先進的隔膜閥提供了精確的進料、快速執(zhí)行和上億次生產(chǎn)循環(huán)的一致性能。

作者：時間：2022-08-25來源：電子產(chǎn)品世界收藏

本文引用地址：http://www.eepw.com.cn/article/202208/437719.htm

流體系統(tǒng)產(chǎn)品,、組件及相關(guān)服務(wù)的領(lǐng)先供應(yīng)商世偉洛克日前宣布推出世偉洛克? ALD7 超高純(UHP)隔膜閥 — 該產(chǎn)品能夠為半導(dǎo)體制造商提供提高芯片產(chǎn)量必需的一致性和長使用壽命,。與世偉洛克目前頂級的 ALD6 閥門相比，ALD7 提供了更好的流量一致性,、流通能力和執(zhí)行機構(gòu)速度。它還提供了必要的高溫下性能，使芯片制造商能夠克服當前制造工藝的限制,，滿足需求。

ALD7 閥門可以被集成到新設(shè)備或原有設(shè)備中,，在與現(xiàn)有閥門相同的 1.5-inch (38.1mm)安裝下提供更高的流通能力（高達 0.7 Cv）,，幫助制造商滿足全球?qū)ο冗M技術(shù)芯片的強勁需求。ALD7 閥門通過比其前身 ALD6 更快、更一致的執(zhí)行速度,，在上億次 ALD（原子層沉積）生產(chǎn)循環(huán)中提供精確進料,。該執(zhí)行機構(gòu)的打開和關(guān)閉響應(yīng)時間可低于 5ms。執(zhí)行機構(gòu)可浸入 150°C (302°F)環(huán)境,，而閥體的額定溫度為 200°C (392°F),，使閥門能夠更好地支持需要高溫輸送的低蒸汽壓前驅(qū)體。這為制造商提供了增加產(chǎn)量和良率所需的控制,。

ALD7 閥門擁有緊湊的設(shè)計,，集成了熱隔離器，使系統(tǒng)設(shè)計者能夠盡可能地利用芯片制造設(shè)備的反應(yīng)腔附近的有限空間,。此閥門對 ALD 工藝中使用的腐蝕性氣體也有很強的抗腐蝕能力,，其閥體由世偉洛克專有的超高純 316L VIM-VAR 不銹鋼構(gòu)成。因此,，半導(dǎo)體設(shè)備制造商可以依靠 ALD7 閥在易變的工藝條件下提供一致的性能,，為客戶在不增加運營成本的情況下提高產(chǎn)能。

“自從近 20 年前開發(fā)出行業(yè)內(nèi)第一款符合應(yīng)用的ALD 閥以來,，我們一直與半導(dǎo)體客戶合作,，以更好地了解在芯片制造商繼續(xù)縮小工藝節(jié)點和增加芯片產(chǎn)量的情況下，我們的超高純閥所需要的性能水平,，”世偉洛克產(chǎn)品經(jīng)理 Ben Olechnowicz 解釋說,。“這使得我們不斷追求創(chuàng)新思維,，開發(fā)閥門,，使其執(zhí)行更快，應(yīng)用于更極端的條件,，具有更高的流量系數(shù),，以滿足原子層工藝的持續(xù)要求。我們將 ALD7 設(shè)計成一款可靠的全天候生產(chǎn)閥門,，可以滿足所有這些要求,，為我們的客戶提供必要的性能一致性，以便在這個似乎總是在變化并對制造商提出更多要求的行業(yè)中保持領(lǐng)先地位,?！?/p>

ALD7 目前可提供高流量 C型密封的模塊化表面安裝配置，或配備卡套管對焊和世偉洛克 VCR? 面密封接頭端接的直通配置,。高溫電子位置傳感器,、光學(xué)位置傳感器或電磁先導(dǎo)閥配置也可作為附加元件提供。

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