“光刻機”被稱之為傳統(tǒng)芯片制造的工業(yè)母機，因為它必不可少,，同時光刻機的好壞,，精度，決定了芯片的精度,、良率等等,。

不過大家也清楚，光刻機目前全球只有4家廠商能夠生產(chǎn),，分別是ASML,、尼康、佳能,、上海微電子,，ASML是荷蘭企業(yè)，尼康,、佳能是日本企業(yè),，而上海微電子是中國企業(yè)。

據(jù)統(tǒng)計4大廠商的光刻機精度,。其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻機,，只有ASML能夠生產(chǎn)。

而尼康能搞定高端的7－28nm的AiF＋浸潤式光刻機,，但佳能,、上海微電子卻還停留在90nm，只能生產(chǎn)低端的光刻機,。

不過也有人稱,，光刻機所指的精度，并不是指能制造芯片的精度,，光刻機可以通過多次曝光,，提升分辨率的，那么問題就來了,，上海微電子的90nm光刻機,，最多能生產(chǎn)多少納米的芯片？

據(jù)資料顯示,，目前上海微電子的90nm的光刻機,，主要用于電源管理芯片,、LCD驅(qū)動芯片、WiFI芯片,、射頻芯片,、各類數(shù)模混合電路等,。

而在精度方面,，90nm肯定沒問題的，同時經(jīng)過兩次曝光,，可以得到45nm的芯片,，三次曝光最高可以達到22nm左右的水平。

那么能不能四次曝光,，五次曝光,，將精度提升上去？事實上,，在實際使用中,，2次曝光就已經(jīng)很厲害了，像ASML等的光刻機 ,，大多也只是進行2次曝光,。

因為實踐表示，3次曝光會導(dǎo)致良率大幅度下降,，4,、5次良率可能會低到?jīng)]法想象，晶圓廠們的成本高到?jīng)]法承受,，不如買一臺更高級光刻機,，成本還低一些。

所以,，目前國內(nèi)在努力的研發(fā)28nm的光刻機,，這樣經(jīng)過兩次曝光后，可以搞定14nm,，至于7nm工藝,，那最好還是期待EUV光刻機，用28nm的來曝光三次,，良率沒法看,。

不過，在整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈,，流傳說一句話,，那就是“靠山山倒，靠人人跑，只有自己最可靠”,。

所以像光刻機這種東西,，只有掌握在我們自己手中，才能避免受制于人,，雖然EUV光刻機非常難,，但也不得不去攻克。

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