程制圖）

在高端光刻膠產(chǎn)品領(lǐng)域,，日本廠商在ArF,、KrF光刻膠市場(chǎng)的市占率分別為93％,、80％，幾乎完全壟斷了整個(gè)高端市場(chǎng),，并且日企JSR及東京應(yīng)化已經(jīng)可以供應(yīng)10nm以下半導(dǎo)體芯片制造行業(yè)的EUV極紫外光刻膠,。

如今，全球的光刻膠市場(chǎng)仍在穩(wěn)定增長(zhǎng)中,，知名咨詢服務(wù)公司TECHCET曾預(yù)測(cè),，2021年半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將同比增長(zhǎng)11％，達(dá)到19億美元,。在2020年和2021年的光刻膠市場(chǎng)中，KrF和浸入式ArF的市場(chǎng)份額占比較高,。對(duì)于EUV光刻膠市場(chǎng),，應(yīng)用范圍正在從邏輯芯片擴(kuò)展到DRAM。2021年的EUV光刻膠市場(chǎng)將超過(guò)2000萬(wàn)美元,，并且此后還將繼續(xù)增長(zhǎng),，預(yù)計(jì)到2025年將超過(guò)2億美元。

國(guó)內(nèi)對(duì)于光刻膠領(lǐng)域也尤為重視,。在2020年9月,，國(guó)家發(fā)改委等四部門聯(lián)合印發(fā)《關(guān)于擴(kuò)大戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)投資 壯大新增長(zhǎng)點(diǎn)增長(zhǎng)極的指導(dǎo)意見(jiàn)》提出，加快在光刻膠,、高純靶材,、高溫合金、高性能纖維材料,、高強(qiáng)高導(dǎo)耐熱材料,、耐腐蝕材料、大尺寸硅片,、電子封裝材料等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破,，以保障大飛機(jī)、微電子制造,、深海采礦等重點(diǎn)領(lǐng)域產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈穩(wěn)定,。

同時(shí)，在去年年初,，央視新聞更是發(fā)表了“光刻膠靠搶,！進(jìn)口芯片漲價(jià)20％”的報(bào)道；報(bào)道指出,，在我國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)中,，下游設(shè)計(jì)已經(jīng)能夠進(jìn)入全球第一梯隊(duì)，中游晶圓制造也在迎頭趕上,，而上游設(shè)備及材料領(lǐng)域與海外龍頭仍存在較大差距,。中國(guó)本土光刻膠整體技術(shù)水平與國(guó)際先進(jìn)水平存在較大差距,，自給率僅約10％，且主要集中在技術(shù)含量較低的PCB光刻膠領(lǐng)域,。

以往企業(yè)采購(gòu)光刻膠的量每次都在100多公斤,，近期由于原材料緊缺，企業(yè)每次只能買到很少的量（10－20公斤）,。一旦全球芯片短缺引發(fā)上游芯片材料供應(yīng)緊張,，光刻膠難以進(jìn)口，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)將會(huì)出現(xiàn)“無(wú)膠可用”的情況,。

截止目前,，國(guó)內(nèi)的多個(gè)光刻膠企業(yè)中，只有彤程新材旗下的子公司北京科華能實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)KrF光刻膠,，且是唯一被SEMI列入全球光刻膠八強(qiáng)的中國(guó)光刻膠公司,。

此外，南大光電是研發(fā)出全國(guó)第一只通過(guò)產(chǎn)品認(rèn)證的國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠的半導(dǎo)體上市企業(yè),。

在今年半年報(bào)中,，南大光電披露，193nm光刻膠作為當(dāng)前高端芯片制造中最為核心的原材料,，被譽(yù)為半導(dǎo)體工業(yè)的“血液”,，可以用于90nm～14nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝。

截至今年6月底,，公司安裝完成一條193nm光刻膠生產(chǎn)線,，用于產(chǎn)品檢測(cè)的光刻機(jī)也已完成安裝，產(chǎn)線和光刻機(jī)均處于調(diào)試階段,。

上述項(xiàng)目投資6．56億元,，根據(jù)規(guī)劃，南大光電將達(dá)到年產(chǎn)25噸193nm（ArF干式和浸沒(méi)式）光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模,，以滿足集成電路行業(yè)的需求,。

市場(chǎng)認(rèn)為，ArF光刻膠的市場(chǎng)前景好于預(yù)期,。隨著國(guó)內(nèi)IC行業(yè)的快速發(fā)展,，自主創(chuàng)新和國(guó)產(chǎn)化步伐的加快，以及先進(jìn)制程工藝的應(yīng)用,，將大大拉動(dòng)光刻膠的用量,。

南大光電表示，目前與客戶的產(chǎn)品銷售與服務(wù)協(xié)議尚在協(xié)商之中,。同時(shí),，ArF光刻膠的復(fù)雜性決定了其在穩(wěn)定量產(chǎn)階段仍然存在工藝上的諸多風(fēng)險(xiǎn)，其在應(yīng)用工藝的改進(jìn),、完善等方面的表現(xiàn),，都會(huì)決定ArF光刻膠的量產(chǎn)規(guī)模和經(jīng)濟(jì)效益,。

可以看出，在半導(dǎo)體原材料領(lǐng)域,，國(guó)產(chǎn)替代化進(jìn)程正有序進(jìn)行中,，未來(lái)實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體領(lǐng)域全面自主可控，指日可待,。

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