近期業(yè)內(nèi)人士指出純國產(chǎn)的14nm工藝最快將在明年底量產(chǎn),，這與此前力推的28nm工藝實(shí)現(xiàn)純國產(chǎn),，無疑是一個巨大的進(jìn)步,，國產(chǎn)先進(jìn)工藝的快速進(jìn)展將有利于推動國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)的躍進(jìn),。

最早傳出14nm國產(chǎn)化的是電子信息研究所所長溫曉君,，今年6月他接受采訪的時候就表示國產(chǎn)14nm芯片將在明年年底前實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，那么純國產(chǎn)芯片制造工藝為何一下子就從此前的努力實(shí)現(xiàn)28nm國產(chǎn)化躍進(jìn)到14nm呢,？

這就要從光刻機(jī)的特性說起,，業(yè)界人士指出其實(shí)并沒有嚴(yán)格意義上的28nm、14nm光刻機(jī),，自從45nm工藝以來都是采用浸潤式光刻機(jī),，光源都是DUV光源ArF，激光光源波長都是193nm,，然后通過水介質(zhì)的折射后將波長進(jìn)一步縮短,，如此光源的波長可以縮短至132nm至12nm，由此就可以生產(chǎn)45nm至28nm工藝,。

后來芯片制造工藝又引入了FinFET技術(shù),，從而同樣以193nm光源的DUV光刻機(jī)卻可以生產(chǎn)出14nm－10nm工藝的芯片，甚至臺積電第一代7nm工藝也是以DUV光刻機(jī)和FinFET技術(shù)開發(fā)出來的,。中芯國際已以ASML的DUV光刻機(jī)生產(chǎn)出14nm工藝,，這就意味著國內(nèi)的芯片制造企業(yè)已掌握了FinFET技術(shù)。

目前國產(chǎn)光刻機(jī)已做到40nm,，其中的關(guān)鍵就是如何以技術(shù)手段將193nm的光源通過水介質(zhì)折射后進(jìn)一步縮短,，而將193nm的光源通過水介質(zhì)折射后用于生產(chǎn)28nm、14nm的光源原理應(yīng)該類似,，近期就有業(yè)界人士傳出國產(chǎn)的光源技術(shù)已成功取得突破,，將光源縮短到13．5nm，如此一來研發(fā)出用于生產(chǎn)14nm工藝的國產(chǎn)光刻機(jī)也就在情理之中,。

生產(chǎn)一個先進(jìn)工藝制程其實(shí)不僅僅是光刻機(jī),，而是有諸多環(huán)節(jié)和設(shè)備,，業(yè)內(nèi)人士總結(jié)大約就是八大環(huán)節(jié),，此前國產(chǎn)芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈通過點(diǎn)突破的方式陸續(xù)解決了除光刻機(jī)之外的其他環(huán)節(jié)和設(shè)備，都已進(jìn)展到14nm及更先進(jìn)工藝,。

其中廣為人知的當(dāng)屬刻蝕機(jī),，而刻蝕機(jī)也是國產(chǎn)芯片制造設(shè)備中進(jìn)展最快的，目前國產(chǎn)的刻蝕機(jī)已突破到5nm工藝,，這也說明了國內(nèi)的技術(shù)研發(fā)實(shí)力是相當(dāng)強(qiáng)的,，完全有足夠的技術(shù)實(shí)力研發(fā)先進(jìn)的芯片制造設(shè)備。

只不過光刻機(jī)是其中最為復(fù)雜的一種設(shè)備，涉及到激光光源,、鏡頭,、機(jī)臺等，僅僅是光刻機(jī)其實(shí)就一條相當(dāng)復(fù)雜的產(chǎn)業(yè)鏈,，ASML的光刻機(jī)也是需要德國,、日本和美國的諸多廠商提供相關(guān)的配件才能生產(chǎn)出來，國產(chǎn)光刻機(jī)此前在機(jī)臺,、光源等方面都已突破了,，其中的技術(shù)關(guān)鍵應(yīng)該就在于如何將193nm的光源通過技術(shù)處理進(jìn)一步縮短，如今這一個難題得到解決,，同時解決28nm和14nm光刻機(jī)國產(chǎn)化也就在情理之中,。

ASML在今年一季度突然大舉對中國出貨DUV光刻機(jī)，其中的原因或許就是它了解到中國在光刻機(jī)技術(shù)上的突然進(jìn)展,，希望在中國量產(chǎn)14nmDUV光刻機(jī)之前再賺一筆,；美國突然出手要求ASML停止對中國出售14nm以下的光刻機(jī)，可能都與此有關(guān),，因?yàn)橹袊磳⒔鉀Q14nm工藝的光刻機(jī),，限制14nm以上的光刻機(jī)已沒有了意義。

中國人在技術(shù)研發(fā)方面的實(shí)力人所共知,，連美國的許多技術(shù)研發(fā)人才都是華裔,，也可以看出中國人在技術(shù)研發(fā)方面的天賦，美國的做法激發(fā)了中國技術(shù)人才的奮進(jìn)之心,，數(shù)年時間就在芯片制造方面取得飛躍式的進(jìn)步,，這顯然出乎美國的意料，事實(shí)已經(jīng)說明了限制無助于全球科技的發(fā)展,，全球科技的發(fā)展就需要互補(bǔ),，合作才能共贏。

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