自2020年至今,，全球芯片供應(yīng)短缺問題一直沒有得到解決，甚至還有愈演愈烈的趨勢,，這在一定程度上擾亂了制造業(yè)經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,，因此近兩年各國紛紛加強(qiáng)了對國內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)扶持，尤其是日本,。

其實(shí),，在上世紀(jì)八九十年代，日本半導(dǎo)體也曾有過輝煌時(shí)刻,，一度在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中撐起了半壁江山,，但因?yàn)槎嗄陙砣毡菊畬π酒a(chǎn)業(yè)投資不足，日本芯片制造在全球市場上的份額越來越小,。

這一次的全球“芯片荒”讓世界各國都意識到了掌握芯片制造的重要性,，決定重振芯片產(chǎn)業(yè)，這其中就包括日本,。

眾所周知,，芯片制造是一個(gè)資金密集型產(chǎn)業(yè)，因此日本政府加大了對芯片產(chǎn)業(yè)的投資,。日本首相曾表示,，將為國內(nèi)芯片生產(chǎn)提供超1.4萬億日元（約123億美元）的投資。

不過,，華爾街見聞2021年12月22日報(bào)道,，東京電子有限公司前總裁東哲郎認(rèn)為，日本政府應(yīng)該在下一季度提供稅收減免,，同時(shí)在未來10年內(nèi)投資10萬億日元（約880億美元）以振興日本芯片制造產(chǎn)業(yè),。

并且，東哲郎表示,，日本需要大概10年的時(shí)間才能進(jìn)入芯片制造的前線陣營,，期望在這段時(shí)間內(nèi)，日本能夠?qū)崿F(xiàn)2nm和3nm芯片的量產(chǎn)。

需要注意的是,，即便是全球技術(shù)最先進(jìn)的晶圓代工廠臺積電,，目前也沒能實(shí)現(xiàn)3nm芯片的量產(chǎn),。

日本芯片制造業(yè)已經(jīng)落后多年,，想要在10年內(nèi)沖刺3nm甚至2nm芯片的量產(chǎn)，這個(gè)難度著實(shí)不小,。那么,，日本究竟哪里來的底氣沖刺2nm芯片呢？

值得一提的是,，日本雖然沒有先進(jìn)的晶圓廠,，但它在半導(dǎo)體材料以及核心設(shè)備等領(lǐng)域卻具有明顯的優(yōu)勢。

以芯片制造過程中必不可少的核心設(shè)備——光刻機(jī)為例,，眾所周知全球能夠提供EUV光刻機(jī)的企業(yè)只有荷蘭的ASML公司,，但其實(shí)日本佳能、尼康也是光刻機(jī)領(lǐng)域的巨頭,。

不僅如此,，在ASML公司崛起之前，日本尼康才是全球光刻機(jī)霸主,，佳能緊隨其后,。盡管如今尼康和佳能在高端光刻機(jī)領(lǐng)域已經(jīng)“沒落”，但它們之前在光刻機(jī)領(lǐng)域的相關(guān)積累,，也能在一定程度上給日本的先進(jìn)制造提供指引,。

另外，在EUV光刻膠方面,，南大光電在2021年3月發(fā)布的相關(guān)報(bào)告中披露,，放眼全球只有日本廠商研發(fā)出了EUV光刻膠。

要知道,，在芯片制造的過程中,，光刻膠的重要性幾乎等同于光刻機(jī)，而且光刻膠的精度也制約著芯片制程的推進(jìn),，若想要生產(chǎn)制造出7nm節(jié)點(diǎn)以下的芯片,，EUV光刻膠是不可或缺的材料。

除了EUV光刻膠外,，日本企業(yè)在EUV涂覆顯影設(shè)備,，以及EUV光罩檢驗(yàn)設(shè)備中領(lǐng)域也做到了全球壟斷。

總而言之,，日本在部分半導(dǎo)體材料或設(shè)備領(lǐng)域的壟斷,，就是它的底氣。而在日本相關(guān)企業(yè)的配合下，以及政府的資金支持下,，日本的確存在復(fù)興半導(dǎo)體制造業(yè)的可能,。

不過，日本芯片的崛起,，必然會(huì)對中國芯片產(chǎn)業(yè)產(chǎn)生一定的威脅,，畢竟我國在半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈上的布局還并不完善。