“光刻機(jī)”被稱之為傳統(tǒng)芯片制造的工業(yè)母機(jī),，因?yàn)樗夭豢缮伲瑫r(shí)光刻機(jī)的好壞,，精度,，決定了芯片的精度、良率等等,。

不過大家也清楚,，光刻機(jī)目前全球只有4家廠商能夠生產(chǎn)，分別是ASML,、尼康,、佳能,、上海微電子，ASML是荷蘭企業(yè),，尼康,、佳能是日本企業(yè)，而上海微電子是中國(guó)企業(yè),。

據(jù)統(tǒng)計(jì)4大廠商的光刻機(jī)精度,。其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻機(jī)，只有ASML能夠生產(chǎn),。

而尼康能搞定高端的7－28nm的AiF＋浸潤(rùn)式光刻機(jī),，但佳能、上海微電子卻還停留在90nm,，只能生產(chǎn)低端的光刻機(jī),。

不過也有人稱，光刻機(jī)所指的精度,，并不是指能制造芯片的精度,，光刻機(jī)可以通過多次曝光，提升分辨率的,，那么問題就來了,，上海微電子的90nm光刻機(jī)，最多能生產(chǎn)多少納米的芯片,？

據(jù)資料顯示,，目前上海微電子的90nm的光刻機(jī)，主要用于電源管理芯片,、LCD驅(qū)動(dòng)芯片,、WiFI芯片、射頻芯片,、各類數(shù)?；旌想娐返取?/p>

而在精度方面,，90nm肯定沒問題的,，同時(shí)經(jīng)過兩次曝光，可以得到45nm的芯片,，三次曝光最高可以達(dá)到22nm左右的水平,。

那么能不能四次曝光，五次曝光,，將精度提升上去,？事實(shí)上，在實(shí)際使用中,，2次曝光就已經(jīng)很厲害了,，像ASML等的光刻機(jī) ，大多也只是進(jìn)行2次曝光,。

因?yàn)閷?shí)踐表示,，3次曝光會(huì)導(dǎo)致良率大幅度下降，4,、5次良率可能會(huì)低到?jīng)]法想象,，晶圓廠們的成本高到?jīng)]法承受，不如買一臺(tái)更高級(jí)光刻機(jī),，成本還低一些,。

所以，目前國(guó)內(nèi)在努力的研發(fā)28nm的光刻機(jī),，這樣經(jīng)過兩次曝光后,，可以搞定14nm，至于7nm工藝,，那最好還是期待EUV光刻機(jī),，用28nm的來曝光三次，良率沒法看,。

不過,，在整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈，流傳說一句話,，那就是“靠山山倒,，靠人人跑，只有自己最可靠”,。

所以像光刻機(jī)這種東西,，只有掌握在我們自己手中，才能避免受制于人,，雖然EUV光刻機(jī)非常難,，但也不得不去攻克。

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