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英特爾造芯,,雷聲大,雨點(diǎn)小,,就像是“紙老虎”

2022-12-10
來源:互聯(lián)網(wǎng)亂侃秀
關(guān)鍵詞: 英特爾 臺(tái)積電 三星

目前,,全球進(jìn)及10nm及以下的芯片廠商就三家,分別是臺(tái)積電,、三星,、intel。

其中臺(tái)積電,、三星以晶圓代工為主,,而intel是IDM廠商,之前主要為自己造芯,。不過去年intel換了CEO后,,提出了一個(gè)IDM2.0計(jì)劃,那就是也對(duì)外代工,,與三星,、intel爭市場。

不過從現(xiàn)在的情況來看,,intel的這個(gè)IDM2.0計(jì)劃,,那是雷聲大,雨點(diǎn)小,,看起來就像是“紙老虎”,。

intel的雷聲有多大?英特爾目前僅能生產(chǎn)7nm芯片,并且這個(gè)產(chǎn)能還很小,,但表示要3年搞出4代工藝革新,。

intel到2023年要實(shí)現(xiàn)intel3工藝,相當(dāng)于臺(tái)積電的3nm,,到2024年要實(shí)現(xiàn)intel20A工藝,,相當(dāng)于臺(tái)積電、三星的2nm,,這是直接就超過臺(tái)積電,、三星了。

而到2024年,,intel還要搞定intel18A工藝,,也就是18埃米,1.8nm,,比三星,、臺(tái)積電還要領(lǐng)先了。

除了工藝制程外,,從Intel 3nm開始,,intel還要采用全新的RibbonFET晶體管取代當(dāng)前的FiFET,,引入革命性的PowerVias背面供電技術(shù),。

而這個(gè)所謂的RibbonFET其實(shí)是對(duì)GAAFET(環(huán)繞柵極)晶體管的改進(jìn),后者已被三星3nm首發(fā),,intel意思是,,我在3nm時(shí),技術(shù)比三星的這個(gè)還要更牛,。

口號(hào)是這樣喊出去了,,但是,目前intel的代工業(yè)務(wù),,表現(xiàn)卻不那么給力,,進(jìn)展也不那么順利,intel4都不知道什么時(shí)候能夠?qū)崿F(xiàn),。

至于明年搞定intel3工藝,,業(yè)內(nèi)基本上沒什么人看好,要知道英特爾當(dāng)年的14nm工藝都打磨了5年,,才進(jìn)入10nm,,而7nm一再跳票,也折騰了兩年,。

現(xiàn)在說3年要搞出4代工藝革新,,率先進(jìn)入2nm、1.8nm,很多人認(rèn)為不可能,,甚至有人認(rèn)為在代工領(lǐng)域,,intel就是個(gè)“紙老虎”,不可能與臺(tái)積電,、三星等去PK,。

不過也有人說了,intel之前工藝進(jìn)展慢,,是因?yàn)閕ntel工藝不造假,,一切按照摩爾定律來,晶體管密度,,遠(yuǎn)比臺(tái)積電,、三星更高。如果intel也學(xué)臺(tái)積電,、三星一樣,,開始工藝摻水,那還是很容易搞定的,,不就是虛標(biāo)數(shù)字嘛,。

那么問題來了,intel在2024年能實(shí)現(xiàn)20A,、18A工藝么,?估計(jì)臺(tái)積電、三星也都在等這個(gè)答案,。



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