12月15日消息,，據(jù)報導(dǎo),，韓國本土的半導(dǎo)體和顯示材料開發(fā)商——石墨烯實驗室 (Graphene Lab) 開發(fā)出了基于石墨烯制造的EUV光罩保護膜 (Pellicle) ,，有望顯著提高ASML的極紫外光 (EUV) 系統(tǒng)生產(chǎn)芯片的良率。
據(jù)了解,，光罩保護膜是一種薄膜,，可保護光罩表面免受空氣中微分子或污染物的影響，這對于 5nm或以下節(jié)點制程的先進制程技術(shù)的良率表現(xiàn)至關(guān)重要,。
另外,，光罩保護膜也是一種需要定期更換的消耗品，而由于EUV光刻設(shè)備的光源波長較短,，因此護膜需要較薄厚度來增加透光率,。
之前，硅已被用于制造光罩護膜,，但石墨烯會是一種更好的材料,，因為石墨烯制造的光罩保護膜比硅更薄、更透明,。
報導(dǎo)還強調(diào),，EUV光罩護膜必須能夠承受曝光過程中發(fā)生的 800 度或更高的高溫，而基于石墨烯材料的光罩保護膜在高溫下的硬化特性要好,，相比之下硅制產(chǎn)品非常容易破裂,。
更多信息可以來這里獲取==>>電子技術(shù)應(yīng)用-AET<<
本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外，轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,，并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點,。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片,、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有,。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容,、版權(quán)和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們,，以便迅速采取適當措施,，避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟損失。聯(lián)系電話：010-82306118,；郵箱：[email protected],。