在前幾天的文章《光刻機(jī)巨頭ASML的十年變遷》中，筆者梳理了ASML近10年來(lái)的財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)，介紹了其EUV/DUV光刻機(jī)出貨量,、年銷(xiāo)售額、研發(fā)投入以及各地區(qū)的銷(xiāo)售情況等,。

　　近日，ASML又公布了2021年年報(bào)，我們一起來(lái)看看其中有哪些看點(diǎn)和值得關(guān)注的話(huà)題。

　　下一代EUV光刻機(jī)何時(shí)問(wèn)世,？

　　在過(guò)去的40年里，我們逐漸從個(gè)人電腦和移動(dòng)設(shè)備時(shí)代進(jìn)化到云時(shí)代,，我們生活的幾乎每個(gè)方面都在網(wǎng)上存儲(chǔ)和管理,。ASML CTO Martin van den Brink表示，數(shù)字化未來(lái)的下一步將是分布式智能,，由通信、計(jì)算和人工智能的無(wú)縫集成驅(qū)動(dòng),，所有這些趨勢(shì)都要求更高的計(jì)算能力,，這反過(guò)來(lái)又加速了對(duì)更強(qiáng)大、更節(jié)能的微芯片的需求,。

　　隨著芯片工藝制程的不斷演進(jìn),，芯片的制造變得越來(lái)越復(fù)雜。當(dāng)今最先進(jìn)的處理器基于Logic N5節(jié)點(diǎn)（5nm）,，包含數(shù)十億個(gè)晶體管,。下一代芯片設(shè)計(jì)將包括更先進(jìn)的材料、新的封裝技術(shù)和更復(fù)雜的3D設(shè)計(jì),。

　　而光刻技術(shù)是制造性能更強(qiáng)大,、成本更便宜芯片的推動(dòng)力。ASML的目標(biāo)一直是減少芯片工藝的臨界尺寸,，其整體光刻產(chǎn)品組合（EUV,、ArFi、ArF,、KrF和i-line系統(tǒng)等）有助于優(yōu)化生產(chǎn),，并通過(guò)將光刻系統(tǒng)與計(jì)算建模、計(jì)量和檢測(cè)解決方案集成,，幫助優(yōu)化生產(chǎn)并實(shí)現(xiàn)成本的降低,。

　　半導(dǎo)體制造工藝（圖源：ASML）

　　光刻系統(tǒng)所能達(dá)到的分辨率是光刻收縮的主要驅(qū)動(dòng)因素之一,，它主要由所用光的波長(zhǎng)和光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑?jīng)Q定。更短的波長(zhǎng)就像用于繪畫(huà)的更細(xì)的刷子,，可以打印出更小的特征,。更大的數(shù)值孔徑可以更緊密地聚焦光線(xiàn)，也能夠帶來(lái)更好的分辨率,。

　　ASML光刻系統(tǒng)的發(fā)展一直是通過(guò)減少波長(zhǎng)和增加數(shù)值孔徑來(lái)進(jìn)行演進(jìn),。多年來(lái)，ASML做了幾個(gè)波長(zhǎng)步長(zhǎng),，DUV光刻系統(tǒng)范圍從365 nm (i-line),， 248 nm (KrF)到193 nm (ArF) ，而EUV光刻機(jī)的光波波長(zhǎng)僅為13.5nm,。

　　NA是光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑,，表示光線(xiàn)的入射角度。使用更大的NA透鏡可以打印出更小的結(jié)構(gòu),。除了更大的透鏡外,，ASML還通過(guò)在最后一個(gè)透鏡元件和晶圓之間保持一層水薄膜來(lái)增加ArF系統(tǒng)的NA(即所謂的浸泡系統(tǒng))。在波長(zhǎng)步進(jìn)到EUV之后,，ASML正在開(kāi)發(fā)下一代EUV系統(tǒng),，稱(chēng)為EUV 0.55 NA (HighNA)，將數(shù)值孔徑從0.33提高到0.55,。

　　TWINSCAN NXE:3600D是ASML最新一代EUV 0.33 NA光刻系統(tǒng),。與其前身TWINSCAN NXE:3400C相比，能夠提供15%至20%的生產(chǎn)力改進(jìn)能力和約30%的覆蓋改進(jìn),，支持5nm和3nm邏輯節(jié)點(diǎn)和領(lǐng)先DRAM節(jié)點(diǎn)的EUV量產(chǎn),。

　　年報(bào)中指出，EUV產(chǎn)品路線(xiàn)圖將幫助ASML在未來(lái)10年里實(shí)現(xiàn)設(shè)備價(jià)格合理的擴(kuò)展,。ASML的EUV 0.33 NA平臺(tái)擴(kuò)展了客戶(hù)的邏輯和DRAM路線(xiàn)圖,，使用EUV制造芯片有助于減少40%的關(guān)鍵光刻掩模量和30%的工藝步驟，幫助客戶(hù)顯著的減少了成本和周期時(shí)間,。

　　有數(shù)據(jù)顯示,，自EUV推出以來(lái)至2021年底，ASML的EUV光刻機(jī)生產(chǎn)了超過(guò)5900萬(wàn)片晶圓,，2020年底這一數(shù)字為2600萬(wàn)片,。可見(jiàn)EUV光刻機(jī)當(dāng)前正處于快速起量階段,，ASML預(yù)計(jì),，EUV的采用將繼續(xù)增長(zhǎng)，到2024年所有先進(jìn)節(jié)點(diǎn)芯片制造商預(yù)計(jì)將在生產(chǎn)中使用EUV,。

　　下一代EUV 0.55 NA平臺(tái)將繼續(xù)為未來(lái)節(jié)點(diǎn)實(shí)現(xiàn)經(jīng)濟(jì)高效的擴(kuò)展,，具有更高數(shù)值孔徑的新型光學(xué)設(shè)計(jì),，有望使芯片尺寸減小1.7倍，進(jìn)一步提高分辨率,，并將微芯片密度提高近3倍,。第一個(gè)EUV 0.55 NA平臺(tái)早期接入系統(tǒng)預(yù)計(jì)將在2023年投入使用，預(yù)計(jì)客戶(hù)將在2024-2025年開(kāi)始研發(fā),，2025-2026年進(jìn)入客戶(hù)的大批量生產(chǎn),。

　　光刻設(shè)備的“主力軍”

　　光刻系統(tǒng)本質(zhì)上是一種投影系統(tǒng)，光線(xiàn)投射到將要被打印的圖案上(稱(chēng)為“蒙版”或“掩膜”),。通過(guò)在光中編碼圖案,，系統(tǒng)的光學(xué)系統(tǒng)收縮并將圖案聚焦到光敏硅片上。在圖案印好后,，系統(tǒng)輕微移動(dòng)晶圓,，在晶圓上制作另一份副本。

　　這個(gè)過(guò)程重復(fù)進(jìn)行,，直到晶圓被圖案覆蓋,，完成晶圓的一層。為了制造一個(gè)完整的芯片,，這個(gè)過(guò)程要一層一層地重復(fù),，把圖案疊加起來(lái)，形成一個(gè)集成電路(IC),。目前,，最簡(jiǎn)單的芯片有40層左右，而復(fù)雜的芯片可以達(dá)到150層以上,。

　　當(dāng)前，DUV光刻系統(tǒng)仍是業(yè)界的主力,。DUV系統(tǒng)支持眾多的細(xì)分市場(chǎng),，在當(dāng)今客戶(hù)設(shè)備中負(fù)責(zé)打印大多數(shù)層，并將在未來(lái)的設(shè)備中保持重要地位,。

　　半導(dǎo)體行業(yè)目前使用的DUV分為浸沒(méi)式和干式光刻解決方案,，i-line采用365 nm波長(zhǎng)，KrF采用248 nm波長(zhǎng),，ArF采用193 nm波長(zhǎng),，這些系統(tǒng)有助于制造廣泛的半導(dǎo)體節(jié)點(diǎn)和技術(shù)，并支持行業(yè)的成本和節(jié)能擴(kuò)展,。

　　ASML的DUV浸沒(méi)式和干式系統(tǒng)在生產(chǎn)率,、成像和覆蓋性能方面領(lǐng)先業(yè)界，可結(jié)合EUV技術(shù)大批量生產(chǎn)最先進(jìn)的邏輯和內(nèi)存芯片,，同時(shí)繼續(xù)為成熟節(jié)點(diǎn)和小批量應(yīng)用提供價(jià)值,。

　　ArF浸沒(méi)式光刻在透鏡和晶圓之間保持一層水薄膜,，增加NA并提高分辨率以支持進(jìn)一步的收縮。ASML的浸沒(méi)系統(tǒng)適用于單曝光和多圖案光刻,，可與EUV系統(tǒng)無(wú)縫結(jié)合,，用于打印同一芯片的不同層。TWINSCAN NXT:2050i是ASML目前最先進(jìn)的浸沒(méi)式系統(tǒng),，目前正用于5nm邏輯和第四代10nm DRAM節(jié)點(diǎn)的大批量生產(chǎn),。

　　然而，并非芯片上的每一層都需要最新和最大的浸入式光刻系統(tǒng)來(lái)生產(chǎn),，先進(jìn)或復(fù)雜的層可以使用先進(jìn)的光刻系統(tǒng)來(lái)打印,，但其他層通常可以使用“老式”技術(shù),，如干式光刻系統(tǒng)來(lái)打印,。ASML的干式系統(tǒng)產(chǎn)品組合為客戶(hù)提供了各種波長(zhǎng)的更經(jīng)濟(jì)的解決方案。

　　TWINSCAN NXT:1470是ASML最新的干式ArF光刻系統(tǒng),，提供每小時(shí)300片晶圓的記錄生產(chǎn)力,，具有4nm覆蓋能力；TWINSCAN XT:86ON是新一代KrF系統(tǒng),，具有0.80 NA的分辨率,，支持大容量200mm和300mm晶圓生產(chǎn)，以及低于110nm的分辨率,；對(duì)于更關(guān)鍵的KrF層,，0.93 NA TWINSCAN XT:1060K是其最先進(jìn)的KrF光刻系統(tǒng)，在80nm及以下提供一流的分辨率和覆蓋,。

　　ASML CEO...表示,，我們今天看到的行業(yè)市場(chǎng)增長(zhǎng)，不僅存在于最先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)上,，許多分布式計(jì)算和存儲(chǔ)解決方案都需要成熟的光刻技術(shù)來(lái)制造,。預(yù)計(jì)到2025年，ASML系統(tǒng)總銷(xiāo)量的三分之二將是EUV,，其余將是DUV和計(jì)量檢測(cè)系統(tǒng),。這一預(yù)期比例低于我們?cè)?018年的預(yù)測(cè)，但這并不意味著EUV市場(chǎng)出現(xiàn)萎縮,，而是DUV和計(jì)量檢測(cè)市場(chǎng)比預(yù)計(jì)的增速更快,。

　　未來(lái)的半導(dǎo)體動(dòng)力是什么？

　　哪些因素正在塑造半導(dǎo)體行業(yè)的格局,？推動(dòng)當(dāng)前和未來(lái)行業(yè)發(fā)展的主要趨勢(shì)是什么,？

　　ASML認(rèn)為，不斷增長(zhǎng)的消費(fèi)需求,、全球人才競(jìng)賽,、地緣政治因素,、擴(kuò)大研發(fā)投資以及不斷變化的外部環(huán)境和采取行動(dòng)應(yīng)對(duì)氣候變化等因素正在重塑半導(dǎo)體行業(yè)格局。

•  不斷增長(zhǎng)的消費(fèi)需求：無(wú)線(xiàn)通信,、電信,、媒體和云通過(guò)連接設(shè)備的融合繼續(xù)推動(dòng)全球?qū)ο冗M(jìn)半導(dǎo)體的需求，不斷增長(zhǎng)的人口和城市化正在增加對(duì)先進(jìn)消費(fèi)電子設(shè)備的需求,。芯片作為這些設(shè)備的核心,，新興技術(shù)的不斷發(fā)展和要求正在成為芯片的重要增長(zhǎng)驅(qū)動(dòng)力。

• 全球人才競(jìng)賽：擁有技術(shù)背景的高技能人才在勞動(dòng)力市場(chǎng)上非常稀缺,，競(jìng)爭(zhēng)也在加劇,。行業(yè)公司正試圖為增長(zhǎng)增加人手，但高科技人才資源池卻很淺,，該行業(yè)在爭(zhēng)奪一小部分具備開(kāi)發(fā)創(chuàng)新解決方案技能的科學(xué)家,、工程師和軟件開(kāi)發(fā)人員。全球?qū)θ瞬诺臓?zhēng)奪正變得越來(lái)越關(guān)鍵,。STEM職位的數(shù)量預(yù)計(jì)將大幅增長(zhǎng),，但由于合格候選人的短缺，填補(bǔ)這些職位頗具挑戰(zhàn)性,。留住人才已成為科技公司的關(guān)鍵,。

• 全球地緣政治：目前的貿(mào)易環(huán)境給全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)帶來(lái)了巨大的挑戰(zhàn)，貿(mào)易緊張和保護(hù)主義的加劇可能會(huì)繼續(xù)下去,。這場(chǎng)全球蔓延的疫情提醒世界各國(guó)政府,，全球供應(yīng)鏈可能會(huì)對(duì)服務(wù)、原材料和最終產(chǎn)品產(chǎn)生重大的地理依賴(lài),。

　　半導(dǎo)體在大型工業(yè)聯(lián)合體的成長(zhǎng)和連續(xù)性中發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用,，各國(guó)政府已將注意力轉(zhuǎn)向半導(dǎo)體供應(yīng)鏈以確保供應(yīng)充足，并計(jì)劃對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進(jìn)行大規(guī)模投資,。根據(jù)外部數(shù)據(jù),，美國(guó)、中國(guó),、歐盟、日本和韓國(guó)預(yù)計(jì)使該行業(yè)2021年的年度資本支出增加近一倍,，達(dá)到1500億美元,。除了財(cái)務(wù)方面的影響，貿(mào)易緊張和保護(hù)主義也給整個(gè)供應(yīng)鏈及其過(guò)程帶來(lái)了巨大的復(fù)雜性,，迫使該行業(yè)重新審視其全球供應(yīng)鏈,。

• 擴(kuò)大研發(fā)投資：在快速發(fā)展的半導(dǎo)體行業(yè)中，獲取最新的技術(shù),、芯片設(shè)計(jì)和制造工藝是競(jìng)爭(zhēng)的基礎(chǔ),。芯片制造商面臨的支持應(yīng)用和終端市場(chǎng)正變得越來(lái)越復(fù)雜,，同時(shí)，隨著科技平臺(tái)公司逐漸轉(zhuǎn)向內(nèi)部芯片設(shè)計(jì),，傳統(tǒng)半導(dǎo)體公司面臨著多元化投資組合的挑戰(zhàn),。

　　此外，執(zhí)行創(chuàng)新的增量成本正在上升,，需要更高水平的研發(fā)投資來(lái)實(shí)現(xiàn)同樣的目標(biāo),。讓產(chǎn)品更快地進(jìn)入市場(chǎng)至關(guān)重要，否則芯片制造商將面臨錯(cuò)失良機(jī)的風(fēng)險(xiǎn),。因此,，盡快向客戶(hù)提供解決方案的壓力正在增加。

• 不斷變化的環(huán)境：為了利用人工智能,、物聯(lián)網(wǎng),、5G和自動(dòng)駕駛汽車(chē)等大趨勢(shì)的融合，該行業(yè)正在大量投資于能夠釋放整個(gè)投資組合價(jià)值的資產(chǎn),。

　　全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)近年來(lái)呈現(xiàn)出巨大的增長(zhǎng),，預(yù)計(jì)這一趨勢(shì)將持續(xù)下去。該行業(yè)正重新聚焦于提高核心競(jìng)爭(zhēng)力的技術(shù)和市場(chǎng)領(lǐng)域,。集中在新興技術(shù)上的合并,、收購(gòu)和合資企業(yè)預(yù)計(jì)將成為芯片市場(chǎng)戰(zhàn)略的關(guān)鍵組成部分。

• 采取行動(dòng)應(yīng)對(duì)氣候變化：氣候變化在世界各地都是一個(gè)緊迫的問(wèn)題,。這是一項(xiàng)全球性挑戰(zhàn),， 半導(dǎo)體制造過(guò)程消耗了大量的能源和水資源。隨著摩爾定律的發(fā)展,，芯片計(jì)算能力和存儲(chǔ)容量的提高會(huì)加大對(duì)這些資源的需求,。為了提高能源和水資源的利用效率，需要新的設(shè)備和看待整個(gè)生態(tài)系統(tǒng)的新方式,。為了迎接這些挑戰(zhàn),，半導(dǎo)體行業(yè)必須降低功耗。

　　對(duì)此,，ASML提到,，由于DUV和EUV平臺(tái)具有通用性，因此可以更快,、更具成本效益的進(jìn)行創(chuàng)新,、生產(chǎn)和維護(hù)。ASML正在對(duì)產(chǎn)品的能源效率進(jìn)行投資,，幫助降低生產(chǎn)晶圓所需的能源,。此外，ASML還有一個(gè)致力于減少浪費(fèi)的路線(xiàn)圖，與客戶(hù)和供應(yīng)商合作在其價(jià)值鏈中盡可能地重復(fù)使用零部件,、工具和包裝,，以防止不必要的浪費(fèi)。

　　另外,，從ASML對(duì)整個(gè)行業(yè)當(dāng)前市場(chǎng)規(guī)模和市場(chǎng)機(jī)會(huì)的展望來(lái)看,，不同細(xì)分應(yīng)用市場(chǎng)的驅(qū)動(dòng)因素也正在塑造半導(dǎo)體行業(yè)的格局，成為當(dāng)前和未來(lái)推動(dòng)行業(yè)發(fā)展的主要趨勢(shì),。

　　ASML業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)背后

　　受全球芯片短缺,、數(shù)字基礎(chǔ)設(shè)施加速和“技術(shù)主權(quán)”推動(dòng)，導(dǎo)致市場(chǎng)對(duì)先進(jìn)和成熟節(jié)點(diǎn)的需求強(qiáng)勁增長(zhǎng),。2021年,，ASML的凈銷(xiāo)售額創(chuàng)下了186億歐元的紀(jì)錄，比去年增加了46億歐元,。

　　ASML CFO Roger Dassen表示,，因?yàn)榭蛻?hù)繼續(xù)對(duì)先進(jìn)和成熟節(jié)點(diǎn)的強(qiáng)勁需求，2021年邏輯系統(tǒng)的銷(xiāo)售額增長(zhǎng)了22億歐元,，增幅達(dá)30%,；由于終端市場(chǎng)對(duì)服務(wù)器和智能手機(jī)的強(qiáng)勁需求，內(nèi)存系統(tǒng)銷(xiāo)售額增長(zhǎng)了11億歐元,，增幅達(dá)39%,。

　　凈銷(xiāo)售額的增長(zhǎng)是由ASML所有技術(shù)的強(qiáng)勁需求推動(dòng)的。ASML在2021年成功出貨了42套EUV系統(tǒng),，包括26臺(tái)用于大批量生產(chǎn)的第一個(gè)NXE:3600D,。這使得EUV系統(tǒng)在2021年的收入達(dá)到63億歐元，比2020年增加了18億歐元,。

　　所有技術(shù)的強(qiáng)勁需求推動(dòng)了凈銷(xiāo)售額的增長(zhǎng)(單位：百萬(wàn)歐元)

　　DUV系統(tǒng)銷(xiāo)量也從2020年的227臺(tái)增加到2021年的267臺(tái),。除了EUV和DUV的增長(zhǎng)，服務(wù)和現(xiàn)場(chǎng)選擇的銷(xiāo)售也是ASML整體凈銷(xiāo)售增長(zhǎng)的關(guān)鍵驅(qū)動(dòng)力,，這一增長(zhǎng)是由生產(chǎn)率,、覆蓋和升級(jí)包銷(xiāo)售的增長(zhǎng)所驅(qū)動(dòng)，這為快速增加晶圓產(chǎn)量提供了最有效和高效的方式,，并得到了不斷增長(zhǎng)的安裝基礎(chǔ)的支持,。

　　為了滿(mǎn)足客戶(hù)對(duì)額外晶圓產(chǎn)能的需求，ASML加快了生產(chǎn)能力升級(jí)的交付,，甚至在正常的工廠驗(yàn)收測(cè)試(FAT)完成之前發(fā)貨,，在客戶(hù)工廠完成驗(yàn)收測(cè)試來(lái)加快系統(tǒng)的交付。

　　不難看到,，正在進(jìn)行的數(shù)字化轉(zhuǎn)型和當(dāng)前的芯片短缺進(jìn)一步推動(dòng)了ASML提高產(chǎn)能的需求，一方面，在數(shù)字轉(zhuǎn)換和分布式計(jì)算的驅(qū)動(dòng)下,，對(duì)先進(jìn)和成熟節(jié)點(diǎn)的邏輯需求繼續(xù)強(qiáng)勁,；另一邊，受服務(wù)器和智能手機(jī)終端市場(chǎng)需求的推動(dòng),，內(nèi)存需求持續(xù)增長(zhǎng),。為了滿(mǎn)足DRAM和NAND的強(qiáng)勁需求增長(zhǎng)，客戶(hù)將增加產(chǎn)能并繼續(xù)進(jìn)行節(jié)點(diǎn)遷移,。隨著客戶(hù)遷移到更高級(jí)的節(jié)點(diǎn),，ASML預(yù)計(jì)EUV對(duì)內(nèi)存的需求會(huì)繼續(xù)增加。

　　2019-2021年ASML來(lái)自邏輯和內(nèi)存市場(chǎng)以及安裝基礎(chǔ)的營(yíng)收數(shù)據(jù)(單位：百萬(wàn)歐元)

　　在研發(fā)投入方面,，2021年ASML的研發(fā)成本為25.47億歐元,，相較于2020年22.08億歐元的投入，這些增加的投資涉及整體光刻解決方案的EUV,、DUV和應(yīng)用程序項(xiàng)目,，其中最重要的投資用于繼續(xù)加強(qiáng)EUV大批量生產(chǎn)的路線(xiàn)圖，以及EUV 0.55 NA的開(kāi)發(fā),。

　　2020-2021年ASML研發(fā)投入(單位：百萬(wàn)歐元)

　　ASML預(yù)計(jì),，受健康的邏輯需求和內(nèi)存市場(chǎng)增長(zhǎng)的推動(dòng)，預(yù)計(jì)2022年凈銷(xiāo)售額將比2021年增長(zhǎng)約20%,。預(yù)期的增長(zhǎng)是由所有平臺(tái)的銷(xiāo)量增長(zhǎng)以及安裝基礎(chǔ)業(yè)務(wù)的增長(zhǎng)所推動(dòng)的：

　　邏輯芯片部分：不斷擴(kuò)大的應(yīng)用空間和長(zhǎng)期的增長(zhǎng)動(dòng)力轉(zhuǎn)化為對(duì)高級(jí)和成熟節(jié)點(diǎn)的強(qiáng)勁需求,。隨著需求的持續(xù)強(qiáng)勁，預(yù)計(jì)邏輯系統(tǒng)的收入將同比增長(zhǎng)20%以上,；

　　內(nèi)存方面：隨著系統(tǒng)利用率的提高,，結(jié)合客戶(hù)正在進(jìn)行技術(shù)轉(zhuǎn)型，以支持預(yù)計(jì)的增長(zhǎng),。預(yù)計(jì)還需要額外的產(chǎn)能增加,，因此，2022年內(nèi)存市場(chǎng)對(duì)光刻設(shè)備的需求強(qiáng)勁,，系統(tǒng)收入將同比增長(zhǎng)25%左右,；

　　EUV設(shè)備：隨著客戶(hù)對(duì)EUV的采用以及信心的增加，2022年預(yù)計(jì)將發(fā)貨約55個(gè)EUV系統(tǒng)（其中6個(gè)系統(tǒng)的收入將推遲到2023年確認(rèn)）,，預(yù)計(jì)2022年EUV系統(tǒng)的收入將增長(zhǎng)25%,。

　　非EUV系統(tǒng)：在DUV和應(yīng)用業(yè)務(wù)中，ASML預(yù)計(jì)浸沒(méi)式和干式系統(tǒng)都將增長(zhǎng),，同時(shí)對(duì)計(jì)量和檢測(cè)系統(tǒng)的需求也將持續(xù)增長(zhǎng),，預(yù)計(jì)非EUV出貨收入增長(zhǎng)超過(guò)20%。

　　展望2025到2030年,，近十年都將圍繞分布式計(jì)算,，讓云更接近邊緣設(shè)備，通過(guò)連接，計(jì)算能力將為所有人提供“設(shè)備上”的計(jì)算能力,，從而實(shí)現(xiàn)一個(gè)連接的世界,。這些全球電子行業(yè)的大趨勢(shì)，在一個(gè)高度盈利和激烈創(chuàng)新的生態(tài)系統(tǒng)的支持下,，預(yù)計(jì)將繼續(xù)推動(dòng)整個(gè)半導(dǎo)體市場(chǎng)的增長(zhǎng),。

　　這意味著先進(jìn)節(jié)點(diǎn)和成熟節(jié)點(diǎn)對(duì)晶圓的需求都在增加，進(jìn)而提升光刻設(shè)備的需求,。根據(jù)不同的市場(chǎng)場(chǎng)景,，ASML認(rèn)為2025年有望實(shí)現(xiàn)240億-300億歐元左右的年銷(xiāo)售額，毛利率在54%-56%之間,。

　　ASML市場(chǎng)預(yù)期（圖源：ASML）

　　ASML侵權(quán)“羅生門(mén)”

　　ASML年報(bào)中提到：“我們可能遭受惡意攻擊,，包括第三方或自己的員工竊取公司的商業(yè)秘密、專(zhuān)有客戶(hù)數(shù)據(jù),、知識(shí)產(chǎn)權(quán)或其他機(jī)密信息,。盡管我們努力保護(hù)知識(shí)產(chǎn)權(quán)，但未經(jīng)授權(quán)的第三方也有可能獲得,、復(fù)制,、使用或披露我們的專(zhuān)有技術(shù)、產(chǎn)品,、設(shè)計(jì),、工藝和其他知識(shí)產(chǎn)權(quán)。2021年,，我們獲悉與XTAL公司有關(guān)聯(lián)的一家公司——東方晶源,，正在中國(guó)積極營(yíng)銷(xiāo)可能侵犯ASML知識(shí)產(chǎn)權(quán)的產(chǎn)品?！?/p>

　　近日,，針對(duì)“ASML稱(chēng)東方晶源可能侵權(quán)”一事，東方晶源發(fā)布聲明稱(chēng),，東方晶源自成立以來(lái)一直遵守中國(guó)法律法規(guī),、合法合規(guī)經(jīng)營(yíng)。秉承獨(dú)立研發(fā),、自主創(chuàng)新的理念,，東方晶源尊重、保護(hù)知識(shí)產(chǎn)權(quán),，并形成了獨(dú)立,、完備的知識(shí)產(chǎn)權(quán)體系。盡管東方晶源的聲明沒(méi)有提到ASML公司,，但意思很顯然是回應(yīng)及反駁,。

　　據(jù)公開(kāi)資料顯示,，XTAL公司成立于2014年，由前ASML員工創(chuàng)立,，2016年ASML對(duì)XTAL公司發(fā)起訴訟,，2018年美國(guó)加州圣克拉拉聯(lián)邦法院初步裁決，XTAL盜竊知識(shí)產(chǎn)權(quán)罪名成立,，2019年法院發(fā)出最終判決結(jié)果，ASML獲得勝訴,，XTAL需賠償ASML 8.45億美元,，ASML接手了已破產(chǎn)的XTAL的大部分知識(shí)產(chǎn)權(quán)。

　　荷蘭金融報(bào)紙F(tuán)inancieele Dagblad 2019年曾報(bào)道,，中國(guó)員工從ASML竊取了企業(yè)機(jī)密,，造成數(shù)億美元損失。報(bào)道稱(chēng),，調(diào)查發(fā)現(xiàn)ASML美國(guó)子公司研發(fā)部門(mén)的高級(jí)中國(guó)員工竊取了技術(shù),，并最終泄露給了中國(guó)公司。

　　然而,，ASML或許也不想擴(kuò)大事端,，2019年，ASML分別在其官網(wǎng)和上貼出官方聲明：“ASML并不認(rèn)同‘中國(guó)間諜’說(shuō)”,。

　　據(jù)了解,，東方晶源2021年公司完成28nm邏輯芯片關(guān)鍵工藝層良率硅片驗(yàn)證結(jié)果優(yōu)異，持續(xù)突破技術(shù)壁壘,，14nm計(jì)算光刻技術(shù)已就緒,，首臺(tái)套EBI產(chǎn)業(yè)化成果顯著；公司于2021年度實(shí)現(xiàn)銷(xiāo)售額迅速攀升過(guò)億的“小目標(biāo)”,，接洽客戶(hù)近60家,，涉及存儲(chǔ)、邏輯,、第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域等眾多頭部客戶(hù),。

　　但根據(jù)產(chǎn)品的性能等級(jí)來(lái)看，東方晶源的產(chǎn)品其實(shí)還遠(yuǎn)到不了威脅ASML的地步,，但是,，ASML此次在2021年年報(bào)中又提及此事，稱(chēng)東方晶源可能與2018年因竊密而被判賠償?shù)腦TAL公司有關(guān)聯(lián),，且已經(jīng)提示自己的特定客戶(hù)不要協(xié)助或縱容東方晶源從事潛在侵權(quán)行為,，同時(shí)也向中國(guó)相關(guān)機(jī)構(gòu)表達(dá)了自己的擔(dān)憂(yōu)。

　　ASML稱(chēng)正在密切關(guān)注這一事項(xiàng),，并準(zhǔn)備在適當(dāng)時(shí)機(jī)采取法律行動(dòng),，但又并未提供更多證據(jù),。這種說(shuō)法出現(xiàn)在財(cái)報(bào)中，實(shí)屬罕見(jiàn),。不免引人深思,。

　　以上是本次摘取出來(lái)的ASML 2021年財(cái)報(bào)要點(diǎn)，如需獲取完整財(cái)報(bào)內(nèi)容,，可在公眾號(hào)回復(fù)“ASML財(cái)報(bào)”獲取完整報(bào)告,。