當前先進芯片制造工藝獲得業(yè)界的廣泛關注,，在ASML的EUV光刻機支持下延續(xù)了摩爾定律,，然而到了如今硅基芯片已逐漸達到了物理極限,，全球眾多芯片企業(yè)紛紛開發(fā)新技術試圖繞開EUV光刻機的限制,。

對于現(xiàn)有的硅基芯片,，全球最大的芯片制造企業(yè)臺積電研發(fā)先進工藝已遇到了巨大阻力,，3nm工藝已延遲了一年，在今年三季度研發(fā)成功后卻被蘋果認為用它試產(chǎn)的A16處理器性能不達標,，成本卻太高,，最終蘋果舍棄了3nm工藝，導致臺積電的3nm工藝面臨無客戶采用而沒有量產(chǎn),。

在先進工藝研發(fā)難度,、成本高的情況下，臺積電如今也開始轉(zhuǎn)向以封裝技術提升現(xiàn)有工藝的性能以滿足芯片企業(yè)的要求,，臺積電已聯(lián)合了19家芯片企業(yè)成立“3D Fabric ”聯(lián)盟,，以先進的封裝技術提高5nm、7nm等現(xiàn)有工藝的性能,，甚至可以提升無需EUV光刻機的7nm,、16nm工藝芯片的性能。

臺積電是ASML的第一大客戶之一,，更是EUV光刻機的主要買家,，在臺積電給了ASML一記重錘之后，ASML一直順從的美國卻又給了它一記重錘,。美國芯片企業(yè)美光表示繞開EUV光刻機研發(fā)的10nm級別的1β工藝提升了存儲密度30％,，而功耗降低了20％，更重要的是成本大幅下降,，這主要是因為EUV光刻機比美光現(xiàn)在采用的EUV光刻機貴了2－3倍,。

其次是美國光刻機企業(yè)Zyvex公司研發(fā)電子束光刻機，繞開了ASML的EUV光刻機,，并且將先進工藝提升到0．768納米,，打破了ASML尚未量產(chǎn)的第二代EUV光刻機的極限,，為芯片制造開辟了新的道路，如此一來美國芯片企業(yè)未來很可能不再采購ASML的EUV光刻機,。

臺積電和美國芯片企業(yè)都在舍棄ASML的EUV光刻機,，ASML終于開始重新將目光放在中國市場，近期表示將大舉擴張光刻機的產(chǎn)能,，EUV光刻機產(chǎn)能將提升到90臺,，DUV光刻機產(chǎn)能增加至600臺，然而它遲遲未能對中國自由出貨,，而中國芯片已經(jīng)等不及了,。

中國芯片制造企業(yè)以現(xiàn)有的DUV光刻機將芯片制造工藝推進至7nm，國內(nèi)的芯片封裝企業(yè)通富微電等又研發(fā)了5nm芯粒封裝技術,，如此國產(chǎn)芯片可望提供接近5nm工藝性能的芯片,，對ASML的EUV光刻機需求迫切性下降,。

在現(xiàn)有芯片技術之外,，中國還在加緊開發(fā)量子芯片、光子芯片,、石墨烯芯片等技術,，不少國內(nèi)芯片企業(yè)都公布了它們的相關專利，顯示出中國在先進芯片技術方面的突破,，其中光子芯片更是中國最快實現(xiàn)商用的技術,。

早前中國一家企業(yè)就被媒體報道已籌建全球第一條光子芯片生產(chǎn)線，預計最快在明年量產(chǎn),，一旦光子芯片實現(xiàn)商用,，那將徹底革新當下的芯片技術，光子芯片的性能比硅基芯片高1000倍,，功耗則只有硅基芯片的千分之一,，具有廣闊的應用前景。

這一切無不顯示出全球芯片行業(yè)都在繞開成本昂貴的EUV光刻機,，降成本已成為芯片行業(yè)的共識,，可以說以獨有的先進EUV光刻機稱霸全球芯片制造行業(yè)的ASML已到了落幕的時候，尤其是ASML一直順從的美國繞開EUV光刻機更是給它重擊,，ASML的艱難日子或許正在到來,。

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