眾所周知,，在芯片的制造過程中,，光刻機(jī)是最重要且必不可少的一種設(shè)備，從成本來看,，光刻機(jī)占所有芯片制造設(shè)備的22％左右,。

成本高，占比重還在其次,，最重要的是,，全球能夠制造光刻機(jī)的廠商并不多，也就那么幾家,，而用于10nm以下工藝的EUV光刻機(jī),，全球只有ASML一家能造。

這問題就嚴(yán)重了，意味著所有想生產(chǎn)10nm以下芯片的廠商,，必須找ASML買光刻機(jī),，買不到的話，在當(dāng)前的技術(shù)條件下,，就無法進(jìn)入到10nm,，這才是問題的根本。

因?yàn)榇蠹叶级脑?，我們是找ASML買不到EUV光刻機(jī)的,，所以大家都明白，國產(chǎn)光刻機(jī)必須崛起,，否則中國芯片產(chǎn)業(yè)無法崛起,。

那么問題就來了，目前國內(nèi)的光刻機(jī)水平,，究竟什么樣了,，與ASML相比，究竟差距有多大,？

先說說全球的光刻機(jī)格局,，目前全球光刻機(jī)市場基本都由荷蘭ASML,、日本尼康和佳能公司完全壟斷,，而國內(nèi)的上海微電子產(chǎn)的光刻機(jī)，市場占有率基本可以忽略,，特別是在芯片制造光刻機(jī)這一塊,，更多用于封測、光刻膠生產(chǎn)等領(lǐng)域,。

2020年,，這三大廠商出貨光刻機(jī)413臺，增長15％,。ASML占258臺,，比例為62．47％；尼康31臺,，比例為7．51％,；佳能公司122臺，比例29．54％,。

而7nm及以下的EUV光刻機(jī),，只有ASML能生產(chǎn)。尼康的水平是生產(chǎn)浸入式光刻機(jī),，標(biāo)稱精度是28nm,，經(jīng)多重曝光，一般最多也只用于14nm。

而佳能生產(chǎn)的光刻機(jī),，標(biāo)稱精度是90nm,，經(jīng)多重曝光，最多也只用到28nm左右,，這就是這三大光刻機(jī)廠商的情況,。

而國內(nèi)最牛的是上海微電子，已公開量產(chǎn)的光刻機(jī)標(biāo)稱精度是90nm,，經(jīng)多重曝光,，最多也只用到28nm，與佳能一致,，但事實(shí)上沒人多重曝光這么來干,，因?yàn)槎嘀仄毓鈺悸曙@著降低，導(dǎo)致成本飆升,。

但之前有媒體報(bào)道稱,，上海微電子已經(jīng)在生產(chǎn)28nm的光刻機(jī)，多重曝光光后生產(chǎn)7nm芯片,，預(yù)計(jì)在2021－2022年交付,，但沒具體的報(bào)道，所以不能亂說,。

所以當(dāng)前國內(nèi)明面上的光刻機(jī)水平就是90nm,，就算多重曝光，最多也就是28nm,，考慮到ASML的DUV光刻機(jī)是不受限的,， 估計(jì)沒誰買90nm的，來生產(chǎn)28nm,。所以,，差距真的是非常非常大。

事實(shí)上,，EUV光刻機(jī)一共有10多萬個(gè)零件,，而ASML有5000多供應(yīng)商，可見要生產(chǎn)一臺EUV光刻機(jī),，真的不容易,，但再難，這個(gè)關(guān)我們也必須沖過去,。