隨著臺(tái)積電先進(jìn)工藝產(chǎn)能過(guò)剩定局,,ASML的三大客戶很可能不在采購(gòu)EUV光刻機(jī),,如此ASML將陷入困境,,能挽救它的只有中國(guó)市場(chǎng)了,,這個(gè)時(shí)候也是ASML下定決心的時(shí)候,,畢竟等待只會(huì)導(dǎo)致它未來(lái)更艱難,。
EUV光刻機(jī)本來(lái)已是ASML的最大收入來(lái)源,,但是由于眾所周知的原因,ASML卻無(wú)法給中國(guó)供應(yīng)EUV光刻機(jī),,如此EUV光刻機(jī)的客戶就只剩下臺(tái)積電,、Intel和三星了,然而如今先進(jìn)工藝產(chǎn)能過(guò)剩,,這三大客戶會(huì)否繼續(xù)采購(gòu)EUV光刻機(jī)就成為疑問(wèn),。
臺(tái)積電占有全球芯片代工市場(chǎng)超過(guò)五成的市場(chǎng)份額,但是近期分析機(jī)構(gòu)紛紛指出先進(jìn)工藝已面臨產(chǎn)能過(guò)剩的局面,,臺(tái)媒也指出臺(tái)積電很可能在今年底前關(guān)閉部分EUV光刻機(jī),,近日投資機(jī)構(gòu)瑞銀指出明年臺(tái)積電的7nm等先進(jìn)工藝產(chǎn)能利用率將只有七成左右,這意味著先進(jìn)工藝產(chǎn)能過(guò)剩將至少延續(xù)到明年,。
擁有最多先進(jìn)工藝產(chǎn)能的臺(tái)積電出現(xiàn)先進(jìn)工藝產(chǎn)能過(guò)剩,,那就意味著全球先進(jìn)工藝產(chǎn)能是真的嚴(yán)重過(guò)剩了,如此一來(lái)三星和Intel自然更不可能大規(guī)模采購(gòu)EUV光刻機(jī),,ASML將不得不面對(duì)EUV光刻機(jī)成為庫(kù)存的事實(shí),,而將獲取收入的目光轉(zhuǎn)向用于成熟工藝的DUV光刻機(jī)。
DUV光刻機(jī)的最大客戶早已是中國(guó)大陸,,2021年和今年一季度,,ASML將三分之一的光刻機(jī)賣給了中國(guó)大陸,中國(guó)大陸也由此超越中國(guó)臺(tái)灣和韓國(guó)成為全球最大的光刻機(jī)采購(gòu)市場(chǎng),,更為ASML貢獻(xiàn)了超過(guò)三分之一的收入,,然而二季度由于眾所周知的原因,,ASML不能將14nm以下的DUV光刻機(jī)出售給中國(guó)大陸,導(dǎo)致ASML從中國(guó)大陸獲取的收入占比降低至10%,,如今ASML即將陷入困境,,它需要對(duì)中國(guó)大陸市場(chǎng)做出抉擇了。
近三年來(lái)全球規(guī)劃的86個(gè)芯片生產(chǎn)項(xiàng)目,,中國(guó)就占了三分之一,可見中國(guó)對(duì)于芯片產(chǎn)能擴(kuò)張的決心,,如今隨著全球芯片產(chǎn)能擴(kuò)張陷入停滯,,中國(guó)大陸很可能將延續(xù)此前規(guī)劃的擴(kuò)張計(jì)劃。
對(duì)于中國(guó)大陸來(lái)說(shuō),,芯片制造仍然有廣闊的前景,,2021年中國(guó)的芯片自給率才達(dá)到三成多點(diǎn),這與中國(guó)規(guī)劃的到2025年實(shí)現(xiàn)七成芯片自給率仍然有很大的距離,,如此繼續(xù)擴(kuò)張芯片產(chǎn)能將成為中國(guó)的堅(jiān)定路線,。
如此在ASML可能陷入困境的時(shí)候,中國(guó)市場(chǎng)的重要性將更加凸顯,,畢竟雪中送炭可是比錦上添花更更重要,,甚至可以說(shuō)中國(guó)市場(chǎng)已成為ASML的救命稻草,能不能抓住這根救命稻草就看ASML如何抉擇了,。
事實(shí)上,,中國(guó)也并沒(méi)有完全寄望于ASML,隨著中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈在鏡頭,、機(jī)臺(tái),、激光光源等方面取得突破,中國(guó)已成為全球唯一一個(gè)擁有光刻機(jī)全產(chǎn)業(yè)鏈的經(jīng)濟(jì)體,,而ASML的光刻機(jī)卻需要從德國(guó),、日本和美國(guó)采購(gòu)相關(guān)的元件,如此情況下中國(guó)遲早能研發(fā)出先進(jìn)光刻機(jī),,一旦中國(guó)光刻機(jī)取得突破,,那時(shí)候ASML就可能連最后的機(jī)會(huì)都沒(méi)有了。
別看ASML今天如此輝煌,,就在17年前ASML還在為生存而掙扎,,當(dāng)時(shí)日本佳能、尼康才是光刻機(jī)行業(yè)的老大,,如今ASML如果錯(cuò)失機(jī)會(huì)再次陷入困境也是很有可能的,。ASML也表示第二代EUV光刻機(jī)很可能是光刻機(jī)時(shí)代的技術(shù)終點(diǎn),芯片制造工藝將會(huì)發(fā)生變革,,美國(guó)也已研發(fā)出可生產(chǎn)0.7nm的新工藝,,ASML的光刻機(jī)事業(yè)也快到終點(diǎn)了。
面對(duì)如此局面,ASML會(huì)如何抉擇呢,?拭目以待,。
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